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国際特許分類[B08B3/02]の内容

処理操作;運輸 (1,245,546) | 清掃 (8,628) | 清掃一般;汚れ防止一般 (8,628) | 液体または蒸気の使用または存在を含む方法による清掃 (4,413) | ジェットまたはスプレーの力による清掃 (1,469)

国際特許分類[B08B3/02]に分類される特許

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【課題】 本発明は、超音波による洗浄装置および洗浄方法に関するものである。
【解決手段】 本発明の洗浄装置は、超音波を発生する超音波振動子と、超音波振動子に固定されて超音波を洗浄液に照射する超音波照射面が扁平な振動体とを具備する振動体ユニットと、振動体ユニットを回転して超音波照射面に交わる方向を軸として超音波照射面の角度を変える照射面角度制御部と、洗浄対象の基板を保持し基板を回転させる基板回転部と、振動体の超音波照射面を洗浄面に向けて一定間隔を保持しながら振動体ユニットを移動させる振動体移動機構と、超音波照射面と洗浄面との間に洗浄液を供給する洗浄液供給部と、を備えるよう構成する。 (もっと読む)


【課題】より簡易な構造で安全性を確保することができる処理装置を提供することである。
【解決手段】発火及び爆発に対する所定の安全対策の施された設備が配置され、引火性のある処理液を用いて所定の処理が行われる処理室と、該処理室とは隔離されつつ一体となり、電気設備及び前記処理室にて用いられる前記処理液の通路が配置された遮蔽室とを備えた処理装置であって、前記遮蔽室内から気体を導出する気体導出手段と、該気体導出手段にて導出された気体のガス濃度を検出するガス濃度検出手段とを有する構成となる。 (もっと読む)


【課題】基板上に形成されたパターンの破損を回避しつつ、基板に対する洗浄能力を低下させずに洗浄を行うことができる。
【解決手段】基板上を複数の領域に区切り、領域毎にその位置情報とパターン情報を取得する情報取得部11と、位置情報とパターン情報に基づいて、領域毎に基板に薬液を吐出するときの処理条件を決定する条件決定部12と、基板に薬液を吐出する吐出部15と、吐出部15を基板の一端から他端への第1方向に向かって基板に対して相対的に移動する位置制御部13と、位置制御部13により移動される吐出部15が基板上の領域の上方を通過するとき、前記処理条件に従って吐出部15から吐出される薬液の圧力を調整する吐出調整部14とを備える。 (もっと読む)


【課題】便器の清掃の省力化に貢献し清掃の品質を均一化するためのトイレ洗浄装置を提供する。
【解決手段】トイレの男子用便器の清掃作業を補助する為のトイレ洗浄装置が、便器に対して移動可能に構成されたトイレ洗浄装置本体と、便器に付けるICチップ等の無線発信機器とを有し、トイレ洗浄装置本体には、高圧水の発生装置と高圧水を射出する為のノズルが配設され、前記ノズルを便器の長さに合わせ上下させる駆動装置を備え、前記ICチップ等の無線発信機器は便器近傍に付着され、該便器の情報やトイレ内の情報を記憶させ、トイレ洗浄装置本体には、無線機器からの情報を読み取る為の装置を備え、読み取った便器の情報に基づき前記ノズルを上下させるべく駆動装置を制御し、便器の大きさや形状に合わせた駆動範囲を変更し、読み取ったトイレ内の情報を隣の便器に移動する際に利用する。 (もっと読む)


【課題】水蒸気中の不純物を低減することで基板上の微粒子等を確実に除去すること。
【解決手段】純水PWを加熱沸騰させて水蒸気を発生させる石英ガラス製の水蒸気発生容器110と、水蒸気発生容器110に純水PWを供給する純水供給部400と、水蒸気発生容器110で発生した飽和水蒸気SVを加熱して過熱水蒸気HVを生成する石英ガラス製の過熱水蒸気生成容器150と、過熱水蒸気生成容器150で発生した過熱水蒸気HVを基板Wの表面に噴射させる基板処理装置300とを備えている。 (もっと読む)


【課題】液体噴射装置において、噴射ノズルの上下振り回動を反転させる反転システムを提供すること。
【解決手段】液体供給筒の先端回転筒に対する噴射ノズル(回転軸芯)の相対回転差で液体供給筒の垂直軸線に対し振り回動を行わせる液体噴射装置において、前記供給筒60内を軸方向に垂下し、駆動機構の駆動力を受けて回転する回転軸50を回転軸芯51とそれを内包する回転軸筒52とからなる二重回転軸とし、液体供給筒の先端回転筒62を回転させる第1伝達手段20に対し、噴射ノズル70を回転させる第2伝達手段30の相対回転差(相対回転角度差)をプラスとマイナスに切り替え、第1及び第2伝達手段の伝達する相対回転差をプラスとして噴出ノズルの傾斜角度(振り)が上昇方向とし、相対回転差をマイナスとして下降方向に切り替えるノズル反転システムである。 (もっと読む)


【課題】本発明は、洗浄液を節水してコストを低減すると共に、洗浄工程の省スペース化を図ることが可能な洗浄装置を提供することを目的とする。
【解決手段】外部から搬入された基板Wを略垂直姿勢で収容する洗浄槽51Aと、該洗浄槽51A内の基板Wに両面から洗浄液を噴射する洗浄液噴射部と、洗浄槽51Aから洗浄液を回収する洗浄液回収部とを備え、洗浄槽51Aは、基板Wに直交する断面における下部Kが上部Jよりも狭い幅で、かつ、中間部Tの幅が上から下に向かって狭くなっている。 (もっと読む)


【課題】溶剤蒸気の流出や引火の危険を減少し洗浄効率の良い迅速な洗浄作業を可能にする。複数の洗浄部を設けて同時に被洗浄物を挿入したり複数の洗浄部を順次移動しながら異なる洗浄作業を被洗浄物に加える。この復数の洗浄部を個々に密閉可能にするとともに被洗浄物の外部への出入口を一個とし、溶剤蒸気の外部への流出を極度に減少させる。
【解決手段】蓋体2にて密閉可能な出入口3を上端に設けた基準室1を設ける。この基準室1の外周に基準室1との連通および遮断を可能にした側室8、9を設ける。前記基準室1に被洗浄物7を出入する上下搬送機構5と、被洗浄物7を側室8、9内に搬入または基準室1に搬出可能とした水平搬送機構11,12とを設ける。この水平搬送機構11、12に接続し、側室8、9と基準室1との連通または遮断を可能とした遮断壁26、27とから成る被洗浄物の洗浄装置である。 (もっと読む)


【課題】処理液を効率的に利用しつつ処理性能を向上させることのできる基板処理装置及び基板処理方法を提供することである。
【解決手段】
処理液を基板Pの表面に向けて吐出して基板Pの全幅にわたって処理液を吹付ける第1ノズルユニット10と、第1ノズルユニット10より基板Pの搬送方向の下流側に当該第1ノズルユニット10と向き合うように配置され、処理液を基板Pの表面に向けて吐出して当該基板の全幅にわたって処理液を吹付ける第2ノズルユニット20とを有し、相互に向き合う第1ノズルユニット10及び第2ノズルユニット20から吐出される処理液が基板Pの表面上でぶつかりあって基板Pの幅方向に延びる処理液の盛り上がり部分Mが形成されるように第1ノズルユニット10及び第2ノズルユニット20からの処理液の吐出方向が設定された構成となる。 (もっと読む)


【課題】 気泡微細化に有利な高速流を大流量にて効果的に発生でき、ひいては気泡の微細化効果を劇的に向上させるとともに、マイクロバブル領域あるいはナノバブル領域の気泡の発生量を、従来達成し得なかったレベルにまで高めることができる気泡微小化ノズルを提供する。
【解決手段】 流れ方向下流側に下り勾配にて形成される流れガイド面22Gと、流れ方向上流側にて流路FP内面に対し流れガイド面22Gよりも急峻に立ち上がるように形成される流れ受け面22Aとを有する絞りギャップ材22Qを流路FP内に配置する。それら流れ受け面22Aと流れガイド面22Gとの交差位置に、流路FPの軸断面内周縁上の第一位置PPから該第一位置PPと異なる第二位置PSに向けて軸断面を横切るエッジ部22Eが形成され、該エッジ部22Eと流路FPの内面との間に絞りギャップ21Gがされる。 (もっと読む)


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