【課題】アスベストは肺がん等の原因となり、今除去されているが、微塵が細かく、飛散しやすく、作業者、付近の者、近隣の者も被害が及ぶ。このアスベストを飛散させることなく完全に除去作業が出来たら一番良い。この難しい問題に対して、一つの方法として本発明を提案する。
【解決手段】対象のアスベストにエポキシ樹脂液を吹き付ける。これによりアスベストの表面は硬化する。このものを半日ないし、１日そのままにしておく。次にエタノールを薄めた水溶液を吹き付けながら、アスベストが飛散しないようにアスベストを除去する。この水溶液は浸透が速く、全く微塵の飛散を起させない。 （もっと読む）

【課題】 基板表面の微細なパーティクルを十分に除去し、基板表面の洗浄力を向上させることが可能な基板洗浄装置及び基板洗浄方法を提供する。
【解決手段】 基板Ｗの回転中止Ｐａを中心として回転させられている基板Ｗの表面上に、洗浄ノズル７より液滴の洗浄液が吐出される。洗浄ノズル７は、その胴部７ｂに空気を吐出する気体吐出ノズル１００と、純水を吐出する液体吐出ノズル２００が配置される。気体吐出口１０１から吐出された空気と液体吐出口２０１から吐出された純水は、その衝突部位Ｇでの入射角度αが０度以上で１１０度以下の範囲に設定される。そして、空気と純水が空中にて混合し、噴霧状となした液滴の洗浄液にて基板面が洗浄される。 （もっと読む）

【課題】液処理装置及び処理液供給方法並びに処理液供給プログラムにおいて、処理液の濃度変化が生じても処理動作を中断させることなく継続して処理動作を行えるようにして、液処理工程のスループットを向上させること。
【解決手段】本発明では、複数の供給源から供給される原液を調合槽で調合することによって所定濃度の処理液を生成し、この処理液を供給槽に貯留し、この供給槽から処理液吐出口へ処理液を供給する液処理装置において、供給槽内の処理液に濃度変化が生じたか否かを判断し（濃度変化判断ステップＳ７）、供給槽内の処理液に濃度変化が生じたと判断した場合に、調合槽から供給槽に処理液を補充したり、或いは、供給源から供給槽に原液を直接補充して、処理液の濃度を改善する（処理液濃度改善ステップＳ８）ことにした。 （もっと読む）

【課題】充填ノズルの滅菌作業や洗浄作業時に要求される操作の煩雑性及び手間を軽減する。
【解決手段】充填機１に設置された内容物の充填ノズル３６を滅菌作用又は洗浄作用を有する流体と接触させるため、充填ノズル３６の外面との間に隙間Ｓが生じる状態で充填ノズル３６を受け入れ可能なノズルホルダ５０を充填機１に設置する。充填ノズル３６をノズルホルダ５０のノズル挿入口５０ｅからノズルホルダ内部５０ｄに挿入して、充填ノズル３６の外面側でノズル挿入口５０ｅを密封する。その後、ノズルホルダ５０の内部に滅菌作用又は洗浄作用を有する流体を供給する。 （もっと読む）

【課題】各種表示体に使用される機能性光学用プラスチックフィルムに混入している、埃、フィルム粕といった塵芥を除去でき、欠陥の少ない光学用プラスチックフィルムの洗浄装置等を提供する。
【解決手段】プラスチックフィルムを巻回したロールよりプラスチックフィルム１を巻き出す巻出し部５と、プラスチックフィルム１に洗浄水として純水を供給して複数段での洗浄を行う洗浄部と、ニップロール３及び／又はエアーナイフ４による水切り部と、プラスチックフィルム１の乾燥を行う乾燥部５０と、乾燥を終えたプラスチックフィルム１をロール状に巻き取る巻取り部８とを順に設ける光学用プラスチックフィルムの洗浄装置である。上記洗浄部は、プラスチックフィルム１を純水１２の浴槽１１中に浸漬し洗浄する第１の洗浄部１０Ａと、該第１の洗浄を終えたプラスチックフィルム１を純水を用いてスプレー洗浄する第２の洗浄部１０Ｂとからなる。 （もっと読む）

【課題】基板にダメージを与えることなく、イオン注入時にマスクとして用いられたレジストを良好に剥離（除去）することができる基板処理方法および基板処理装置を提供すること。
【解決手段】イオン注入処理の後の基板からレジストを剥離するために、その基板は、まず、蒸気処理部１に搬入される。蒸気処理部１では、基板の表面にＩＰＡベーパが供給されて、基板の表面上のレジストの表面に形成されている硬化層が溶かされる。その後、基板は、蒸気処理部１からレジスト剥離処理部２へ搬送される。レジスト剥離処理部２では、基板の表面にレジスト剥離液が供給される。レジスト表面の硬化層は、蒸気処理部１における処理により溶かされているので、基板の表面にレジスト剥離液が供給されると、その基板の表面からレジストが良好に除去される。 （もっと読む）

【課題】 基板を処理するときの水平面に対する基板の角度を容易に変更することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】 処理槽３３には、処理空間３８が形成される。この処理空間３８には、基板保持部３４と、第１および第２洗浄液噴射ノズル４１ａ，４１ｂと、第１および第２乾燥用気体噴射ノズル４２ａ，４２ｂとが設けられる。基板保持部３４は、処理空間３８内で、基板３２を保持する。第１および第２洗浄液噴射ノズル４１ａ，４１ｂは、基板３２に洗浄液を噴射する。第１および第２乾燥用気体噴射ノズル４２ａ，４２ｂは、基板３２に乾燥用気体を噴射する。姿勢変化手段３７は、処理槽３３の姿勢を変化させる。処理槽３３の姿勢が変化すると、処理槽３３の処理空間３８に設けられる基板保持部３４および各ノズル４１ａ，４１ｂ，４２ａ，４２ｂの姿勢も変化する。 （もっと読む）

【課題】 手洗いを強いられてきた扁平状の長芋や、葉付大根を自動的に連続洗浄することを可能とすることにより、洗浄、選別、箱詰めと言った一連の作業をシステム化し、出荷における合理化、省力化を可能とする長尺根菜類の洗浄装置を提供する。
【解決手段】 被洗浄物に対して高水圧の水を噴射することにより洗浄を行う高水圧噴射手段を備え、長手方向に添って配設された内方洗浄用ロールブラシ１６、外側に位置する外方洗浄用ロールブラシ１８、上方に位置する被洗浄物の飛びはね防止ブラシ２０を有する長尺根菜類の洗浄装置において、内方洗浄用ロールブラシ１６、外方洗浄用ロールブラシ１８に植毛されている刷毛を被洗浄物が進む方向に傾けて植毛したことにより、被洗浄物に傷を付けることなく、洗浄を行うようにした。 （もっと読む）

【課題】処理する必要のない面に薬液が飛散することを防止でき、処理のスループットを向上させることができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板Ｗを処理する基板処理装置であって、基板Ｗの周辺部に薬液を供給する薬液供給ノズル６１と、基板Ｗ上面に近接した位置と基板Ｗ上面から離れた位置との間で相対的に移動するトッププレート７２を備え、薬液供給ノズル６１を移動自在に構成したことを特徴とする。例えば処理中にトッププレート７２を基板Ｗ上面に近接した位置に移動して、処理する必要のない面を覆うようにすれば、処理する必要のない面に薬液が飛散することを防止することができる。 （もっと読む）

【課題】 簡易な構造で高い洗浄効果を期待できる洗浄装置、水質測定装置および洗浄方法を提供する。
【解決手段】 操作・制御部は、測定部の円筒内面内においてセンサモジュールを上下移動させた後に（Ｓ１０１）、加圧水を洗浄部材に供給する（Ｓ１０２）。これにより、洗浄部材の複数のノズルから加圧水が噴射される。この複数のノズルは、円筒内面内で全周にわたって形成されている。操作・制御部が洗浄終了と判断したときには（Ｓ１０３）、加圧水の供給を中止し（Ｓ１０４）、今度は、エアを洗浄部材に供給する（Ｓ１０５）。これによりセンサモジュールの水切りを行うことができる。水切りが完了したら（Ｓ１０６）、操作・制御部は、エアの供給を中止し（Ｓ１０７）、センサモジュールの上下移動を停止する（Ｓ１０８）。 （もっと読む）