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国際特許分類[B08B3/02]の内容

処理操作;運輸 (1,245,546) | 清掃 (8,628) | 清掃一般;汚れ防止一般 (8,628) | 液体または蒸気の使用または存在を含む方法による清掃 (4,413) | ジェットまたはスプレーの力による清掃 (1,469)

国際特許分類[B08B3/02]に分類される特許

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【課題】洗浄装置において、被洗浄物の表面に洗浄液を噴射して洗浄を行う場合に、被洗浄物の表面からの飛散物が種々の方向に飛散する場合でも再付着を防止することができるようにする。
【解決手段】洗浄装置1は、レンズ15を保持して回転させる回転保持部2と、回転保持部2に保持されたレンズ15上のスポット状の洗浄領域に洗浄液Lを噴射する洗浄液噴射部7と、洗浄領域の周囲を、回転中心に対する洗浄領域の相対移動方向における後方側から覆うように凸レンズ面15aに入射する層状気流17を形成する圧縮空気噴射部8と、回転保持部2および洗浄液噴射部7の少なくとも一方を移動させて、洗浄領域をレンズ15の回転中心から外周側に向かって相対移動させるとともに層状気流17の入射位置を洗浄領域の相対移動に追従して相対移動させる昇降ステージ6と、を備える。 (もっと読む)


【課題】装置の大型化を抑制し基板上の薬液が累積することなく液切りが良好に行える薬液処理装置を提供する。
【解決手段】帯状の基板(1)を長手方向(DR1)に搬送する基板搬送部(51)を備え基板(1)を搬送しつつその上表面(1u)に付着した薬液(LQ)の液切りを行う。基板搬送部(51)は、基板(1)を上下から対向挟持して搬送させる上ローラと下ローラとからなるローラ組を、第1〜第3のローラ組(R3〜R5)として長手方向(AR1)に沿ってその順に有する。上ローラと下ローラとによって基板(1)を挟む挟持位置について、第2のローラ組(R4)の挟持位置(KP4)が第1及び第3のローラ組の挟持位置(KP3,KP5)よりも低い位置にある。 (もっと読む)


【課題】洗浄槽の上部からの洗浄液が漏れ出るのを抑制あるいは防止した、基板洗浄装置を提供する。
【解決手段】略垂直姿勢の基板Wを上方から洗浄槽1内に収容し、基板Wの表面および裏面にそれぞれ対向しかつ略水平方向に延在して配置された管状部材2a1〜2a3,2a4〜2a6から、基板Wの両面にそれぞれ洗浄液を噴射して洗浄する基板洗浄装置Sである。基板Wの両面にそれぞれ対向する洗浄槽1の側壁11aと、側壁11a側に配置された管状部材2a1〜2a3,2a4〜2a6との間に形成される通気路F1に、邪魔板C1〜C3,C4〜C6を配設した。 (もっと読む)


【課題】 鉄道車両の車軸に配設されるころ軸受の内周面に塗布されている古いグリースの除去を十分に行う。
【解決手段】 本発明に係る鉄道用軸受洗浄装置1は、鉄道車両の車軸に配設される円環状のころ軸受Bの洗浄を行う。そして、鉄道用軸受洗浄装置1は、回転軸240に対して回転可能に配設され、ころ軸受Bの中心軸と回転軸240とが略同軸に配置されるように、ころ軸受Bを支持する回転支持部材250,290と、回転軸240の上端部に配設され、該回転軸240の内部を介して圧送される洗浄用液体を、ころ軸受Bの内周面に対して噴射可能な液体噴射手段270と、を備える。 (もっと読む)


【課題】液滴が衝突する基板の各位置での膜厚のばらつきを低減し、基板の処理品質を向上させること。
【解決手段】複数の噴射口28からそれぞれ基板の上面内の複数の噴射位置に向けて処理液の液滴が噴射される。これと並行して、複数の吐出口35からそれぞれ基板の上面内の複数の着液位置に向けて保護液が吐出される。複数の吐出口35から吐出された保護液は、複数の液膜を形成する。複数の液膜は、それぞれ異なる噴射位置を覆う。処理液の液滴は、保護液の液膜に覆われている噴射位置に向けて噴射される。 (もっと読む)


【課題】フィルタの濾材内部まで効果的に洗浄し、濾材内部に捕集された異物を押し出す高性能でコンパクトなフィルタ洗浄装置及びフィルタ洗浄方法を提供する。
【解決手段】フィルタ洗浄装置1は、フィルタ2を移送するコンベア3と、コンベア3上においてフィルタ2に洗浄液を噴射する複数の洗浄液噴射ノズル24からなる洗浄液噴射ノズル群4と、コンベア3上において洗浄液噴射ノズル群4の下流側でフィルタ2に高圧ガスのみを噴射する複数の高圧ガス噴射ノズル25からなる高圧ガス噴射ノズル群5と、を備え、フィルタ洗浄方法は、フィルタ2をコンベア3に搭載するステップと、フィルタ2を搬送しながらフィルタ2に洗浄液を噴射するステップと、フィルタ2を搬送しながらフィルタ2に高圧ガスのみを噴射するステップと、を備える。 (もっと読む)


【課題】離れた位置でも高圧洗浄装置を操作することが可能な操作盤の提供。
【解決手段】フレーム上に搭載され、洗浄水を貯留する水タンクと、水タンクに吸引側が接続され、エンジンにより駆動される水ポンプと、水ポンプの吐出側に一端が接続され、他端が大ホースリールおよび小ホースリールに接続された配管と、大ホースリールおよび小ホースリールにそれぞれの基端が接続されて巻き付けられた大ホースおよび小ホースの先端にそれぞれ噴射器具を備えた高圧洗浄装置の操作盤4であって、水ポンプにより圧送される洗浄水を噴出するホースを大ホースまたは小ホースに切り換える大小ホース切換スイッチ20と、大ホースリールの回転速度調整ハンドル21とを備えた操作盤本体4aと、操作盤本体4aに着脱可能であり、大ホースリールから大ホースを巻取、停止および繰出可能なスイッチ33と、エンジンの増減速スイッチ32とを備えたリモコン装置4bとを含む。 (もっと読む)


【課題】海水に浸かった瓦礫を再利用可能な品質まで洗浄することができる洗浄装置を提供すること。
【解決手段】周面30をスクリーンで構成し、一端側31の開口を瓦礫投入口3Aとし、他端側32の開口を瓦礫排出口3Bとした筒状の回転筒体3を、回転駆動手段35によって回転可能に、かつ、回転筒体3の一端側31から他端側32に向けて下り傾斜となるように設置し、回転筒体3の他端側32の内部に洗浄水供給源Pから供給される洗浄水を供給する第1洗浄水供給手段33と、回転筒体の他端側の下方に回転筒体3から排出された洗浄水を回収する第1排水槽T1と、回転筒体の一端側の内部に第1排水槽T1から供給される洗浄水を供給する第2洗浄水供給手段34と、回転筒体3の一端側31の下方に回転筒体3から排出された洗浄水を回収する第2排水槽T2とを配設する。 (もっと読む)


【課題】排気効率およびスペース効率を改善し、液切り乾燥直後の乾いた基板にミストが付着するのを十全に防止する。
【解決手段】上部および下部エアナイフ122U,122Lがそれらの間を通過する基板Gに対してナイフ状の鋭利な高圧エア流を吹き付けることにより、両エアナイフ122U,122Lの上流側の空間に多量のミストが発生する。基板Gの上で発生したミストの大部分は、下流側のFFU136から隙間Kを通って廻ってくる空気および入口118から入ってくる空気と一緒に上部排気口124に吸い込まれる。基板Gの下で発生したミストは、その全部がFFU136から廻ってくる空気および入口118から入ってくる空気と一緒に下部排気口126,128に吸い込まれる。 (もっと読む)


【課題】 端縁に段差を有する基板を処理する場合であっても、端縁を十分清浄に洗浄処理することが可能な基板処理装置を提供する。
【解決手段】 電子ペーパ製造用基板10は、第1、第2の剥離部35、36に搬送され、レジストの剥離処理がなされる。次に、電子ペーパ製造用基板10は、洗浄液噴出ノズル51からその長辺に洗浄液が噴出され、その長辺を洗浄処理されるとともに、第1洗浄部37において表面および裏面に洗浄液を供給されて洗浄処理される。次に、電子ペーパ製造用基板10は、第1洗浄部37から第2洗浄部38、第3洗浄部39および第4洗浄部40に順次搬送され、それらの洗浄部において表面および裏面に洗浄液を供給されて洗浄処理される。このとき、第2洗浄部38においては、洗浄液噴出ノズル52からその短辺に洗浄液が噴出され、その短辺を洗浄処理される。 (もっと読む)


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