【課題】メンテナンスが容易な基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置１００は、インデクサブロック１１、塗布ブロック１２、現像ブロック１３およびインターフェイスブロック１４を備える。塗布ブロック１２は、塗布処理部１２１、搬送部１２２および熱処理部１２３を備える。現像ブロック１３は、現像処理部１３１、搬送部１３２および熱処理部１３３を備える。熱処理部１２３，１３３は、搬送部１２２，１３２から離間する方向に移動可能に設けられる。熱処理部１２３，１３３を移動させることにより、熱処理部１２３と搬送部１２２との間に作業スペース２００が形成され、熱処理部１３３と搬送部１３２との間に作業スペース３００が形成される。 （もっと読む）

【課題】液滴吐出ヘッドの走査方向に交差する方向に線画像を描画する場合であっても、画質劣化の抑制される液滴吐出装置を提供する。
【解決手段】液滴吐出装置によれば、記録媒体上に異なる方向に延伸された複数種類の線画像が形成対象の線画像である場合であっても、各線画像の延伸方向と主走査方向Ｘとが同一となるように調整した後に、液滴吐出ヘッド１４の主走査方向Ｘへの移動によって該線画像を形成する。このため、形成対象の各線画像の全てについて、液滴吐出ヘッド１４の主走査方向Ｘの移動に伴う液滴の吐出により線画像形成が行われることとなる。 （もっと読む）

【課題】塗布処理のタクトタイムを短縮させるとともに、基板製造の歩留まりを向上させる技術を提供する。
【解決手段】塗布装置１０は、搬入部２０、塗布部３０および搬出部４０で構成される。搬入部２０に搬入された基板９０は、浮上ステージ２１および塗布ステージ３１上面に設けられた噴射孔からのエア噴射により浮上力が付与されるとともに、シャトルチャック２２により塗布部３０へ搬送される。塗布部３０へ搬入されると、基板９０は、塗布ステージ３１に支持され、スリットノズル３２の吐出走査によりレジスト液が塗布される。塗布処理が完了すると、基板９０は、塗布ステージ３１および浮上ステージ４１上面に設けられた噴射孔からのエア噴射により浮上力が付与されるとともに、シャトルチャック４２により搬出部４０へ搬送される。 （もっと読む）

本発明は、噴霧された流体で中空体（４９）の内面（５１）にコーティングするための次のようなコーティング装置（１）に関する。すなわちこのコーティング装置（１）は、噴霧流路（１１）を包む少なくとも１本の噴霧管（５）を有し、そして霧化されていない流体を噴霧するため、正圧がかかっているプロペラントガスをこの噴霧管に導くことができ、そしてこの噴霧管が少なくとも１つの流出口（９）を有する。またこのコーティング装置は、吐出口（１５）を有する少なくとも１本の中空針（１３）を霧化されていない流体のために備え、この中空針が噴霧流路（１１）と協働し、そして噴霧流路とほぼ同軸に配置されている。この場合、噴霧管（５）と中空針（１３）とによってベンチュリ配置（１９）を形成することを意図する。 （もっと読む）

中央軸に沿って配置されており、および、円板（７）の周縁部全体にわたって均等に分布しておりかつ外向きに斜めに傾斜しておりかつ被加工物のために備えられているホルダ（８）を有する複数の円板（７）が、各々の場合に、円板（７）を取り囲むリング（５）の上に支持されている。連続するリング（５）は、円板（７）の望ましくない塗装を防止する概ね円筒形の金属被覆板を形成する。この金属被覆板は、円板（７）のホルダ（８）のための開口部のグループを有し、これらの開口部は同一の高さにおいて周縁部全体にわたって均等に分布しており、かつ、これらの開口部の各々は、円板（７）を保持するリング（５）内の上部凹み（１４）と、後続のリングの隣接する下部凹み（１５）とによって形成されている。連続するリング（５）の間の境界線（１７）が、各々の場合に、互いに隣接する開口部を隔てるウェブの最も狭い箇所の幾分か下方で始まり、したがって、下部凹み（１５）は、各々の場合に、リング（５）の端縁に向かって狭まることがなく、および、上部凹み（１４）は、被加工物搬送台が困難なしに底部から頂部にアセンブリされることが可能であるように多くともわずかに狭まる。
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【課題】塗布ムラを最小限に抑えながら塗布時間を短縮する塗布膜形成装置を提供する。
【課題を解決するための手段】基板Ｓを載置して回転する円盤状のステージ１０の上部に塗布液を吐出するための供給ノズル１２と、供給ノズルを移動させるためのアーム（第１のアーム１３及び第２のアーム１４）を有している。供給ノズル１２は複数でかつ所定の間隔で一列に配置され、固定部材２０に固定されているとともに、加圧気体の圧力によって塗布液を前記基板上に吐出する。第１及び第２のアーム１３，１４は、ステージ１０上に直角をなすように配置されたレール状の摺動部材であり、１本の第２のアーム１４が２本の第１のアーム１３上を平行に摺動可能であるとともに、固定部材２０が第２のアーム１４上を摺動可能であるように構成されている。 （もっと読む）

【課題】塗布膜の不均一を解消し、円筒塗布体の塗布表面が平滑な塗布面を有し、膜厚が均一な円筒塗布体を得ることができる塗布装置を提供することを目的とする。
【解決手段】円筒基体１の表面に塗布膜を形成する塗布装置に関するもので、円筒基体１を水平保持する円筒支持部９と、円筒基体１を回転させる回転モータ５と、円筒状基体１の表面に塗布液を塗布する吐出ノズル２と、吐出ノズル２を移動させるＸ軸モータ７、Ｙ軸モータ８、Ｚ軸モータ５と、円筒基体１の表面との距離を測定する位置センサと、測定した距離に基づき、吐出ノズル２と円筒基体１の表面との距離を制御する距離制御手段とを備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】吐出重量を正確に測定するための吐出重量測定工程を実施すると共に、吐出重量測定工程を実施することによる、描画対象物に向けて液状体を吐出する描画吐出工程が休止する時間の増加を抑制して、液滴吐出による描画のために要する時間が増大することを抑制する液滴吐出方法、及び液滴吐出装置を提供する。
【解決手段】液滴吐出方法は、液滴吐出ヘッドから液状体を吐出すると共に、液状体を着弾させる対象である基材と液滴吐出ヘッドとを相対移動させることによって、基材上に液状体を配置する描画吐出工程と、液滴吐出ヘッドを備える液滴吐出装置に対して基材の給除材を実施するための給除材工程と、液滴吐出ヘッドから吐出された液状体の重量測定を実施するための重量測定吐出を実施する重量測定吐出工程と、を有し、給除材工程が実施されている間に、並行して重量測定吐出工程を実施する。 （もっと読む）

【課題】吐出重量を正確に測定するための吐出重量測定工程を実施すると共に、吐出重量測定工程を実施することによる、描画対象物に向けて液状体を吐出する描画吐出工程が休止する時間の増加を抑制して、液滴吐出による描画のために要する時間が増大することを抑制する液滴吐出方法、及び液滴吐出装置を提供する。
【解決手段】液滴吐出方法は、液滴吐出ヘッドから液状体を吐出すると共に、液状体を着弾させる対象である基材と液滴吐出ヘッドとを相対移動させることによって、基材上に液状体を配置する描画吐出工程と、液滴吐出ヘッドを備える液滴吐出装置に対して基材の給除材を実施するための給除材工程と、液滴吐出ヘッドから吐出された液状体の重量測定を実施するための重量測定吐出を実施する重量測定吐出工程と、を有し、給除材工程が実施されている間に、並行して重量測定吐出工程を実施する。 （もっと読む）

【課題】超音波振動を与えることにより被塗工材に対する塗工液の塗布が均一に行える塗布方法及び装置を得る。
【解決手段】モータで回転させる塗布ロール１の回転軸３の一端に塗布ロール１に超音波振動を与える超音波振動子１５を接続し、塗布ロール１の回転軸３の他端に超音波振動を遮断または減衰させるカップリングを介してモータの出力軸を接続し、塗布ロール１に超音波振動を与えて塗布ロール１を超音波振動させることにより、塗布ロール１と該塗布ロール１に接する塗工液９との界面に微細振動を与えつつ塗工液９を被塗工材２の面に塗布する。 （もっと読む）