【課題】基板を傾斜した状態で保持しながら、常温より高い温度の薬液を用いて、傾斜した基板の薬液処理を均一に行う。
【解決手段】ヒータ１１は、基板１がヒータ１１の下方を通過する際に、基板１の表面を薬液ノズル２１が供給する薬液の温度に近い温度に温める。薬液ノズル２１は、常温より高い温度の薬液を基板１の表面へ供給する。基板１の表面へ供給した薬液によって、基板１の表面の薬液処理が行われる。基板１の薬液処理を行う前に、基板１を薬液処理に用いる薬液の温度に近い温度に温めることにより、薬液を供給した基板１の表面の上側と下側との温度の上昇の違いが小さくなり、基板１の表面の温度が迅速にほぼ均一となる。 （もっと読む）

【課題】基板の製造コストを十分に低減できる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】 流路切替装置５００は、薬液ノズル５０のプリディスペンス時に配管２１１に流れ込む薬液を循環系導入管３１２へ導くように制御される。循環系導入管３１２に導かれた薬液は循環系配管１２０Ａへ送られる。循環系配管１２０Ａに導かれた薬液は、回収タンクＲＴＡに一旦貯留された後、薬液貯留タンクＴＡに送られ、貯留される。薬液貯留タンクＴＡに貯留された薬液は基板Ｗの薬液処理時またはプリディスペンス時に再度薬液ノズル５０へ送られる。一方、流路切替装置５００は、薬液ノズル５０のノズル洗浄処理時に配管２１１に流れ込む洗浄液を廃棄系導入管３１３へ導くように制御される。この場合、配管２１１に流れ込む洗浄液は、循環系配管１２０Ａに流れ込むことなく廃棄系導入管３１３を通じて廃棄系配管１３０へ送られ、廃棄される。 （もっと読む）

【課題】基板を傾斜した状態で保持しながら、常温より高い温度の薬液を用いて、傾斜した基板の薬液処理を均一に行う。
【解決手段】薬液ノズル２１は、常温より高い温度の薬液を基板１の表面へ供給する。基板１の表面へ供給した薬液によって、基板１の表面の薬液処理が行われる。薬液ノズル２２は、薬液ノズル２１から供給する薬液の温度に近い温度に温めた薬液を、傾斜した基板１の裏面の上側と下側との間へ供給する。基板１の裏面へ供給した薬液によって、傾斜した基板１の下側が温められ、基板１の表面の上側と下側とにおける薬液ノズル２１から供給された薬液の温度差が抑制される。傾斜した基板１の上側と下側とにおける薬液の温度差を抑制しながら、基板１の薬液処理を行うことにより、基板１の薬液処理の進行がほぼ均一となる。 （もっと読む）

【課題】洗濯工場で洗濯物の運搬に用いるランドリーカートの洗浄装置に関し、洗浄水を洗浄対象物に噴射して洗浄する構造で、１台又は複数台のカートを同時に洗浄することができ、形状や使用環境が異なるカートごとに汚れの付きやすい位置を重点的に、かつ全体を満遍なく短時間で洗浄することを可能にする。
【解決手段】洗浄しようとするカート６の周囲に設けた複数のスプレーノズル８から洗浄水を当該カートに向けて噴射するランドリーカート洗浄装置において、前記複数のスプレーノズルが装着されたスプレー枠５と、このスプレー枠を往復昇降する昇降装置１７と、この昇降装置による前記スプレー枠の昇降速度及び昇降範囲を前記往復昇降の一昇降ないし複数昇降毎に設定して前記昇降装置を制御する制御手段とを備えている。 （もっと読む）

【課題】基板の回転中に基板の外周面をも洗浄することのできる装置を提供する。
【解決手段】本体４３に取り付けられ、互いに独立して出力を生じうるエアシリンダ５１、５２と；本体４３に回転可能に取り付けられた回転軸４と；回転軸４を中心として回転可能に本体４３に取り付けられ、前記出力をそれぞれ回転力に変換するカム機構３６、３７と；回転軸４と平行な軸を中心として回転可能且つ中心軸５の回りに旋回可能に回転軸４に固定され、基板を水平に支持するとともに回転に伴って基板の側面を互いに挟み又は解放する回転柱１０、１１と；回転軸４と同心の回転中心を有し、カム機構３６、３７に従動して前記回転力を回転柱１０、１１の組にそれぞれ伝達しうる伝達部材２６、２７と；回転軸４に固定され、カム機構３６、３７の回転を回転軸４の回転に連係させるストッパー２３とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】スループットを低下させることなく、薬液が部材に付着することに起因する基板の処理不良を十分に防止できる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】スピンチャック２１により保持される基板Ｗに薬液ノズル５０により薬液が供給され、基板Ｗの処理が行われる。このとき、基板Ｗに供給された薬液は周囲に飛散し、基板Ｗの周辺に位置する部材（処理カップ２３およびスプラッシュガード２４）に付着する。基板Ｗの処理時に、薬液と同じ成分の第１の洗浄液を、基板Ｗを介することなくガード洗浄用ノズル８１からスプラッシュガード２４の外壁面２４Ｗへと供給する。これにより、スプラッシュガード２４の外壁面２４Ｗや処理カップ２３の内壁面２３Ｉが清浄な第１の洗浄液により洗浄される。基板Ｗに供給された薬液およびスプラッシュガード２４の外壁面２４Ｗに供給された第１の洗浄液は再利用される。 （もっと読む）

【課題】被加工物に形成された切削溝内に存在する切削屑を好適に洗浄・除去可能な洗浄方法を提供すること。
【解決手段】本発明の洗浄方法は，超音波振動子が設けられた保持手段上に，被加工物Ｗを表面が上向きとなる状態で保持し，液体供給手段により被加工物Ｗに液体を供給するとともに，保持手段に設けられた超音波振動子により被加工物Ｗを垂直方向に超音波振動させて，切削溝３内の切削屑４を洗浄・除去することを特徴とする。これにより，保持手段に保持された被加工物Ｗ自体が下面側から垂直方向に超音波振動されるので，被加工物Ｗの切削溝３の底部に洗浄力を発生させることができる。従って，被加工物Ｗの切削溝３内に存在する切削屑４であっても，切削溝３から好適に洗浄・除去することができる。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成で、十分な洗浄力を有し、短時間に多数のガス容器を効率的に洗浄することが可能なガス容器洗浄装置を提供する。
【解決手段】稼働中停止中によらず、平面視において搬送面２６の同じ位置に空間部２８を有する搬送コンベヤ２０と、搬送コンベヤ２０を覆う搬送方向が開口する第１覆い体４０と、前記第１覆い体４０に覆われた前記搬送コンベヤ２０の搬送面２６の空間部２８の下方に、先端部が搬送面２６よりも僅かに低い位置に取付けられ、洗浄水を上方向に噴射し主に前記ガス容器３の底面８に洗浄水を吹付ける底洗浄ノズル５２、及び前記第１覆い体４０内に取付けられ、洗浄水を下方向に噴射し主に前記ガス容器の上鏡板部１１に洗浄水を吹付ける上洗浄ノズル５６を有する洗浄ノズル５０と、を含む。 （もっと読む）

【課題】 小型な装置で、簡便に活性種を生成することができ、活性種を含む液体を製造することができる液体製造装置およびこの液体製造装置で製造した液体を用いた処理装置および表面加工装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 活性種を含む液体である機能水を製造する機能水製造装置１１である。純水を供給する高圧ポンプ１３と、高圧ポンプ１３によって供給された純水を吐出して活性種を生成するノズル１２とを有している。ノズル１２から機能水が吐出されてから吐出された機能水が液滴になるまでの時間が、ノズル１２から機能水が吐出されてから活性種が消失するまでの時間より短くなるように、吐出流速およびノズル１２の吐出口を構成する。 （もっと読む）

【課題】基板表面の洗浄を十分に行え、また乾燥時の洗浄液ミストの再付着等による基板汚染を低減でき、基板破損等を生じる虞の少ない基板洗浄装置及び基板洗浄方法を提供する。
【解決手段】回転チャック４に保持されスピンカップ３内で回転する基板２の洗浄面２ａに、洗浄液ノズル５から洗浄液を吐出させて洗浄した後、洗浄面２ａに残存する洗浄液を、エアノズル６から吹出させたエアにより除去し乾燥させるものであって、洗浄液ノズル５は、洗浄面２ａに洗浄液をスプレー状に吐出するものであり、かつ洗浄面２ａの回転中心線に直交する直線上に配列されるようにして複数設けられている。 （もっと読む）