説明

国際特許分類[B08B3/02]の内容

処理操作;運輸 (1,245,546) | 清掃 (8,628) | 清掃一般;汚れ防止一般 (8,628) | 液体または蒸気の使用または存在を含む方法による清掃 (4,413) | ジェットまたはスプレーの力による清掃 (1,469)

国際特許分類[B08B3/02]に分類される特許

1,081 - 1,090 / 1,469


パーツウォッシャー10は、キャビネット12と、プラットフォーム14と、液体ディストリビュータ16と、連結装置18と、駆動システム20とを有する。プラットフォーム14は、キャビネット12の内部に配置され、洗浄されるべき物品を支持する。ディストリビュータ16は、キャビネットの内部でプラットフォームの一方の側に向いて設置され、プラットフォーム14の回転軸に対してほぼ半径方向に向けて液体を放つ少なくとも1つのアウトレット26を備える。連結装置18は、ディストリビュータ16が少なくとも2つの自由度で動くように、ディストリビュータ16をキャビネット12の内部に連結している。より詳しくは、連結装置18は、ディストリビュータ16の、傾き、回転、上下の動きの組み合わせを含む複合の動きを可能とする。
(もっと読む)


吹付ディスペンサーによりフォームの形態で洗浄すべき表面に適用される、硬表面のための水性洗剤が開示される。この洗剤は、脂肪アルコールスルフェートおよび/または脂肪酸サルコシネートならびにイソプロパノールおよびブチルグリコールを含有する。本発明の洗剤は、硬表面、特にガラスの縞形成のない洗浄のための方法において使用することができる。洗浄フォームの分解を、硬表面を洗浄するための適切な使用中に、はじけ音の形態で聴くことができる。 (もっと読む)


【課題】本発明の課題は、2つの比較的小さなスキッドのみが使用されるため、ドア清掃には比較的長い時間がかかること、さらに、シールワイパ領域への高圧清掃に基づき、シールドワイパが損傷する等の従来技術において発生する不利点を回避することにある。
【解決手段】本発明は、コークス炉の炭化室の炉ドア(2)を清掃するための清掃装置(1)であって、前記炉ドア(2)がドアストッパ(3)と、ドアストッパ領域及びノズル(6)の清掃除去のための機械的除去装置(5)を有する少なくともシールワイパ領域(10)の高圧清掃のための高圧清掃装置(7)とともに、少なくとも1つの外側回転シールワイパ(4)とを有する清掃装置に関する。前記シールワイパ領域ができる限り負荷がかからない簡単且つ安価な清掃を提供するために、本発明によれば、前記高圧清掃装置(7)が前記シールワイパ領域(10)の清掃のための回転ノズルを有する。 (もっと読む)


【課題】 被洗浄物上のパーティクルの大きさに拘らず、より効率的且つ高い洗浄効果を得ることが可能な部品洗浄装置、及び、部品洗浄方法を提供する。
【解決手段】 二次要素としての窒素(不活性ガス)が付加された洗浄液としての純水を洗浄ノズルから基板に向けて噴射することによって、基板を洗浄する部品洗浄装置であって、制御手段は、洗浄工程において、純水流量又は窒素流量のうち少なくとも一方を周期的に変動させることにより、純水に窒素が所定の割合で付加される第1洗浄状態と、純水に付加される窒素の割合が第1洗浄状態よりも低い第2洗浄状態とを交互に変換しながら洗浄を行う。 (もっと読む)


【課題】 低コストで汚染物質を除去でき、しかも、洗浄対象物を損傷しない洗浄ノズル及びそれを用いた洗浄方法を提供する。
【解決手段】 断面円形のスロート部11の下流側に流れ方向に拡径するダイバージェント部13を備えたノズル本体18と、ノズル本体18に供給される圧縮空気15の流れと同方向に洗浄液20を吐出する洗浄液供給管21とを有する洗浄ノズル10であって、洗浄液供給管21の吐出口22が、ノズル本体18の内側壁面23から離れたスロート部11の近傍に配置され、しかも、圧縮気体15がスロート部11で音速となっている。 (もっと読む)


【課題】ミストとなる洗浄液の利用効率を向上させることができる基板洗装置を提供する。
【解決手段】 本発明に係る基板洗浄装置は、基板1を載置するステージ10と、ステージ10に載置された基板1の上方に位置し、該基板1の上面全面を覆うカバー部材20と、カバー部材20に設けられ、ミスト化した洗浄液をガス中に分散させたミスト分散ガスを基板1に吐出する吐出口22aと、を具備し、吐出口22aからミスト分散ガスが吐出された状態において、カバー部材20の下面と基板1の上面との間の空間1aは、ミスト分散ガスで充填される。 (もっと読む)


【課題】 作業操作性の良いパターン修正装置を提供する。
【解決手段】 このパターン修正装置では、洗浄液45の入った洗浄タンク46を洗浄エリアに設け、塗布ノズル30が詰まったときは、たとえばステージ10,12を駆動させて塗布ノズル30を洗浄液45中に浸漬させ、超音波振動子47により超音波を印加して塗布ノズル30を洗浄する。したがって、塗布ノズル30を堆積装置5から取り外すことなく洗浄液45で洗浄して、修正作業を再開することができる。 (もっと読む)


【課題】化学的洗浄剤を使用することなく、短時間で高い洗浄効果を達成し、EGT、SFC及びCOを減少し得る洗浄方法及び洗浄装置を提供する。
【解決手段】電解アルカリ水の蒸気をエンジンに吹き付けて汚れを浮かせた後、温水を吹き付けて該汚れを除去ずることによって、極めて短時間で高い洗浄効果を達成することができる。 (もっと読む)


【課題】乾燥室を効率的に加熱できる洗浄乾燥装置及び洗浄システムを提供する。
【解決手段】被処理体を加熱された洗浄液によって洗浄する洗浄室S1と,被処理体を乾燥させる乾燥室S2とを備えた洗浄乾燥装置2において,洗浄室S1に洗浄液を供給する洗浄液供給路42aを備え,被処理体を入れるバスケット23を乾燥室S2内で回転させるバスケット回転機構90を備え,乾燥室S2の内部には,加熱された洗浄液を送液する送液管45を設けた。 (もっと読む)


【課題】 基板を回転させながら該基板を洗浄処理する際に、基板を汚染させることなく良好に洗浄処理することのできる基板処理装置を提供する。
【解決手段】 保持ピンの当接部102の高さ位置を第2高さ位置P2に位置決めして、保持ピンにより未処理基板Wの表面Wfを下方に向けたフェースダウン姿勢で保持しながら、基板Wの裏面Wbを上面洗浄ブラシ31で基板Wを回転させながら洗浄処理する。続いて、保持ピンの当接部102の高さ位置を第3高さ位置P3に位置決めして、基板Wを第1高さ位置P1で支持ピン6により支持するとともに、遮断板5を処理位置PLに位置決めして遮断板5の対向面5aと基板Wとの間に形成される空間SPに窒素ガスを供給することで基板Wを支持ピン6に押圧保持させる。このように基板Wを保持した状態で基板Wを回転させて基板Wの端面を端面洗浄ブラシ41で洗浄処理する。 (もっと読む)


1,081 - 1,090 / 1,469