【課題】同じチャンバー内で、特に、マスク基板の端面全体、及び、ペリクルが貼り付けられていた領域も確実に洗浄することができるマスク基板用の洗浄装置を提供する。
【解決手段】チャンバー２と、該チャンバー内に、少なくとも、前記マスク基板５を支持して回転可能な基板支持手段３と、該基板支持手段により支持された基板に対して洗浄液を供給する基板洗浄液供給手段６，７と、前記基板支持手段により支持された基板の上面５ａ及び端面５ｂに対して回転しながら又は回転せずに摺接可能な洗浄ブラシ８と、前記チャンバーから洗浄液の廃液を排出するための廃液口１０とを備え、前記基板支持手段は、前記マスク基板５の周囲を支持する複数の支持ピン４を有し、該支持ピンにより支持されている基板を該支持ピンに対して相対的に回転させ、該基板の周囲を他の位置で支持し直すことができるものであることを特徴とするマスク基板用の洗浄装置１。 （もっと読む）

【課題】被加工体に設けた孔に効率的に表面加工処理を施すことができる孔表面加工処理方法を提供しようとするものである。
【解決手段】被加工体３に穿設された主孔３１の内部に、所定の水圧を有する噴射水流２を噴出して主孔３１の内側面３１１を加工処理する方法。噴射水流２は、高圧水流２１と高圧水流２１を取り囲む低圧水流２２とからなる二層の噴射水流２であり、キャビテーション気泡２３を含む。主孔３１の内部に、高圧水流２１を反射する反射面６１を有する流れ制御治具６を配置しておく。流れ制御治具６と主孔３１の内側面３１１との間のクリアランスを４００μｍ以下とする。高圧水流２１を反射面６１に噴出して反射させることにより、噴射水流２を主孔３１の内側面３１１に当てる。 （もっと読む）

【課題】 被処理物が洗浄液によって汚染されるのを防ぐことができる枚葉式洗浄処理装置、及びこれを用いた板状の製品の製造方法を提供する。
【解決手段】 ウェーハ回転台１１に載置された半導体ウェーハ（被処理物）６に所定の洗浄処理を施すウェーハ洗浄槽１と、ウェーハ洗浄槽１に連設されるとともに、洗浄処理後の半導体ウェーハ６をウェーハ洗浄槽１の内部から外部に導出するためのウェーハ導入槽（導出槽）２と、ウェーハ洗浄槽１とウェーハ導入槽２との間に設けられた開口部１０ｂを開閉するシャッター機構１０とを設ける。さらに、ウェーハ導入槽２の上部に設けたＦＦＵ（付着防止機構）１５を用いて開口部１０ｂの気流を制御することで、開口部１０ｂを通して、ウェーハ洗浄槽１からウェーハ導入槽２に洗浄処理後の半導体ウェーハ６を搬出する場合に、ウェーハ洗浄槽１内部で使用された洗浄液が半導体ウェーハ６に付着するのを防止する。 （もっと読む）

【課題】 プラント解体工事における高圧水での洗浄時に、プラント内部に付着・堆積した残留汚染物を簡単かつ確実に除去できるようにする。
【解決手段】 高圧水での洗浄に先だって、プラント内に薬液ミストを充満させ所定時間放置する。このミストは希硫酸または水酸化ナトリウムを混合してなり、プラント内壁の付着汚染物を好ましく分解する。プラント内部には小型の送風機を設置して、微弱な出力でプラント内のミストを対流させる。薬液ミストにはさらに着色料を混合して、作業員がミストに暴露するのを防止するとともに、高圧水での洗浄漏れが生じないようにする。 （もっと読む）

【課題】超音波発振器の発振周波数と超音波振動子の共振周波数とを簡単に整合できる超音波洗浄機及び超音波洗浄機の周波数整合方法を提供する。
【解決手段】超音波発振器で発生した高周波電力を、超音波振動子により超音波振動として洗浄液に印加して、被洗浄物を洗浄する超音波洗浄機であって、少なくとも、超音波発振器と、超音波振動子と、前記超音波発振器と前記超音波振動子とを接続する電力ケーブルと、該電力ケーブルに接続され、かつプラス電極側にコンデンサが直列接続された及び／又はコンデンサが並列接続された、前記超音波発振器の発振周波数と前記超音波振動子の共振周波数とを整合させるための周波数整合アダプタとを備えるものであることを特徴とする超音波洗浄機。 （もっと読む）

【課題】被洗浄基板を洗浄した後の洗浄液を、簡便で高精度に分別回収するとともに、洗浄後の洗浄液による被洗浄基板の再汚染の発生を防止することができる洗浄装置および洗浄液の分別回収方法を提供する。
【解決手段】被洗浄基板９に洗浄液を吐出して洗浄し、洗浄後の洗浄液を分別回収する洗浄装置１であって、少なくとも、被洗浄基板９の保持手段４と、被洗浄基板９を取り囲むように配設し、洗浄後の洗浄液を分別回収するリング状の洗浄液分別回収手段５と、前記洗浄液を吸引するポンプ１４を具備し、前記洗浄液分別回収手段５は、洗浄後の洗浄液が飛び散るのを防止し、洗浄液を集める洗浄液収集壁を有し、該洗浄液収集壁の下部に洗浄液を吸引するための洗浄液吸引孔１０を複数形成し、該洗浄液吸引孔１０に対応して洗浄液の吸引および吸引停止を切り替える吸引バルブ１１を設ける。 （もっと読む）

【課題】基板にダメージを与えることなく、イオン注入時にマスクとして用いられたレジストなどの有機物を良好に除去することができる基板処理方法および基板処理装置を提供すること。
【解決手段】過酸化水素ガス供給部３において、加熱槽２６に貯留されている過酸化水素水が加熱されることにより、過酸化水素水が高濃度化され、この高濃度の過酸化水素水が気化ユニット３２でさらに加熱されることにより、水分を含まない過酸化水素ガスが生成される。そして、その過酸化水素ガスが二流体ノズル６に供給されるとともに、硫酸供給部２から硫酸が供給されて、二流体ノズル６からスピンチャック５に保持されているウエハＷの表面に、過酸化水素ガスと硫酸との混合流体の液滴の噴流が供給される。 （もっと読む）

【課題】大型基板を洗浄する場合でも、基板全面に均一に洗浄液を供給でき、しかも洗浄力を上げるために洗浄液の供給圧を高めても膨れなど変形を起こすことなく、噴射開口部の長手方向のどの部位でも、常にほぼ一定の噴射液量を維持することができる基板洗浄ノズルおよびそれを含む基板洗浄装置を提供する。
【解決手段】基板洗浄ノズル２と、基板搬送手段３０と、洗浄液供給手段３１とを含む基板洗浄装置１において、基板洗浄ノズル２を、凹所が形成される第１の構成部材５と、第１の構成部材５との接合面２０が段差を有する第１平面部２０ａと第２平面部２０ｂとからなる第２の構成部材６との接合体であって、第１平面部２０ａが第１の構成部材５に当接し、第２平面部２０ｂが第１の構成部材５に当接しないように形成する。 （もっと読む）

【課題】 高温水と蒸気とを簡単にかつ迅速に切り換えて噴射することができる流体洗浄機を提供することを目的とする。
【解決手段】 可撓ホース３と、可撓ホース３の先端に付設したノズル４と、高温水を生成する高温水生成装置１と、高温水生成装置１で生成された高温水を再加熱して蒸気を生成する蒸気生成装置２とを、備えている。さらに、高温水と蒸気とを択一的に切り換えて可撓ホース３を介してノズル４から噴出させる切換手段５を有するものである。 （もっと読む）

【課題】第１の処理液と第２の処理液とを分離回収することができ、しかも基板から飛散した各処理液が基板に再び付着しないようにしたスピン処理装置を提供することにある。
【解決手段】外カップ体１内に設けられ上面に基板を保持した状態で制御モータ１７によって回転駆動される回転テーブル１１と、外カップ体内に設けられ上端が回転テーブルの上面よりも低い下降位置と上端が回転テーブルに保持された上記基板よりも高い上昇位置との間で上下駆動機構２７によって上下駆動可能に設けられた内カップ体２１と、外カップ体の内周部に設けられ内カップ体が下降位置の状態で基板を回転させて第２の処理液で処理するときに基板の周辺部から飛散する第２の処理液を下方へ反射させる第１の反射板６と、内カップ体の内周部に設けられ内カップ体が上昇位置の状態で基板を回転させて第１の処理液で処理するときに基板の周辺部から飛散する第１の処理液を下方へ反射させる第２の反射板２５を具備する。 （もっと読む）