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国際特許分類[B08B3/02]の内容

処理操作;運輸 (1,245,546) | 清掃 (8,628) | 清掃一般;汚れ防止一般 (8,628) | 液体または蒸気の使用または存在を含む方法による清掃 (4,413) | ジェットまたはスプレーの力による清掃 (1,469)

国際特許分類[B08B3/02]に分類される特許

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【課題】液中洗浄と気中洗浄とを行うことができるタレット式洗浄装置を提供すること。
【解決手段】タレット式洗浄装置1は、クイル21に固定されたセンターポスト22と、センターポスト22に軸支されたタレットヘッド4と、ワークWを洗浄するための洗浄工具Tと、タレットヘッド4を旋回させるタレット駆動装置6と、タレットヘッド4が配置された洗浄室3と、洗浄液Cを貯溜する洗浄槽7と、ワークWを回動させる回動ユニット8と、洗浄液Cを供給する第1洗浄液供給流路14と、洗浄液Cを供給する第2洗浄液供給流路15と、第1洗浄液供給流路14及び第2洗浄液供給流路15に洗浄液Cを供給する洗浄液供給源16と、洗浄槽7内の洗浄液Cを排出する排出口7aと、を備えている。タレット式洗浄装置1は、選択された洗浄工具TからワークWに洗浄液Cを噴射することによって液中洗浄、半液中洗浄及び気中洗浄することが可能である。 (もっと読む)


【課題】シートガラスの表面の洗浄むらが発生し難く洗浄度を向上することができるシートガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】シートガラスの搬送中に、一方向に並んだ複数の洗浄ブラシを回転させることにより、前記シートガラスの少なくとも一方のガラス面を洗浄する。前記洗浄ブラシのそれぞれは、回転中心軸から放射状に延び、前記シートガラスに対して摺動する複数の羽根ブラシ部を備える。前記複数の洗浄ブラシのそれぞれと隣接する洗浄ブラシとの間の回転中心軸間距離は、前記回転中心軸から前記羽根ブラシ部の先端までの長さと、前記隣接する洗浄ブラシの回転中心軸から羽根ブラシ部の先端までの長さとの合計より短い。前記複数の洗浄ブラシのそれぞれの前記羽根ブラシ部のそれぞれは、前記隣接する洗浄ブラシの羽根ブラシ部と、この羽根ブラシ部に周上で隣り合う羽根ブラシ部との間に位置するように、前記複数の洗浄ブラシは同期して回転する。 (もっと読む)


【課題】ノズルの動作を簡単に教示することができる基板処理装置およびティーチング方法を提供する。
【解決手段】記録開始指令が制御部4に入力されると、CPU23は、記録開始指令が入力されてからの経過時間をタイマー25によって計測させる。さらに、CPU23は、ノズルの位置を検出するエンコーダ22の出力と経過時間とをメモリー24に記憶させる。そして、記録終了指令が制御部4に入力されると、CPU23は、エンコーダ22の出力と経過時間の記憶を終了させる。記録開始指令の発生から記録終了指令の発生までのエンコーダ22の出力は、経過時間と関連付けられて1つの動作データとしてメモリー24に記憶される。 (もっと読む)


【課題】 大型のフォトマスク用の遮光膜付き基板の洗浄方法で、付着異物の除去が効果的な洗浄方法を提供する。
【解決手段】 大型のフォトマスク用の遮光膜付き基板の洗浄方法であって、高い圧力をかけてノズルから、純水を微粒径の状態状態で噴射させて、前記遮光膜付き基板の遮光膜にあてる、純水ジェット洗浄処理を施す。 (もっと読む)


【課題】 ローコストでスイミングプール、または、熱帯海と同様の色、透明度、および、清浄度の特徴を有するレクリエーションの使用のための15,000mより大きい水体を得る(実現し、維持する)プロセスを提供することである。
【解決手段】 低コストで、優れた色、透明度、および、清浄度特性を有するレクリエーションの使用、例えば湖または人工のラグーンのための15,000mより大きい水体を実施し、維持するプロセスは、15,000mより大きい水体を含むことが可能なスキマーを有する構造を提供する工程と、1.5ppmより低い鉄、および、マンガンのレベルを有し、5NTUより低い混濁度を有するインレット水を前記工程(a)の構造に送る工程と、を具備することである。 (もっと読む)


【課題】被処理基板のエッチング時において被処理基板のエッチング量の面内均一性を向上させることが可能な基板の処理装置を提供する。
【解決手段】ガスの供給部および排気部を有する処理チャンバ;処理チャンバ内に配置され、被処理基板を回転可能および上下動可能に保持する保持部材;チャンバに供給するガスの温度調整を行うための第1温度調整器;被処理基板にエッチング液を供給してエッチング処理を行うためのエッチング液供給部材;エッチング液供給部材とチャンバの外部で接続されたエッチング液供給タンク;タンク内のエッチング液の温度調整を行うための第2温度調整器;および第1、第2の温度調整器によるガスの温度調整およびエッチング液の温度調整をチャンバ内の温度がタンク内のエッチング液の温度より高く、かつそれらの温度差を一定になるように制御するための制御機構;を具備した基板の処理装置。 (もっと読む)


【課題】基板主面の全面に亙るウェット処理の均一化を図り、処理の歩留まりの向上や品質改善を達成することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】スプレーパイプ部22と、スプレーパイプ部22の長手方向に一列に互いに近接して形設され薬液をその吐出口26から基板Wの表面102へ吐出する複数のノズル部24から構成される複数のスプレーノズル14とを備え、基板Wの表面102に対する複数のノズル部24の吐出口26の対向角度を、傾斜させた姿勢で搬送される基板Wの表面102の傾斜下端方向に向けて、基板Wの表面102の傾斜上端部付近から傾斜下端部付近にかけて、基板Wの表面102の法線300に対して漸次小さくなるように、複数のノズル部24を複数のスプレーパイプ部22に形設することにより、基板Wの表面102上において吐出後の薬液の流速を傾斜上端部付近では相対的に小さく傾斜下端部付近では相対的に大きくする。 (もっと読む)


【課題】洗浄・除菌効果の高い洗浄水を簡便に生成できる褥瘡洗浄装置を提供する。
【解決手段】褥瘡洗浄装置(10)には、褥瘡部へ供給する洗浄水を貯留するタンク(20)と、一端がタンク(20)に接続される給水路(31)、タンク(20)内の洗浄水を給水路(31)へ搬送する搬送部(32)、及び給水路(31)の流出端に接続されて洗浄水を褥瘡部へ放出する放出部(33,90,95)を含む給水機構(30)と、タンク(20)内の水中でストリーマ放電を生起するための電極対(51,52)と、電極対(51,52)に電圧を印加する電源部(65)とを有し、ストリーマ放電によって水中で過酸化水素を生成するように構成された放電発生機(50)とが設けられる。 (もっと読む)


【課題】洗浄水の水流により微細な異物(埃)を効果的に除去することができる、フィルム洗浄装置を提供する。
【解決手段】1または2枚の供給部材と、前記供給部材に形成され供給部材に平行に走行するフィルムの表裏面の少なくとも一方の面に対して洗浄液を吹付ける洗浄液吐出口を備え、前記洗浄液吐出口を、走行するフィルムの面に対して複数方向の洗浄液の流れを形成するように構成した。前記洗浄液吐出口を、走行するフィルムに対してV字状に構成するのが好ましい。 (もっと読む)


【課題】便器清掃用具自身が直接排泄物に触れない衛生的な便器清掃用具を供給する。
【解決手段】分岐栓3よりホース5等を接続し、その先の小さな穴より水4を流出させる出水口を設け、ボタンやレバー等で出水を制御し、出水された水の圧力によって、便器内に付着した排泄物を洗い流し便器1を清掃する。また、分岐栓3からの水を使用しない場合は、小型のタンクに水をためて、それをレバー等で、容器内に圧力をかけることによって出水させるような構造の持ち運び可能な便器清掃用具でも良い。 (もっと読む)


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