【課題】電気泳動処理終了後の支持体に、適量の試薬（薬液）を均一に高速で塗布することができる薬液塗布装置を提供すること
【解決方法】支持体７０の表面に薬液を塗布するための薬液塗布ヘッド１１に、薬液滞留部１２と、幅方向に延びる微細間隔のスリット１３と、スリット１３の先端部分に設けられる液だまり部１４を設けて、薬液滞留部１２に一枚の支持体７０の塗布に必要十分な薬液を供給した薬液塗布ヘッド１１を、所定の速度で支持体７０の上を通過させる。これにより、薬液滞留部１２に薬液を一時的に滞留させて、幅方向に延びる微細間隔のスリット１３から薬液を少量ずつ下方に移動させて、液だまり部１４にたまった薬液を支持体７０上に塗布する。 （もっと読む）

【課題】酸素障害を阻止し、紫外線硬化型塗膜表面を効率的に硬化させる不活性ガス雰囲気ＵＶ照射装置を提供する。
【解決手段】筒状筐体２０１が逆梯形に形成され、底部内側の不活性ガス滞留部２０８に空気より重い不活性ガスを滞留させ、筒状筐体２０１の不活性ガス滞留部２０８の側面がＵＶ透過ガラスで構成され、不活性ガス滞留部２０８に複数のＵＶ照射装置を設け、エンドレスの搬送用レール２０４に装着されたハンガー２０７にワーク２０６を載置し不活性ガス滞留部２０８を通過するように構成し、複数のＵＶランプ２０５の照射方向を任意の方向に可動可能に構成し、複数のＵＶランプ２０５の照射線を反射する複数の反射板を不活性ガス滞留部２０８の内側に設け、且つ、筒状筐体２０１の不活性ガス滞留部２０８の天井部に冷媒が循環可能な冷却管２１５を複数配置し、筐体２０１内の不活性ガスの対流を抑え、一定温度を維持できるように構成した。 （もっと読む）

【課題】 高精度な駆動回路又は薄膜トランジスタを可撓性の基板に形成する表示素子用の製造装置を提供する。
【解決手段】 表示素子の製造装置は、可撓性の長尺基材（ＦＢ）の上に表示素子を形成する製造装置（１００）である。そしてこの製造装置は、長尺基材を所定方向に搬送する搬送ローラ（ＲＲ）と、長尺基材が搬送ローラの外周面に倣う領域を増やす領域増加手段（ＳＲ１、ＳＲ２）と、長尺基材が搬送ローラの外周面に倣う領域で長尺基材に対して表示素子を構成する材料の液滴を塗布する液摘塗布装置（２０）と、を備える。 （もっと読む）

【課題】回転台を手動で回転させても、正確な接着剤の塗布、硬化作業が行なえる接着剤塗布硬化装置を提供する。
【解決手段】被作業物を保持する複数の保持具を等角度ごとに備えた回転台に被作業物を順次供給、回収して、回転台が一回転する間に作業機により接着剤の塗布、硬化を行なう装置であって、回転台を手動で回転して、等角度ごとに設定された回転停止位置で、回転台停止手段により回転台の回転を停止し、回転台が回転停止位置まで回転すると、回転台固定手段により回転台を固定し、保持具に保持された被作業物に接着剤塗布手段により接着剤を塗布するとともにともに、接着剤硬化手段により塗布された接着剤を硬化する。そして、接着剤の塗布作業が完了してから所定時間が経過した後、回転台固定手段による固定を解除する。 （もっと読む）

【課題】流体噴射装置において、噴射後にプラテンから噴射対象物を確実に剥離可能とすると共に、プラテン上の流体の配置領域にて噴射対象物をプラテンの表面に確実に吸着する。
【解決手段】噴射対象物を上面にて直接支持すると共に誘電体からなる支持部３０、及び、噴射対象物との接触領域Ｂよりも噴射対象物の搬送方向において狭い幅Ｂ１を有する導体からなると共に支持部３０の下面側の流体の配置領域Ａに対応する箇所に配置される導電部４０を有する静電吸着手段１１と、導体から形成される噴射ヘッド４とを備え、導電部４０と噴射ヘッド４とに異なる電圧を印加する。 （もっと読む）

【課題】載置台の撓みに起因する塗布精度の低下を抑えることができるペースト塗布装置を提供する。
【解決手段】ペースト塗布装置において、塗布対象物Ｋが載置される載置台２と、載置台２上の塗布対象物Ｋにペーストを塗布する塗布ヘッドと、載置台２を支持して平面内で回転させる回転機構８と、回転機構８による載置台２の回転を可能に載置台２の周縁部を支持する複数の撓み防止部材９とを備える。 （もっと読む）

【課題】基板を吸着する吸引力を急速に発生させることにより吸着時間を短縮し、塗布装置全体としてのタクトタイムを向上させることができる塗布装置を提供する。
【解決手段】ステージの表面に形成された吸引孔に吸引力を発生させて基板をステージの表面に吸着させて保持させる基板保持手段と、基板に対して相対的に移動しつつ塗布液を吐出する塗布ユニットと、を備える塗布装置において、基板保持手段の吸引孔には、吸引力を発生させる吸引力発生装置と接続されるメイン配管及びサブ配管が連通して接続されており、メイン配管には、メイン配管経路を開閉するメインバルブが設けられ、サブ配管には、サブ配管経路を開閉するサブバルブが設けられるとともに、このサブバルブよりも吸引力発生装置側に所定容量を有する貯留部を備える貯留タンクが設けられ、貯留部は、一定区間におけるサブ配管の容量と比べて大きい容量を有して構成とする。 （もっと読む）

【課題】ワーク浸漬時のワークおよびワーク処理槽の環境を一定にし、ムラ無く適切に表面処理を行うことができる浸漬処理装置のワーク浸漬装置および浸漬処理装置を提供する。
【解決手段】ワークＷに表面処理を行うワーク処理槽５の処理溶液に、ワークＷを浸漬するための浸漬処理装置１の浸漬移動機構１７であって、ワークＷを吊り下げる吊下げ機構５１と、吊下げ機構５１を昇降自在に支持すると共に、吊下げ機構５１を介してワークＷをワーク処理槽５に浸漬する昇降機構５２と、を備え、吊下げ機構５１を支持する昇降機構５２の出力端であるリードねじ７９が、吊下げ機構５１およびこれに吊り下げられたワークＷの重心位置に配設されている。 （もっと読む）

【課題】基板処理に要する時間を短縮させる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板処理装置は、主としてステージ３と、リフトピンＬＰと、架橋構造４と、スリットノズル４１と、ノズル昇降機構とを備える。基板処理装置では、搬送ロボット６と基板９０の受け渡しを行う位置（搬送高さ位置Ｌ２）よりも上の、離間高さ位置Ｌ５までスリットノズル４１を上昇させることができる。また、基板処理装置は、塗布処理後に退避位置へ向けて移動するスリットノズル４１が基板９０の上方にある間に、基板９０を搬送高さ位置Ｌ２に配置するよう、リフトピン昇降機構およびノズル昇降機構の動作を制御する。 （もっと読む）

【課題】少ない本数のＵＶランプを有効に活用して、ワーク表面のＵＶ塗料を効果的にムラなく乾燥、硬化することができるＵＶ乾燥装置及びＵＶ乾燥方法を提供する。
【解決手段】本発明のＵＶ乾燥装置１は、入口と出口にシャッター板５７、５９を備え、シャッター板５７、５９を閉塞することで外部と遮蔽されるＵＶ乾燥室３１と、ＵＶ乾燥室３１内に搬入されたワークＷに対して上方から紫外線を照射する上部ＵＶランプ３３と、ＵＶ乾燥室３１内に搬入されたワークＷに対して側方から紫外線を照射する側部ＵＶランプ３５と、ワークＷを保持した状態でＵＶ乾燥室３１に搬入及び搬出される治具ワゴン１７と、治具ワゴン１７の一部に係合することによって治具ワゴン１７と治具ワゴン１７によって保持されたワークＷを所定の回転数、回転させる回転駆動装置３９と、を具備することによって構成されている。 （もっと読む）