【課題】塗装後の乾燥を誘導加熱により行う塗装システムにおいて、誘導加熱による加熱乾燥の処理を中断することなく連続加熱を可能にすること。
【解決手段】コンベア３によりワークを搬送する搬送ライン２と、搬送ライン２の途上に配設された塗装ブース７と、塗装ブース７内に配設された塗料噴射手段１０と、塗装ブース７の前方側に配置した加熱室１２と、塗装済みワークを塗装可能範囲から外へ搬送して未塗装のワークを塗装可能範囲内へ搬送する第１モーター１５と、加熱済みワークを加熱室１２から外へ搬送して未加熱のワークを加熱室１２へ搬送する第２モーターと、第１モーター１５の前方側に配置した加熱待ちエリア１７と、第２モーター１６の前方側に配置した搬送待ちエリア２０を具備し、ワークの塗装中は塗装ブース内ではコンベアを駆動せず、塗装済ワークの加熱中は加熱室１２内ではコンベアを駆動しないことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】長尺のワークの記録領域を、精度良く除給材することのできる記録装置等を提供する。
【解決手段】１の送り方向に送られてきた長尺のワークＷの記録領域を、吸着保持するワークステージ５と、記録領域に記録を行うインクジェットヘッド５１と、ワークステージ５の送り方向下流側に配設され、ワークＷの一部を不動に保持および保持解除可能に構成されたワーク保持手段６０と、ワークステージ５とワーク保持手段６０とを、ワークＷの延在方向に相対的に離間移動させるＸ軸テーブル７等と、各構成を制御する制御装置と、を備え、制御装置は、記録領域に記録を行う記録動作と、ワークＷの一部を不動に保持する保持動作と、ワークステージ５とワーク保持手段６０とを、延在方向に相対的に移動させて、ワークステージ５から記録済みの記録領域を除材するとともに、未記録の記録領域を給材する除給材動作と、を実施する。 （もっと読む）

【課題】被描画媒体の温度が変化することによって、被描画媒体が伸縮することに起因して、着弾位置精度が損なわれることを抑制することができる描画装置、及び描画方法を提供する。
【解決手段】描画装置は、被描画媒体を保持する保持手段と、液状体を吐出する吐出手段を備え、吐出手段から吐出された液状体を保持手段に保持された被描画媒体に着弾させることによって、液状体を被描画媒体に配置して、液状体からなる画像を描画する描画手段と、被描画媒体に配置された状態の液状体の硬化を促進させる硬化促進手段と、保持手段の温度を調整する温度調整手段と、温度測定手段と、温度測定手段の測定結果に基づいて、温度調整手段を制御する温度制御手段と、を備える。 （もっと読む）

【課題】塗布システムの配線量を低減する。
【解決手段】ロールトゥロール方式の塗布システム１０は、メイン制御ユニット１２とコータ１４とを備える。コータ１４は、連続的に搬送される基材Ｆに塗布剤を塗布するための塗布ライン１８と、塗布ライン１８に沿って基材Ｆの搬送状態を計測するために設けられているセンサ４６、５０と、センサ４６、５０からの計測信号を集約してメイン制御ユニット１２へ中継するためのリモートＩ／Ｏ５６と、を備える。メイン制御ユニット１２は、コータ１４とは別体に設けられ離れて設置されており、リモートＩ／Ｏ５６は通信線３４によりメイン制御ユニット１２に接続されており、計測された基材Ｆの搬送状態を表す情報がリモートＩ／Ｏ５６から通信線３４を通じてメイン制御ユニット１２に伝送される。 （もっと読む）

【課題】電極の塗工開始終了端の湾曲を抑制するに好適に塗工装置及び電極箔の製造方法を提供する。
【解決手段】シート状基材２０が巻掛けされたバックアップローラ８と、該バックアップローラ８上を搬送されるシート状基材２０に電極スラリー２１を塗り付けるダイコーター１０とを少なくとも備えた塗工装置２に関する。そして、前記バックアップローラ８のうち、巻掛けられたシート状基材２０の幅方向の両端部を支持する外側領域の外径を、当該外側領域間に挟まれる中央領域の外径より、大きい凹形状８Ａとした。 （もっと読む）

【課題】設備費をより低減すると共に、各別の塗工工程において、最適条件により塗工を行うことができる電極製造方法、及び電極製造装置を提供すること。
【解決手段】帯状の電極箔２に塗工材４１を塗工する塗工材塗工工程と、塗工材塗工工程で塗工を受けた電極箔２をその長手方向に搬送しつつ塗工層３を乾燥させる乾燥工程とを有する電極製造方法において、電極箔２の進行方向を反転させると共に、電極箔２の表裏を反転させる反転工程を有し、塗工材塗工工程では、電極箔２の一面Ａに塗工材４１を塗工する第１塗工材塗工部４５と、電極箔２の他面Ｂに塗工材４１を塗工する第２塗工材塗工部４６とを備える１つの塗工材グラビアロール４３により、電極箔２における一面Ａの塗工と他面Ｂの塗工とを同時に行う。 （もっと読む）

【課題】浮上する基板を確実に保持することができ、しかも、保持した基板を、簡単な構成により全体として平坦とする。
【解決手段】基板Ｗを搬送する搬送装置４０は、基板Ｗを浮上させる浮上ステージ１と、浮上させた基板Ｗの側部下面９を吸着する吸着機構３と、吸着機構３を移動させることにより当該吸着機構３が吸着した基板Ｗを所定高さｈに浮上させた状態で搬送する搬送駆動手段とを備えている。吸着機構３は、基板Ｗの側部下面９を接触させることで当該基板Ｗの側部を前記所定高さｈに位置決めする接触面１１を有しているストッパ１０と、基板Ｗの側部下面９を吸着可能であり、吸着前は接触面１１よりも上に所定寸法Ｓについて突出し吸着すると当該所定寸法Ｓについて下に収縮する吸着パッド２０とを有している。 （もっと読む）

【課題】基板の搬送高さを高精度に制御し得る技術を提供する。
【解決手段】塗布ステージ４は、空気を噴出する噴出孔４０ａと、空気を吸引する吸引孔４０ｂとが設けられている。噴出孔４０ａのそれぞれには、空気を供給する供給ラインＬ１が接続されており、吸引孔４０ｂのそれぞれには、空気を吸引する吸引ラインＬ２が接続されている。供給ラインＬ１の供給流量は、流量計１４ａが検出する流量値に基づいて、ニードル弁１３の開度が調整されることによって制御される。また、吸引ラインＬ２の吸引流量は、流量計１４ｂが検出する流量値に基づいて、ニードル弁１９ａの開度が調整されることによって制御される。なお、この供給流量および吸引流量の制御は、基板Ｗが塗布ステージ４上に搬送されてくるよりも前に実行される。 （もっと読む）

【課題】吐出精度を損なうことなく、インクミストに起因する不都合を防止した、液滴吐出装置を提供する。
【解決手段】基板Ｐを載置するステージ２と、ノズルを有し、ノズルから機能液の液滴を吐出する吐出ヘッド５と、ステージ２を吐出ヘッド５に対して所定方向に相対的に往復移動させる移動機構と、を備えた液滴吐出装置である。ステージ２には、所定方向における一方側と他方側とに、それぞれステージ２の外側に向かうように気体を吹き出す気体吹き出し機構１３が設けられている。 （もっと読む）

【課題】小型でコンパクト、かつ処理液による効果を維持したストリップの洗浄又は塗布装置及び方法を提供する。
【解決手段】処理液をストリップに吹き付けて洗浄又は塗布を行うストリップの洗浄又は塗布装置１０であって、多数の気体噴出孔２ｆを有し、下側に向く断面が曲面をなす搬送面２ａを備え、該気体噴出孔から噴出する気体によって搬送面と非接触状態でストリップを上下に方向転換するストリップ方向転換装置２と、搬送面に上から下に向かって導入されるストリップの両面に処理液を吹き付ける第１処理液吹付け部４と、搬送面から上に向かって退出するストリップの両面に処理液を吹き付ける第２処理液吹付け部６と、搬送面、第１処理液吹付け部、及び第２処理液吹付け部を収容する液槽８と、を備えている。 （もっと読む）