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国際特許分類[B08B3/02]の内容

処理操作;運輸 (1,245,546) | 清掃 (8,628) | 清掃一般;汚れ防止一般 (8,628) | 液体または蒸気の使用または存在を含む方法による清掃 (4,413) | ジェットまたはスプレーの力による清掃 (1,469)

国際特許分類[B08B3/02]に分類される特許

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【課題】被洗浄物に超音波を照射することにより除去された異物が被洗浄物へ再付着することを防止することができる超音波洗浄装置の提供。
【解決手段】超音波洗浄装置であって、少なくとも、超音波を超音波振動子から洗浄液に伝える振動部材と洗浄液の噴出口と吸引口と、を備えており、
前記振動部材は平板状の剛体であり、平板状の超音波振動子に接合されており、
前記洗浄液の噴出口と吸引口は、前期振動部材の表面または前記振動部材が、被洗浄物が載置された平面に形成する垂直投影の内側に配置されていること、を特徴とする超音波洗浄装置。 (もっと読む)


【課題】簡便な方法で、周囲の空気との干渉による水流の微粒化を抑制でき、高いデスケーリング又は洗浄能力を発現できる噴射ノズル装置を提供する。
【解決手段】フラットパターンの主水流50を噴射可能な主吐出口15と、主水流の厚み方向の両側から、それぞれ第1の被覆気流51及び第2の被覆気流52を噴射可能であり、主水流を第1及び第2の被覆気流のサンドイッチ状に被覆して噴射するための第1の補助吐出口及び第2の補助吐出口とを備えた噴射ノズルを用いて鋼板表面のスケールを除去する。前記主水流の噴射圧力は、被覆気流の噴射圧力の70倍以上に調整する。補助吐出口の噴射出口は、主吐出口の噴射出口よりも5〜100mm上流側に位置させてもよい。主水流の噴射方向に向かって5〜35°の角度で被覆気流を噴射してもよい。 (もっと読む)


【課題】トンネル式洗浄機において、流体排気通路で洗浄機の各チャンバからの均等な蒸気排気を容易にし、各チャンバからの熱損失を最小限にするため最適化される。
【解決手段】トンネル式洗浄機には、トンネル式洗浄機のチャンバを分離する間隔を保つ二重壁カーテンが含まれ、チャンバ間およびトンネル式洗浄機外への流体および熱移動が防止される。二重壁カーテンにはトンネル式洗浄機の操作の間にカーテンが互いに粘着することを抑制する表面が含まれる。またトンネル式洗浄機には種々の寸法の物品に対し乾燥効率を均等にする空気マニホールドが含まれる。 (もっと読む)


【課題】貫通穴の内面に対する洗浄能力および洗浄効率の向上を共に図ることのできる貫通穴の洗浄方法を提供する。
【解決手段】外周に洗浄液を噴射するための噴射口10を設けたノズル7を用いて、貫通穴5の内面を洗浄する。具体的には、ノズル7を貫通穴5に挿入して、貫通穴5の両端をシールすることにより、ノズル7の外面と貫通穴の内面との間に、噴射口10から噴射した洗浄液の昇圧を可能とする昇圧空間25を形成する。 (もっと読む)


【課題】液切れのよいノズルアームを備える基板処理装置を提供すること。
【解決手段】基板処理装置は、処理液を吐出するノズルと、ノズルを保持するノズルアーム4とを含む。ノズルアーム4は、水平面に沿う長手方向D1に延びている。ノズルアーム4の少なくとも一部の直交断面C1は、直交断面C1において最も上に位置している頂部45と、頂部45より側方に位置している側部42と、頂部45から側部42まで下降し続けている上側傾斜部47とを含む。 (もっと読む)


【課題】
炊飯釜等の容器洗浄装置において、容器洗浄面の最短距離まで洗浄ノズルを挿入し、洗浄面を死角なく効率的に洗浄することを可能ならしめると共に装置の小型化を達成する。
【解決手段】
容器3の取手部3aが挿入される凹状部4を有する反転回動可能な容器支持体2と、ノズルアーム7a先端に取り付けられ、容器支持体2が反転したとき、該容器支持体に取り付けられた容器3内部を洗浄する回転式洗浄ノズル7を設けて、回転式洗浄ノズル7を容器支持体2の反転に伴って容器3内に移行して挿入し、回転しながら下向き姿勢の容器3内部を全面にわたり洗浄し得る如く構成した。なお、支持体2内への容器3の挿入、洗浄後の支持体内からの取り出しはガイドローラーを使用し、バッチ式としてもよく、搬送コンベアを用いて連続式又は往復式としてもよい。 (もっと読む)


【課題】洗浄液の飛散による弊害を少なくできる洗浄装置を提供する。
【解決手段】搬入部2に搬入された被洗浄物を第一の洗浄部4、第二の洗浄部5、第三の洗浄部6、第一の乾燥部7、待機部8、第二の乾燥部9及び搬出部3に順次搬送する搬送部69を備える。第一の洗浄部4、第二の洗浄部5、第三の洗浄部6、第一の乾燥部7、待機部8、第二の乾燥部9及び搬出部3の高さHを、順次高く配置する。パイプPを支持して上段側に持ち上げて移す第一の搬送台70などの搬送部69を設ける。第一の洗浄部4で発生したパイプPの汚れがその上方にある第二の洗浄部5に飛散することを阻止でき、第二の洗浄部5で発生したパイプPの汚れがその上方にある第三の洗浄部6に飛散することを阻止できるなどによって、パイプが絶えることなく各工程が同期して連続的に洗浄することができる。 (もっと読む)


【課題】エッチング残渣を良好に除去することが可能なウエットエッチング方法及びウエットエッチング装置を提供する。
【解決手段】本発明のウエットエッチング方法は、基板A上に形成された少なくとも1層の膜をウエットエッチングする処理工程と、処理工程を終えた基板Aを水洗する水洗工程と、水洗工程を終えた基板Aを乾燥する乾燥工程とを含み、処理工程と水洗工程との間に、超音波を印加したエッチング液ELを基板Aに噴射する超音波液噴射工程を実施する。 (もっと読む)


【課題】ワーク表面にシミやムラ等を形成させずに、ワーク表面の処理液をきれいに洗い落とす。
【解決手段】ワーク1の表面を処理する処理液が蓄えられる処理槽10と、表面に処理液が付いているワーク1を洗浄する洗浄液が蓄えられる洗浄槽20と、ワーク1を吊り下げ、処理槽10の上方と洗浄槽20の上方との間で移動すると共に、上下方向に移動するクレーン35を有している移動機構30と、クレーン35に設けられ、クレーン35から吊り下げられているワーク1に対して、洗浄液を噴射するノズル51と、を備えている。 (もっと読む)


【課題】 希少金属層が設けられている基板から希少金属を剥離処理して、当該希少金属を高い効率で回収できる金属回収機構を有する基板処理装置の提供。
【解決手段】 基板を載置するステージ部Fと、
水蒸気及び水を含む混相流体を前記基板に噴射して前記基板上の希少金属を剥離する、混相流体噴射部Eと、
槽壁171、前記混相廃物を排出する排出管172、を有するチャンバ部Iと、
前記排出管から送られる混相廃物を液相と気相とに分離する気液分離機構181、該気液分離機構により分離された液相から希少金属を回収する固液分離手段182を有する、混相廃物中の液相に存在する希少金属を回収する第一処理部Gと、
前記第一処理部の気液分離機構から送られる気相に含まれる希少金属を回収するサイクロン式分離機構191を有する、混相廃物中の気相に存在する希少金属を回収する第二処理部Hと、
を具備する基板処理装置100。 (もっと読む)


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