基板処理装置
【課題】液切れのよいノズルアームを備える基板処理装置を提供すること。
【解決手段】基板処理装置は、処理液を吐出するノズルと、ノズルを保持するノズルアーム４とを含む。ノズルアーム４は、水平面に沿う長手方向Ｄ１に延びている。ノズルアーム４の少なくとも一部の直交断面Ｃ１は、直交断面Ｃ１において最も上に位置している頂部４５と、頂部４５より側方に位置している側部４２と、頂部４５から側部４２まで下降し続けている上側傾斜部４７とを含む。
【解決手段】基板処理装置は、処理液を吐出するノズルと、ノズルを保持するノズルアーム４とを含む。ノズルアーム４は、水平面に沿う長手方向Ｄ１に延びている。ノズルアーム４の少なくとも一部の直交断面Ｃ１は、直交断面Ｃ１において最も上に位置している頂部４５と、頂部４５より側方に位置している側部４２と、頂部４５から側部４２まで下降し続けている上側傾斜部４７とを含む。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、基板を処理する基板処理装置に関する。処理対象となる基板には、たとえば、半導体ウエハ、液晶表示装置用基板、プラズマディスプレイ用基板、ＦＥＤ（Field Emission Display）用基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、セラミック基板、太陽電池用基板などが含まれる。
【背景技術】
【０００２】
半導体装置や液晶表示装置などの製造工程では、半導体ウエハや液晶表示装置用ガラス基板などの基板に対して処理液を用いた処理が行われる。基板を１枚ずつ処理する枚葉式の基板処理装置は、たとえば、基板を水平に保持して回転させるスピンチャックと、スピンチャックに保持された基板の上面に向けて処理液を吐出するノズルとを備えている。ノズルは、水平に延びるノズルアームの先端部に保持されている。ノズルアームは、ノズル揺動機構に連結されている。ノズル揺動機構は、スピンチャックの側方に設けられた鉛直な回転軸線まわりにノズルおよびノズルアームを回転させる。
【０００３】
この基板処理装置においてノズルから基板の上面に処理液が供給されるときは、ノズルおよびノズルアームがスピンチャックに保持された基板の上方に配置される。さらに、スピンチャックによって基板が鉛直軸線まわりに回転される。そして、回転状態の基板の上面に向けてノズルから処理液が吐出される。これにより、ノズルから基板の上面に処理液が供給される。ノズルから基板への処理液の供給が終了した後は、ノズル揺動機構が、基板の上方からノズルおよびノズルアームを退避させる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１０−１７７３７１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
基板処理装置において処理液を用いた処理が行われる場合、装置に配置されているノズルアームに処理液が付着することがある。ノズルアームは、基板の上方を移動する。したがって、ノズルアームに処理液が付着している状態でノズルアームが移動すると、ノズルアームに付着している処理液が、振り落とされて、基板上に落下する場合がある。たとえば、処理液の飛沫がノズルアームに付着し、ノズルアームを移動させたときにこの付着した処理液が基板上に落下する場合がある。薬液処理が行われた基板上に処理液が落下すると、薬液処理の均一性が低下する。また、乾燥処理が行われた基板上に処理液が落下すると、乾燥不良が発生する。
【０００６】
そこで、この発明の目的は、液切れのよいノズルアームを備える基板処理装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
前記目的を達成するための請求項１記載の発明は、基板（Ｗ）を処理する処理流体を吐出するノズル（３）と、前記ノズルを保持しており、水平面に沿う長手方向（Ｄ１）に延びているノズルアーム（４、２０４、３０４、４０４）と、を含み、前記長手方向に直交する、前記ノズルアームの少なくとも一部の直交断面（Ｃ１、Ｃ２０１、Ｃ３０１、Ｃ４０１）は、前記直交断面において最も上に位置している頂部（４５、２４５、３４５、４４５）と、前記頂部より側方に位置している側部（４２、２４６、３４６、４４６）と、前記頂部から前記側部まで下降し続けている上側傾斜部（４７、２４７、３４７、４４７）と、を含む、基板処理装置（１）である。なお、この項において、括弧内の英数字は、後述の実施形態における対応構成要素の参照符号を表すものであるが、これらの参照符号により特許請求の範囲を限定する趣旨ではない。
【０００８】
この構成によれば、ノズルを保持するノズルアームが、水平面に沿う長手方向に延びている。ノズルアームの少なくとも一部の直交断面（長手方向に直交する断面）は、頂部から側部まで下降し続けている上側傾斜部を含む。上側傾斜部が下降し続けているから、上側傾斜部に処理液が付着したとしても、この処理液は、上側傾斜部に沿って下に流れる。そして、この処理液は、ノズルアームから落下し除去される。すなわち、ノズルアームに処理液が付着したとしても、この処理液は、短時間でノズルアームから除去される。したがって、ノズルアームに対する処理液の残留量を低減することができる。
【０００９】
請求項２記載の発明は、前記直交断面は、前記直交断面において最も下に位置している底部（５０、２５０、３５０、４５０）と、前記側部から前記底部まで下降し続けている下側傾斜部（５２、２５２、３５２、４５２）と、をさらに含む、請求項１記載の基板処理装置である。
この構成によれば、ノズルアームの直交断面が、側部から底部まで下降し続けている下側傾斜部を含む。下側傾斜部が下降し続けているから、下側傾斜部に処理液が付着したとしても、この処理液は、下側傾斜部に沿って下に流れる。そして、この処理液は、ノズルアームから落下し除去される。したがって、ノズルアームに対する処理液の残留量を低減することができる。
【００１０】
請求項３記載の発明は、前記直交断面は、前記直交断面において最も側方に位置している左右一対の側端（４２、４３）を含み、一方の側端は、前記頂部を含み、前記側部は、他方の側端を含み、前記上側傾斜部は、前記一方の側端から前記他方の側端まで下降し続けている、請求項１または２記載の基板処理装置である。
この構成によれば、一方の側端が、頂部を含み、側部が、一方の側端とは反対側の他方の側端を含む。上側傾斜部は、頂部から側部まで延びている。したがって、上側傾斜部は、一方の側端から他方の側端まで延びている。すなわち、直交断面の上部は、一方の側端から他方の側端まで延びており、他方の側端に近づくほど下降している。そのため、直交断面の上部に付着した処理液は、共通の側端（他方の側端）に向かって流れ落ちる。これにより、直交断面の上部に付着している液滴同士を結合させて、その自重によって落下させることができる。したがって、ノズルアームに対する処理液の残留量を低減することができる。
【００１１】
請求項４記載の発明は、前記ノズルアームの下部に向けて気体を吐出する第1気体ノズル（３５）をさらに含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載の基板処理装置である。
この構成によれば、第１気体ノズルから吐出された気体がノズルアームの下部に吹き付けられる。前述のように、ノズルアームに付着した処理液は、ノズルアームに沿って下に流れる。すなわち、ノズルアームに付着した処理液は、ノズルアームの下部に集まる。この処理液が集まる位置に気体が吹き付けられる。これにより、ノズルアームに付着している処理液を吹き飛ばして効率的に除去することができる。したがって、ノズルアームに対する処理液の残留量を低減することができる。
【００１２】
請求項５記載の発明は、前記第1気体ノズルは、前記第1気体ノズルから吐出された気体が前記ノズルアームに沿って前記ノズルアームの長手方向に流れるように構成されている、請求項４記載の基板処理装置である。
この構成によれば、第１気体ノズルから吐出された気体がノズルアームに沿って長手方向に流れる。したがって、第１気体ノズルからノズルアームに気体が吹き付けられる範囲が広がる。これにより、より広い範囲から処理液を除去することができる。したがって、ノズルアームに対する処理液の残留量を低減することができる。
【００１３】
請求項６記載の発明は、前記第1気体ノズルは、前記ノズルアームの側方から前記ノズルアームの下部に向けて気体を吐出するように構成されており、前記上側傾斜部は、前記第1気体ノズルからの気体が吹き付けられる側に向かって下降している、請求項４または５記載の基板処理装置である。
この構成によれば、第１気体ノズルから吐出された気体が、ノズルアームの下部に対して側方から吹き付けられる。上側傾斜部は、第１気体ノズルからの気体が吹き付けられる側に向かって下降している。したがって、上側傾斜部に付着した処理液は、第１気体ノズルからの気体が吹き付けられる側に向かって流れ落ちる。言い換えると、第１気体ノズルから吐出された気体は、上側傾斜部に付着した処理液が集まる位置に吹き付けられる。したがって、上側傾斜部に付着した処理液を効率的に除去することができる。
【００１４】
請求項７記載の発明は、前記ノズルアームは、疎水性材料によって形成されている、請求項１〜６のいずれか一項に記載の基板処理装置である。
この構成によれば、ノズルアームが疎水性材料によって形成されているので、ノズルアームが疎水性を有している。したがって、ノズルアームが親水性の場合に比べて、ノズルアームに付着した処理液は、短時間でかつ小さい力でノズルアームから除去される。さらに、処理液がはじかれるから、ノズルアームに保持される処理液の量を低減することができる。したがって、ノズルアームに対する処理液の残留量を一層低減できる。
【００１５】
請求項８記載の発明は、前記ノズルアームの上面（２６）に向けて純水を吐出する純水ノズル（３３）をさらに含む、請求項１〜７のいずれか一項に記載の基板処理装置である。
この構成によれば、純水ノズルから吐出された純水がノズルアームの上面に供給される。これにより、ノズルアームの上面に付着しているパーティクル等の異物や処理液が洗い流される。したがって、ノズルアームの上面に付着している異物や処理液が基板上に落下して、基板が汚染されることを抑制または防止できる。さらに、前述のように、ノズルアームに供給された純水は、ノズルアームに沿って流れ落ちることによりノズルアームから短時間で除去されるので、ノズルアームへの純水の供給が終了した後に、ノズルアームから基板に純水が落下することを抑制または防止することができる。
【００１６】
請求項９記載の発明は、前記ノズルは、前記ノズルアームよりも下方に配置されたノズル下部（２３）を含み、前記基板処理装置は、前記ノズル下部に向けて気体を吐出する第２気体ノズル（３６）をさらに含む、請求項１〜８のいずれか一項に記載の基板処理装置である。
この構成によれば、第２気体ノズルから吐出された気体が、ノズルアームよりも下方に位置するノズル下部に吹き付けられる。ノズル下部は、ノズルアームよりも下方に配置されているから、ノズルの外表面に付着した処理液や、ノズルアームを伝ってノズルに移動した処理液は、ノズル下部に向かって流れ落ちる。したがって、第２気体ノズルから吐出された気体は、処理液が集まる位置に吹き付けられる。そのため、処理液を効率的に除去することができる。
【００１７】
請求項１０記載の発明は、前記ノズルアームは、前記ノズルを保持する先端部（２０）と、基端部（２１）とを含む棒状の部材であり、前記第１気体ノズルは、前記第１気体ノズルから吐出された気体が前記基端部から前記先端部に向かう方向（Ｄ２）に流れるように構成されており、前記第２気体ノズルは、前記第２気体ノズルから吐出された気体が前記基端部から前記先端部に向かう方向に流れるように構成されている、請求項９記載の基板処理装置である。
【００１８】
この構成によれば、第１気体ノズルから吐出された気体は、ノズルアームに沿って基端部から先端部に向かう方向に流れる。同様に、第２気体ノズルから吐出された気体は、ノズル下部に沿って基端部から先端部に向かう方向に流れる。すなわち、各気体ノズルから吐出された気体は、同じ向きに流れる。したがって、第１気体ノズルから吐出された気体と、第２気体ノズルから吐出された気体とが衝突して、各気体ノズルから吐出された気体の勢いが弱まることを抑制または防止することができる。これにより、ノズルおよびノズルアームに付着している処理液を確実に除去することができる。
【００１９】
請求項１１記載の発明は、基板を保持する基板保持手段（２）と、前記ノズルが前記基板保持手段に保持された基板の上方に位置している処理位置と、前記ノズルが前記基板保持手段に保持された基板の上方から退避している待機位置との間で前記ノズルアームを移動させる移動手段（１０）と、をさらに含み、前記第1気体ノズルは、前記待機位置に位置している前記ノズルアームの下部に向けて気体を吐出するように構成されている、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の基板処理装置である。
【００２０】
この構成によれば、移動手段の駆動力がノズルアームに伝達されることにより、ノズルアームが処理位置と待機位置との間で移動する。第１気体ノズルから吐出された気体は、待機位置に位置しているノズルアームの下部に吹き付けられる。したがって、第１気体ノズルを待機位置に配置することができる。すなわち、第１気体ノズルは、ノズルアームと共に移動するように構成されていなくてもよい。したがって、ノズルアームを含む可動部の大型化を抑制または防止することができる。
【００２１】
請求項１２記載の発明は、前記ノズルアームの前記少なくとも一部は、前記処理位置において前記基板保持手段に保持された基板の上方に位置している部分（２２）を含む、請求項１１記載の基板処理装置である。
この構成によれば、処理位置において基板保持手段に保持された基板の上方に位置している部分が、直交断面を有している。したがって、この部分に処理液が付着したとしても、この処理液は、短時間で除去される。そのため、基板上でノズルアームを移動させたとしても、ノズルアームから基板に処理液が落下することを抑制または防止できる。これにより、基板の汚染や品質低下を抑制または防止できる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明の第１実施形態に係る基板処理装置の概略構成を示す側面図である。
【図２】本発明の第１実施形態に係る基板処理装置の概略構成を示す平面図である。
【図３】本発明の第１実施形態に係るノズルアームおよびこれに関連する構成の側面図である。
【図４】図３に示す矢印ＩＶの方向から見たノズルアームの断面図である。
【図５】図４の一部を拡大した図である。
【図６】ノズルおよびノズルアームを洗浄するときの動作の一例について説明するための工程図である。
【図７】ノズルアームに純水が供給されているときの純水の動きの一例について説明するための断面図である。
【図８】ノズルアームに窒素ガスが供給されているときの純水の動きの一例について説明するための断面図である。
【図９】本発明の第２実施形態に係るノズルアームの断面図である。
【図１０】本発明の第３実施形態に係るノズルアームの断面図である。
【図１１】本発明の第４実施形態に係るノズルアームの断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下では、この発明の実施の形態を、添付図面を参照して詳細に説明する。
図１は、本発明の第１実施形態に係る基板処理装置１の概略構成を示す側面図である。図２は、本発明の第１実施形態に係る基板処理装置１の概略構成を示す平面図である。
基板処理装置１は、基板Ｗを１枚ずつ処理する枚葉式の基板処理装置である。基板処理装置１は、基板Ｗを水平に保持して回転させるスピンチャック２と、スピンチャック２に保持された基板Ｗの上面に向けて処理液を吐出するノズル３と、ノズル３を保持するノズルアーム４と、スピンチャック２の上方に配置された遮断板５と、これらの構成２〜５を収容する処理室６を区画する隔壁（図示せず）とを備えている。さらに、基板処理装置１は、基板処理装置１に備えられた装置の動作やバルブの開閉を制御する制御装置７を備えている。
【００２４】
スピンチャック２は、基板Ｗを水平に保持して当該基板Ｗの中心を通る鉛直軸線まわりに回転可能な円盤状のスピンベース８と、このスピンベース８を鉛直軸線まわりに回転させるスピンモータ９とを含む。スピンチャック２は、基板Ｗを水平方向に挟んで当該基板Ｗを水平に保持する挟持式のチャックであってもよいし、非デバイス形成面である基板Ｗの裏面（下面）を吸着することにより当該基板Ｗを水平に保持するバキューム式のチャックであってもよい。第１実施形態では、スピンチャック２は、たとえば挟持式のチャックである。
【００２５】
ノズル３は、液体と気体とを衝突させることにより複数の液滴を生成し、生成された複数の液滴を基板Ｗに向けて吐出する二流体ノズルである。第１実施形態では、液体の一例である純水が、ノズル３に供給され、気体の一例である窒素ガスが、ノズル３に供給される。ノズル３は、その吐出口が下方に向けられた状態でスピンチャック２よりも上方に配置されている。ノズル３は、二流体ノズルに限らず、連続流の状態で処理液を吐出するストレートノズルであってもよいし、窒素ガスなどの気体を吐出するノズルであってもよい。
【００２６】
ノズル３は、ノズルアーム４の先端部２０で保持されている。ノズルアーム４は、水平面に沿う長手方向Ｄ１に延びている。図２に示すように、ノズルアーム４の基端部２１は、ノズル回転機構１０に連結されている。ノズル回転機構１０は、スピンチャック２の側方に設けられた鉛直なノズル回転軸線Ｌ１まわりに、ノズル３およびノズルアーム４を回転させる。ノズル回転機構１０は、ノズル３がスピンチャック２の上方に位置している処理位置（図１に示す位置および図２において実線で示す位置）と、ノズル３がスピンチャック２の上方から退避している待機位置（図２において二点鎖線で示す位置）と、の間でノズル３およびノズルアーム４を水平に移動させる。待機位置には、処理液を受け止めるポッド１１が配置されている。ポッド１１は、上向きに開いた容器である。ポッド１１は、ノズル３が待機位置に配置されているときに、ノズル３の下方に位置するように配置されている。
【００２７】
遮断板５は、基板Ｗとほぼ同じ直径を有する円板状の部材である。遮断板５は、水平な姿勢で支軸１２に支持されている。支軸１２は、遮断板昇降機構１３および遮断板回転機構１４に連結されている。遮断板昇降機構１３は、遮断板５の下面が基板Ｗの上面に近接している処理位置と、処理位置の上方に設けられた退避位置（図１に示す位置）との間で、遮断板５および支軸１２を昇降させる。遮断板回転機構１４は、基板Ｗの中心を通る鉛直軸線まわりに遮断板５および支軸１２を回転させる。支軸１２は、円筒状である。支軸１２の内部空間は、遮断板５の中央部を鉛直方向に貫通する貫通孔１５に接続されている。第１配管１６は、支軸１２内に挿入されており、第２配管１７は、第１配管１６に接続されている。第２配管１７に介装された純水バルブ１８が開かれると、第２配管１７から第１配管１６に純水が供給され、純水バルブ１８が閉じられると、第１配管１６への純水の供給が停止される。第１配管１６に供給された純水は、中心軸ノズル１９を構成する第１配管１６の下端部から基板Ｗの上面中央部に向けて吐出される。
【００２８】
中心軸ノズル１９から基板Ｗに処理液を供給するときには、たとえば、制御装置７が、スピンモータ９を制御することにより、スピンチャック２に保持された基板Ｗを回転させる。そして、制御装置７は、遮断板５を処理位置に位置させた状態で、回転状態の基板Ｗの上面に向けて中心軸ノズル１９から処理液を吐出させる。中心軸ノズル１９から吐出された処理液は、基板Ｗの上面中央部に供給された後、基板Ｗの回転による遠心力によって基板Ｗの上面に沿って外方に広がる。これにより、基板Ｗの上面全域に処理液が供給され、基板Ｗが処理される。
【００２９】
また、ノズル３から基板Ｗに処理液を供給するときには、たとえば、制御装置７が、スピンモータ９を制御することにより、スピンチャック２に保持された基板Ｗを回転させる。そして、制御装置７は、ノズル３を処理位置に位置させた状態で、回転状態の基板Ｗの上面に向けてノズル３から処理液を吐出させる。第１実施形態では、ノズル３が二流体ノズルであるので、複数の液滴が、ノズル３から基板Ｗの上面に向けて噴射される。これにより、基板Ｗの上面に処理液が供給され、基板Ｗが処理される。
【００３０】
図３は、本発明の第１実施形態に係るノズルアーム４およびこれに関連する構成の側面図である。図４は、図３に示す矢印ＩＶの方向から見たノズルアーム４の断面図である。図３は、ノズル３およびノズルアーム４が待機位置に配置されている状態を示している。
ノズルアーム４は、先端部２０と基端部２１とを含む棒状の部材である。すなわち、ノズルアーム４は、先端部２０と、基端部２１と、基端部２１と先端部２０とを接続する棒状のアーム部２２とを含む。アーム部２２は、長手方向Ｄ１に延びている。先端部２０および基端部２１は、それぞれ、アーム部２２の一端部および他端部に結合されている。ノズル３は、先端部２０に保持されている。先端部２０は、基端部２１から離れる方向に向かってアーム部２２の一端部から下方に延びている。ノズル３は、柱状であり、鉛直な姿勢で先端部２０に保持されている。ノズル３は、先端部２０から下方に延びるノズル下部２３を含む。ノズル下部２３は、基端部２１およびアーム部２２よりも下方に配置されている。また、基端部２１は、ボルト２４によってベース２５に取り付けられている。ノズル回転機構１０の駆動力は、ベース２５を介してノズルアーム４に伝達される。先端部２０およびアーム部２２は、処理位置においてスピンチャック２に保持された基板Ｗの上方に位置する部分である（図２参照）。
【００３１】
ノズルアーム４は、疎水性材料によって形成されている。疎水性材料としては、たとえば、ポリテトラフルオロエチレンなどのフッ素樹脂が挙げられる。図４に示すように、アーム部２２は、上面２６、右側面２７、左側面２８、およびＶ字状の下面２９を含む五角形状の直交断面Ｃ１（長手方向Ｄ１に直交する断面）を有している。アーム部２２の直交断面Ｃ１は、アーム部２２の一端部からアーム部２２の他端部まで一定である。すなわち、直交断面Ｃ１は、アーム部２２の一端部からアーム部２２の他端部まで同じ形で同じ大きさ（同形同大）である。アーム部２２には、ノズルアーム４を補強する棒状の芯材３０が埋め込まれている。芯材３０は、たとえば、ステンレス鋼によって形成されている。さらに、アーム部２２の内部には、ノズル３に液体を供給する液体供給管３１と、ノズル３に気体を供給する気体供給管３２とが差し込まれている。芯材３０、液体供給管３１、および気体供給管３２は、アーム部２２内で長手方向Ｄ１に延びている。図３に示すように、液体供給管３１および気体供給管３２は、アーム部２２から先端部２０側に突出しており、ノズル３に接続されている。
【００３２】
基板処理装置１は、ノズルアーム４に純水を供給してノズルアーム４を洗浄する第１純水ノズル３３（純水ノズル）および第２純水ノズル３４と、ノズルアーム４に気体を供給してノズルアーム４に付着している純水を除去する第１気体ノズル３５および第２気体ノズル３６とをさらに含む。図３に示すように、第１純水ノズル３３および第２純水ノズル３４は、ノズルアーム４の基端部２１の近傍に配置されている。第１純水ノズル３３は、ノズルアーム４の上方に配置されており、第２純水ノズル３４は、ノズルアーム４の下方に配置されている。さらに、図４に示すように、第１純水ノズル３３および第２純水ノズル３４は、直交断面Ｃ１の幅方向（長手方向Ｄ１に直交する水平な方向）に関する中心を通る鉛直な軸線ＣＬ１上に配置されている。第１純水ノズル３３および第２純水ノズル３４は、ノズルアーム４と共にノズル回転軸線Ｌ１まわりに水平に移動するように保持されている。
【００３３】
図３に示すように、第１純水ノズル３３および第２純水ノズル３４には共通の純水バルブ３７を介して、洗浄液としての純水が供給される。すなわち、純水バルブ３７が開かれると、第１純水ノズル３３に純水が供給され、ノズルアーム４に向けて第１純水ノズル３３から純水が吐出される。さらに、純水バルブ３７が開かれると、第２純水ノズル３４に純水が供給され、ノズルアーム４に向けて第２純水ノズル３４から純水が吐出される。したがって、純水バルブ３７が開かれると、第１純水ノズル３３および第２純水ノズル３４から純水が吐出される。
【００３４】
第１純水ノズル３３は、第１純水ノズル３３からたとえば水平に純水が吐出されるように配置されている。第１純水ノズル３３から吐出された純水は、ノズルアーム４に沿って長手方向Ｄ１に流れる。一方、第２純水ノズル３４は、第２純水ノズル３４からたとえば斜め上向きに純水が吐出されるように配置されている。第２純水ノズル３４から吐出された純水は、ノズルアーム４の下部に供給される。そして、ノズルアーム４に供給された純水は、ノズルアーム４に沿って長手方向Ｄ１に流れる。
【００３５】
また、図３に示すように、第１気体ノズル３５および第２気体ノズル３６は、ノズルアーム４よりも下方に配置されている。第１気体ノズル３５は、ノズルアーム４の基端部２１側に配置されており、第２気体ノズル３６は、ノズルアーム４の先端部２０側に配置されている。第1気体ノズル３５は、平面視においてノズルアーム４に重なり合わないように配置されている（図２参照）。また、第２気体ノズル３６は、ノズル下部２３の近傍に配置されている。第２気体ノズル３６は、ノズル下部２３に対して水平方向に対向している。第１気体ノズル３５および第２気体ノズル３６は、それぞれ、待機位置に配置された第１ステー３８および第２ステー３９によって保持されている。したがって、ノズル３およびノズルアーム４がノズル回転軸線Ｌ１まわりに回転すると、第１気体ノズル３５および第２気体ノズル３６は、ノズル３およびノズルアーム４に対して相対移動する。
【００３６】
図３に示すように、第１気体ノズル３５および第２気体ノズル３６には共通の気体バルブ４０を介して、気体の一例である窒素ガスが供給される。すなわち、気体バルブ４０が開かれると、第１気体ノズル３５に窒素ガスが供給され、ノズルアーム４に向けて第１気体ノズル３５から窒素ガスが吐出される。さらに、気体バルブ４０が開かれると、第２気体ノズル３６に窒素ガスが供給され、ノズル３に向けて第２気体ノズル３６の第２気体吐出口から窒素ガスが吐出される。したがって、気体バルブ４０が開かれると、第１気体ノズル３５および第２気体ノズル３６から窒素ガスが吐出される。
【００３７】
第１気体ノズル３５は、第１気体ノズル３５からたとえば斜め上向きに窒素ガスが吐出されるように配置されている。第１気体ノズル３５から吐出された窒素ガスは、ノズルアーム４の下部に吹き付けられる。そして、ノズルアーム４に吹き付けられた窒素ガスは、ノズルアーム４の下部に沿って長手方向Ｄ１に流れる。さらに、第1気体ノズル３５およびノズルアーム４が平面視において重なり合わないように配置されているので、第１気体ノズル３５から吐出された窒素ガスは、ノズルアーム４の下部に対して側方から吹き付けられる。一方、第２気体ノズル３６は、第２気体ノズル３６からたとえば水平に窒素ガスが吐出されるように配置されている。第２気体ノズル３６から吐出された窒素ガスは、ノズル下部２３に吹き付けられる。
【００３８】
図５は、図４の一部を拡大した図である。以下では、ノズルアーム４の断面（アーム部２２の直交断面Ｃ１）について詳細に説明する。
前述のように、直交断面Ｃ１は、たとえば、五角形状である。直交断面Ｃ１は、上部４１、右側部４２（側部、他方の側端）、左側部４３（一方の側端）、および下部４４を含む。上部４１、右側部４２、左側部４３、および下部４４は、それぞれ、上面２６、右側面２７、左側面２８、および下面２９の一部である。上部４１は、水平面に対して傾斜している。右側部４２および左側部４３は、上下方向に延びている。下部４４は、水平面に対して傾斜している。下部４４は、たとえばＶ字状である。
【００３９】
上部４１は、左端４５（頂部）と、右端４６と、左端４５と右端４６とを接続する上側傾斜部４７とを含む。上部４１の左端４５は、直交断面Ｃ１において最も上に位置している。したがって、上部４１の右端４６は、上部４１の左端４５よりも下方に位置している。上側傾斜部４７は、上部４１の右端４６に近づくほど下降するように連続的に傾斜している。すなわち、上側傾斜部４７は、頂部としての上部４１の左端４５から右側部４２の一部である上部４１の右端４６まで下降し続けている。上側傾斜部４７の傾斜角度は、たとえば一定である。上側傾斜部４７の傾斜角度は、一定に限らず、連続的に変化していてもよい。すなわち、上側傾斜部４７は、第１実施形態のような直線であってもよいし、上または下に凸の曲線であってもよい。
【００４０】
また、下部４４は、左端４８と、右端４９と、左端４８と右端４９との間に配置された下端５０（底部）と、左端４８と下端５０とを接続する左側傾斜部５１と、右端４９と下端５０とを接続する右側傾斜部５２（下側傾斜部）とを含む。下端５０は、直交断面Ｃ１において最も下に位置している。したがって、下部４４の左端４８および右端４９は、下端５０よりも上方に位置している。左側傾斜部５１は、左側部４３の一部である下部４４の左端４８から底部としての下端５０まで下降し続けるように連続的に傾斜している。同様に、右側傾斜部５２は、右側部４２の一部である下部４４の右端４９から底部としての下端５０まで下降し続けるように連続的に傾斜している。左側傾斜部５１および右側傾斜部５２の傾斜角度は、一定であってもよいし、連続的に変化していてもよい。さらに、左側傾斜部５１の傾斜角度や変化の状態は、右側傾斜部５２と同じであってもよいし、異なっていてもよい。下部４４は、直交断面Ｃ１の幅（左右方向への長さ）が下端５０に近づくほど減少するように傾斜している。
【００４１】
また、左側部４３は、上部４１の左端４５から下部４４の左端４８まで下方に延びている。上部４１の左端４５、左側部４３、および下部４４の左端４８は、直交断面Ｃ１において最も左側方に位置している。上部４１の左端４５は、上部４１の一部であると共に、左側部４３の一部でもある。同様に、下部４４の左端４８は、下部４４の一部であると共に、左側部４３の一部でもある。左側部４３は、直交断面Ｃ１において最も側方に位置している一方の側端である。
【００４２】
また、右側部４２は、上部４１の右端４６から下部４４の右端４９まで下方に延びている。上部４１の右端４６、右側部４２、および下部４４の右端４９は、直交断面Ｃ１において最も右側方に位置している。上部４１の右端４６は、上部４１の一部であると共に、右側部４２の一部でもある。同様に、下部４４の右端４９は、下部４４の一部であると共に、右側部４２の一部でもある。右側部４２は、直交断面Ｃ１において最も側方に位置している他方の側端である。すなわち、右側部４２および左側部４３は、軸線ＣＬ１に対して互いに反対側に配置された左右一対の側端である。
【００４３】
第１気体ノズル３５は、ノズルアーム４の側方からノズルアーム４の下部に向けて気体を吐出するように構成されている。すなわち、第1気体ノズル３５から吐出された窒素ガスは、ノズルアーム４の右側面２７や下面２９に対して右側方から吹き付けられる。前述のように、上側傾斜部４７は、上部４１の右端４６に近づくほど下降するように傾斜している。したがって、上側傾斜部４７は、第1気体ノズル３５からの気体が吹き付けられる側に向かって下降している（図８参照）。
【００４４】
図６は、ノズル３およびノズルアーム４を洗浄するときの動作の一例について説明するための工程図である。図７は、ノズルアーム４に純水が供給されているときの純水の動きの一例について説明するための断面図である。図８は、ノズルアーム４に窒素ガスが供給されているときの純水の動きの一例について説明するための断面図である。以下では、図３を参照する。また、以下の説明では、図１、図６、図７および図８を適宜参照する。
【００４５】
ノズル３およびノズルアーム４の洗浄は、たとえば、スピンチャック２に基板Ｗが保持されていない状態で行われる。また、ノズル３およびノズルアーム４の洗浄では、最初に、たとえば第１純水ノズル３３および第２純水ノズル３４からノズルアーム４に向けて純水が吐出される（図６のステップＳ１、第１純水供給工程）。具体的には、制御装置７は、ノズル３およびノズルアーム４を待機位置に位置させた状態で、純水バルブ３７を開いて、第１純水ノズル３３および第２純水ノズル３４から純水を吐出させる。
【００４６】
第１純水ノズル３３から吐出された純水の大部分は、アーム部２２の上面２６に供給され、第１純水ノズル３３から吐出された純水の一部は、アーム部２２の右側面２７および左側面２８に供給される。アーム部２２の上面２６が水平面に対して傾斜しているので、アーム部２２の上面２６に供給された純水は、先端部２０に向かって長手方向Ｄ１に移動しながら、上面２６に沿って下方に流れる（図７参照）。そして、上部４１の右端４６に達した純水は、上部４１の右端４６から側方に飛散したり、右側面２７に沿って下方に流れたりする。また、右側面２７および左側面２８に供給された純水は、先端部２０に向かって長手方向Ｄ１に移動しながら、右側面２７または左側面２８に沿って下方に流れる。そして、図７に示すように、右側面２７の下端（下部４４の右端４９）および左側面２８の下端（下部４４の左端４８）に達した純水は、右側面２７または左側面２８から落下したり、下面２９に沿って下方に流れたりする。
【００４７】
一方、第２純水ノズル３４から吐出された純水の大部分は、アーム部２２の下面２９に供給され、第２純水ノズル３４から吐出された純水の一部は、アーム部２２の右側面２７および左側面２８に供給される。前述のように、右側面２７および左側面２８に供給された純水は、右側面２７または左側面２８から落下したり、下面２９に沿って下方に流れたりする。その一方で、アーム部２２の下面２９が水平面に対して傾斜しているので、アーム部２２の下面２９に供給された純水は、先端部２０に向かって長手方向Ｄ１に移動しながら、下面２９に沿って下方に流れる（図７参照）。つまり、アーム部２２の下面２９に供給された純水は、下端５０に向かって移動するように下面２９に沿って流れる。そして、下端５０に達した純水の一部は、ノズルアーム４から落下する。
【００４８】
このように、第１純水ノズル３３および第２純水ノズル３４から吐出された純水は、アーム部２２の上面２６、右側面２７、左側面２８、および下面２９に供給される。これにより、アーム部２２に付着しているパーティクルなどの異物や処理液が純水によって洗い流される。また、第１純水ノズル３３および第２純水ノズル３４からアーム部２２に供給された純水は、先端部２０に向かって長手方向Ｄ１に流れる。そして、先端部２０の近傍に達した純水は、アーム部２２から先端部２０に移動し、先端部２０やノズル３に沿って下方に流れる。これにより、先端部２０やノズル３に付着している異物等が純水によって洗い流される。そして、先端部２０やノズル３から落下した純水は、ポッド１１によって受け止められる。
【００４９】
次に、第１気体ノズル３５および第２気体ノズル３６からノズル３およびノズルアーム４に向けて窒素ガスが吐出される（図６のステップＳ２、第１気体供給工程）。具体的には、制御装置７は、ノズル３およびノズルアーム４を待機位置に位置させた状態で、気体バルブ４０を開いて、第１気体ノズル３５および第２気体ノズル３６から窒素ガスを吐出させる。
【００５０】
第１気体ノズル３５から吐出された窒素ガスの大部分は、アーム部２２の下面２９に吹き付けられ、第１気体ノズル３５から吐出された窒素ガスの一部は、アーム部２２の右側面２７および左側面２８に吹き付けられる（図８参照）。アーム部２２の下面２９に吹き付けられた窒素ガスは、下面２９に沿って先端部２０の方へ長手方向Ｄ１に流れる。また、アーム部２２の右側面２７および左側面２８に吹き付けられた窒素ガスは、右側面２７または左側面２８に沿って先端部２０の方へ長手方向Ｄ１に流れる。これにより、アーム部２２の下面２９、右側面２７、および左側面２８に付着している純水が、窒素ガスによって吹き飛ばされ除去される。
【００５１】
一方、第２気体ノズル３６から吐出された窒素ガスの大部分は、ノズル下部２３に吹き付けられる。また、第１気体ノズル３５からアーム部２２に向けて吐出され、先端部２０の近傍に達した窒素ガスは、先端部２０やノズル３に沿って流れる。したがって、先端部２０には、第１気体ノズル３５から吐出された窒素ガスが吹き付けられ、ノズル３には、第１気体ノズル３５および第２気体ノズル３６から吐出された窒素ガスが吹き付けられる。これにより、先端部２０やノズル３に付着している純水が吹き飛ばされ除去される。
【００５２】
このように、第１気体ノズル３５から窒素ガスが吐出されることにより、アーム部２２の下面２９、右側面２７、および左側面２８から純水が除去される。第１気体ノズル３５から吐出された窒素ガスは、アーム部２２の上面２６に殆ど供給されないが、アーム部２２の上面２６に供給された純水は、上面２６の傾斜によって流れ落ちることにより、上面２６から除去される。したがって、アーム部２２の下面２９、右側面２７、および左側面２８から純水を除去することにより、アーム部２２全体から純水を除去することができる。さらに、第１気体ノズル３５から吐出された窒素ガスは、ノズル３や先端部２０にも供給されるので、ノズル３およびノズルアーム４に付着している純水を効率的に除去することができる。
【００５３】
次に、中心軸ノズル１９からノズル３およびノズルアーム４の先端部２０に向けて純水が吐出される（図６のステップＳ３、第２純水供給工程）。具体的には、制御装置７は、遮断板５を待機位置に位置させた状態で、ノズル回転機構１０を制御して、ノズル３およびノズルアーム４を処理位置に移動させる（図１参照）。すなわち、制御装置７は、ノズル３を中心軸ノズル１９の下方に移動させる。そして、制御装置７は、ノズル３が中心軸ノズル１９の下方に位置する状態で、純水バルブ１８を開いて、中心軸ノズル１９からノズル３に向けて純水を吐出させる。
【００５４】
中心軸ノズル１９から吐出された純水の大部分は、ノズル３およびノズルアーム４の先端部２０に供給される。すなわち、ノズル３および先端部２０には、第１純水ノズル３３および第２純水ノズル３４からだけでなく、中心軸ノズル１９からも純水が供給される。これにより、ノズル３および先端部２０に純水が十分に供給される。特に、第１純水ノズル３３および第２純水ノズル３４からの純水が十分に供給されない範囲（ノズル３の凹部や、ノズルアーム４の湾曲部）にも確実に純水が供給される。これにより、ノズル３および先端部２０に付着している異物や処理液が確実に除去される。
【００５５】
次に、第１気体ノズル３５および第２気体ノズル３６からノズル３およびノズルアーム４に向けて窒素ガスが吐出される（図６のステップＳ４、第２気体供給工程）。具体的には、制御装置７は、遮断板５を待機位置に位置させた状態で、ノズル回転機構１０を制御して、ノズル３およびノズルアーム４を待機位置に移動させる。そして、制御装置７は、ノズル３およびノズルアーム４を待機位置に位置させた状態で、気体バルブ４０を開いて、第１気体ノズル３５および第２気体ノズル３６から窒素ガスを吐出させる。前述のように、ノズル３、先端部２０、およびアーム部２２に付着している純水は、第１気体ノズル３５および第２気体ノズル３６から吐出された窒素ガスによって除去される。これにより、ノズル３およびノズルアーム４が乾燥し、ノズル３およびノズルアーム４の洗浄が完了する。
【００５６】
以上のように第１実施形態では、ノズル３を保持するノズルアーム４が、水平面に沿う長手方向Ｄ１に延びている。アーム部２２の直交断面Ｃ１は、頂部（左端４５）から右側部４２まで下降し続けている上側傾斜部４７を含む。上側傾斜部４７が下降し続けているから、上側傾斜部４７に処理液が付着したとしても、この処理液は、上側傾斜部４７に沿って下に流れる。そして、この処理液は、ノズルアーム４から落下し除去される。すなわち、ノズルアーム４に処理液が付着したとしても、この処理液は、短時間でノズルアーム４から除去される。したがって、ノズルアーム４に対する処理液の残留量を低減することができる。
【００５７】
また第１実施形態では、直交断面Ｃ１が、右側部４２から底部（下端４４）まで下降し続けている右側傾斜部５２と、左側部４３から底部まで下降し続けている左側傾斜部５１とを含む。右側傾斜部５２および左側傾斜部５１が底部まで下降し続けているから、右側傾斜部５２および左側傾斜部５１に処理液が付着したとしても、この処理液は、右側傾斜部５２および左側傾斜部５１に沿って下に流れる。そして、この処理液は、ノズルアーム４から落下し除去される。したがって、ノズルアーム４に対する処理液の残留量を低減することができる。
【００５８】
また第１実施形態では、直交断面Ｃ１の一方の側端が、頂部（左端４５）を含み、右側部４２が、直交断面Ｃ１の他方の側端を含む。上側傾斜部４７は、頂部から右側部４２まで延びている。したがって、上側傾斜部４７は、一方の側端から他方の側端まで延びている。すなわち、直交断面Ｃ１の上部４１は、一方の側端から他方の側端まで延びており、他方の側端に近づくほど下降している。そのため、直交断面Ｃ１の上部４１に付着した処理液は、共通の側端（他方の側端）に向かって流れ落ちる。これにより、直交断面Ｃ１の上部４１に付着している液滴同士を結合させて、その自重によって落下させることができる。したがって、ノズルアーム４に対する処理液の残留量を低減することができる。
【００５９】
また第１実施形態では、第１気体ノズル３５から吐出された窒素ガスがノズルアーム４の下部に吹き付けられる。前述のように、ノズルアーム４に付着した処理液は、ノズルアーム４に沿って下に流れる。すなわち、ノズルアーム４に付着した処理液は、ノズルアーム４の下部に集まる。この処理液が集まる位置に窒素ガスが吹き付けられる。これにより、ノズルアーム４に付着している処理液を吹き飛ばして効率的に除去することができる。したがって、ノズルアーム４に対する処理液の残留量を低減することができる。
【００６０】
また第１実施形態では、第１気体ノズル３５から吐出された窒素ガスがノズルアーム４に沿って長手方向Ｄ１に流れる。したがって、第１気体ノズル３５からノズルアーム４に窒素ガスが吹き付けられる範囲が広がる。これにより、より広い範囲から処理液を除去することができる。したがって、ノズルアーム４に対する処理液の残留量を低減することができる。
【００６１】
また第１実施形態では、第１気体ノズル３５から吐出された窒素ガスが、ノズルアーム４の下部に対して側方から吹き付けられる。上側傾斜部４７は、第１気体ノズル３５からの窒素ガスが吹き付けられる側に向かって下降している。したがって、上側傾斜部４７に付着した処理液は、第１気体ノズル３５からの窒素ガスが吹き付けられる側に向かって流れ落ちる。言い換えると、第１気体ノズル３５から吐出された窒素ガスは、上側傾斜部４７に付着した処理液が集まる位置に吹き付けられる。したがって、上側傾斜部４７に付着した処理液を効率的に除去することができる。
【００６２】
また第１実施形態では、ノズルアーム４が疎水性を有している。したがって、ノズルアーム４が親水性の場合に比べて、ノズルアーム４に付着した処理液は、短時間でかつ小さい力でノズルアーム４から除去される。さらに、処理液がはじかれるから、ノズルアーム４に保持される処理液の量を低減することができる。したがって、ノズルアーム４に対する処理液の残留量を一層低減できる。
【００６３】
また第１実施形態では、第１純水ノズル３３から吐出された純水がノズルアーム４の上面２６に供給される。これにより、ノズルアーム４の上面２６に付着しているパーティクル等の異物や処理液が洗い流される。したがって、ノズルアーム４の上面２６に付着している異物や処理液が基板Ｗ上に落下して、基板Ｗが汚染されることを抑制または防止できる。さらに、前述のように、ノズルアーム４に供給された純水は、ノズルアーム４に沿って流れ落ちることによりノズルアーム４から短時間で除去されるので、ノズルアーム４への純水の供給が終了した後に、ノズルアーム４から基板Ｗに純水が落下することを抑制または防止することができる。
【００６４】
また第１実施形態では、第２気体ノズル３６から吐出された窒素ガスが、ノズルアーム４よりも下方に位置するノズル下部２３に吹き付けられる。ノズル下部２３は、ノズルアーム４よりも下方に配置されているから、ノズル３の外表面に付着した処理液や、ノズルアーム４を伝ってノズル３に移動した処理液は、ノズル下部２３に向かって流れ落ちる。したがって、第２気体ノズル３６から吐出された窒素ガスは、処理液が集まる位置に吹き付けられる。そのため、処理液を効率的に除去することができる。
【００６５】
また第１実施形態では、第１気体ノズル３５から吐出された窒素ガスは、ノズルアーム４に沿って基端部２１から先端部２０に向かう方向Ｄ２（図３参照）に流れる。同様に、第２気体ノズル３６から吐出された窒素ガスは、ノズル下部２３に沿って基端部２１から先端部２０に向かう方向Ｄ２に流れる。すなわち、各気体ノズル３５、３６から吐出された窒素ガスは、同じ向きに流れる。したがって、第１気体ノズル３５から吐出された窒素ガスと、第２気体ノズル３６から吐出された窒素ガスとが衝突して、各気体ノズル３５、３６から吐出された窒素ガスの勢いが弱まることを抑制または防止することができる。これにより、ノズル３およびノズルアーム４に付着している処理液を確実に除去することができる。
【００６６】
また第１実施形態では、ノズル回転機構１０の駆動力がノズルアーム４に伝達されることにより、ノズルアーム４が処理位置と待機位置との間で移動する。第１気体ノズル３５から吐出された窒素ガスは、待機位置に位置しているノズルアーム４の下部に吹き付けられる。したがって、第１気体ノズル３５をノズルアーム４の待機位置に配置することができる。すなわち、第１気体ノズル３５は、ノズルアーム４と共に移動するように構成されていなくてもよい。したがって、ノズルアーム４を含む可動部の大型化を抑制または防止することができる。
【００６７】
また第１実施形態では、処理位置においてスピンチャック２に保持された基板Ｗの上方に位置している部分、すなわち、アーム部２２が、直交断面Ｃ１を有している。したがって、アーム部２２に処理液が付着したとしても、この処理液は、短時間で除去される。そのため、基板Ｗ上でノズルアーム４を移動させたとしても、ノズルアーム４から基板Ｗに処理液が落下することを確実に抑制または防止できる。これにより、基板Ｗの汚染や品質低下を抑制または防止できる。
【００６８】
この発明の実施の形態の説明は以上であるが、この発明は、前述の第１実施形態の内容に限定されるものではなく、請求項記載の範囲内において種々の変更が可能である。
たとえば、前述の第１実施形態では、直交断面Ｃ１が、図５に示す五角形状である場合について説明した。しかし、直交断面Ｃ１の形状は、図５の上下が反転された形状であってもよい。すなわち、直交断面Ｃ１の上部が、倒立Ｖ字状で、直交断面Ｃ１の下部が、一方の側端から他方の側端まで延びる斜線であってもよい。さらに、直交断面Ｃ１は、五角形以外の多角形であってもよい。
【００６９】
具体的には、たとえば図９に示すノズルアーム２０４のように、ノズルアーム２０４の直交断面Ｃ２０１は、三角形状であってもよい。直交断面Ｃ２０１は、頂部２４５と、側部２４６と、上側傾斜部２４７とを含む。さらに、直交断面Ｃ２０１は、底部２５０と、下側傾斜部２５２とを含む。
また、図１０に示すノズルアーム３０４のように、ノズルアーム３０４の直交断面Ｃ３０１は、四角形状であってもよい。直交断面Ｃ３０１は、頂部３４５と、側部３４６と、上側傾斜部３４７とを含む。さらに、直交断面Ｃ３０１は、底部３５０と、下側傾斜部３５２とを含む。
【００７０】
また、前述の第１実施形態では、直交断面Ｃ１が、複数の直線によって区画されている場合について説明したが、直交断面Ｃ１は、直線および曲線を含んでいてもよいし、曲線によって区画されていてもよい。
具体的には、たとえば図１１に示すノズルアーム４０４のように、ノズルアーム４０４の直交断面Ｃ４０１は、下側に凸の曲線と、水平面に対して傾斜している直線とによって区画されていてもよい。直交断面Ｃ４０１は、頂部４４５と、側部４４６と、上側傾斜部４４７とを含む。さらに、直交断面Ｃ４０１は、底部４５０と、下側傾斜部４５２とを含む。
【００７１】
また、前述の第１実施形態では、アーム部２２が、アーム部２２の一端部からアーム部２２の他端部まで一定の断面（直交断面Ｃ１）を有している場合について説明した。しかし、アーム部２２の断面は、変化していてもよい。
具体的には、任意の２つの位置におけるアーム部２２の断面が相似（同形）であり、アーム部２２の断面積（大きさ）が連続的に変化していてもよい。この場合、アーム部２２の断面積は、アーム部２２の一端部（先端部２０側の端部）に近づくほど減少していてもよい。また、アーム部２２の断面形状（直交断面Ｃ１の形状）は、アーム部２２の一端部に近づくに従って連続的に変化していてもよい。この場合、アーム部２２の断面積は、一定であってもよいし、アーム部２２の一端部に近づくほど減少していてもよい。
【００７２】
また、前述の第１実施形態では、第１純水ノズル３３および第２純水ノズル３４からノズルアーム４に純水が供給される場合について説明した。しかし、第１純水ノズル３３および第２純水ノズル３４以外のノズルからノズルアーム４に純水が供給されてもよい。
具体的には、遮断板５の上面に純水を供給する純水ノズル５５３（図１参照）が設けられていてもよい。この場合、制御装置７は、遮断板回転機構１４を制御することにより遮断板５を回転させながら、回転状態の遮断板５の上面に向けて純水ノズル５５３から純水を吐出させてもよい。純水ノズル５５３から吐出された純水は、遮断板５の上面に供給され、遮断板５の回転による遠心力によって遮断板５の周囲に振り切られる。したがって、遮断板５から振り切られた純水は、処理室６を区画する隔壁（図示せず）に衝突して跳ね返る。そして、跳ね返った純水がノズルアーム４に供給される。これにより、ノズルアーム４に付着している異物や処理液が洗い流される。
【００７３】
また、前述の第１実施形態では、ノズル３を保持する先端部２０がノズルアーム４に設けられている場合について説明した。しかし、先端部２０が設けられておらず、アーム部２２の一端部にノズル３が保持されていてもよい。すなわち、アーム部２２の一端部が、ノズル３を保持する先端部であってもよい。
また、前述の第１実施形態では、第１気体ノズル３５および第２気体ノズル３６から吐出される気体が窒素ガスである場合について説明した。しかし、第１気体ノズル３５および第２気体ノズル３６から吐出される気体は、窒素ガスに限らず、アルゴンガスなどの窒素ガス以外の不活性ガスであってもよいし、乾燥空気や、清浄空気であってもよい。
【００７４】
また、前述の第１実施形態では、第１純水ノズル３３および第２気体ノズル３６から水平に流体（純水または窒素ガス）が吐出され、第２純水ノズル３４および第１気体ノズル３５から斜め上向きに流体が吐出される場合について説明した。しかし、第１純水ノズル３３および第２気体ノズル３６からの流体の吐出方向は、斜め上向きまたは斜め下向きであってもよい。また、第２純水ノズル３４および第１気体ノズル３５からの純水の吐出方向は、水平方向であってもよい。
【００７５】
また、前述の第１実施形態では、共通の純水バルブ３７を介して第１純水ノズル３３および第２純水ノズル３４に純水が供給され、共通の気体バルブ４０を介して第１気体ノズル３５および第２気体ノズル３６に窒素ガスが供給される場合について説明した。しかし、別々のバルブを介して第１純水ノズル３３および第２純水ノズル３４に純水が供給されてもよい。同様に、別々のバルブを介して第１気体ノズル３５および第２気体ノズル３６に窒素ガスが供給されてもよい。
【００７６】
その他、特許請求の範囲に記載された事項の範囲で種々の設計変更を施すことが可能である。
【符号の説明】
【００７７】
１ 基板処理装置
２ スピンチャック（基板保持手段）
３ ノズル
４ ノズルアーム
１０ ノズル回転機構（移動手段）
２０ 先端部
２１ 基端部
２２ アーム部（ノズルアームの少なくとも一部）
２３ ノズル下部
２６ ノズルアームの上面
３３ 第１純水ノズル（純水ノズル）
３５ 第1気体ノズル
３６ 第２気体ノズル
４２ 右側部（側部、他方の側端）
４３ 左側部（一方の側端）
４５ 左端（頂部）
４７ 上側傾斜部
５０ 下端（底部）
５２ 右側傾斜部（下側傾斜部）
２０４ ノズルアーム
２４５ 頂部
２４６ 側部
２４７ 上側傾斜部
２５０ 底部
２５２ 下側傾斜部
３０４ ノズルアーム
３４５ 頂部
３４６ 側部
３４７ 上側傾斜部
３５０ 底部
３５２ 下側傾斜部
４０４ ノズルアーム
４４５ 頂部
４４６ 側部
４４７ 上側傾斜部
４５０ 底部
４５２ 下側傾斜部
Ｃ１ 直交断面
Ｃ２０１ 直交断面
Ｃ３０１ 直交断面
Ｃ４０１ 直交断面
Ｄ１ 長手方向
Ｄ２ 基端部から先端部に向かう方向
Ｗ 基板
【技術分野】
【０００１】
この発明は、基板を処理する基板処理装置に関する。処理対象となる基板には、たとえば、半導体ウエハ、液晶表示装置用基板、プラズマディスプレイ用基板、ＦＥＤ（Field Emission Display）用基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、セラミック基板、太陽電池用基板などが含まれる。
【背景技術】
【０００２】
半導体装置や液晶表示装置などの製造工程では、半導体ウエハや液晶表示装置用ガラス基板などの基板に対して処理液を用いた処理が行われる。基板を１枚ずつ処理する枚葉式の基板処理装置は、たとえば、基板を水平に保持して回転させるスピンチャックと、スピンチャックに保持された基板の上面に向けて処理液を吐出するノズルとを備えている。ノズルは、水平に延びるノズルアームの先端部に保持されている。ノズルアームは、ノズル揺動機構に連結されている。ノズル揺動機構は、スピンチャックの側方に設けられた鉛直な回転軸線まわりにノズルおよびノズルアームを回転させる。
【０００３】
この基板処理装置においてノズルから基板の上面に処理液が供給されるときは、ノズルおよびノズルアームがスピンチャックに保持された基板の上方に配置される。さらに、スピンチャックによって基板が鉛直軸線まわりに回転される。そして、回転状態の基板の上面に向けてノズルから処理液が吐出される。これにより、ノズルから基板の上面に処理液が供給される。ノズルから基板への処理液の供給が終了した後は、ノズル揺動機構が、基板の上方からノズルおよびノズルアームを退避させる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１０−１７７３７１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
基板処理装置において処理液を用いた処理が行われる場合、装置に配置されているノズルアームに処理液が付着することがある。ノズルアームは、基板の上方を移動する。したがって、ノズルアームに処理液が付着している状態でノズルアームが移動すると、ノズルアームに付着している処理液が、振り落とされて、基板上に落下する場合がある。たとえば、処理液の飛沫がノズルアームに付着し、ノズルアームを移動させたときにこの付着した処理液が基板上に落下する場合がある。薬液処理が行われた基板上に処理液が落下すると、薬液処理の均一性が低下する。また、乾燥処理が行われた基板上に処理液が落下すると、乾燥不良が発生する。
【０００６】
そこで、この発明の目的は、液切れのよいノズルアームを備える基板処理装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
前記目的を達成するための請求項１記載の発明は、基板（Ｗ）を処理する処理流体を吐出するノズル（３）と、前記ノズルを保持しており、水平面に沿う長手方向（Ｄ１）に延びているノズルアーム（４、２０４、３０４、４０４）と、を含み、前記長手方向に直交する、前記ノズルアームの少なくとも一部の直交断面（Ｃ１、Ｃ２０１、Ｃ３０１、Ｃ４０１）は、前記直交断面において最も上に位置している頂部（４５、２４５、３４５、４４５）と、前記頂部より側方に位置している側部（４２、２４６、３４６、４４６）と、前記頂部から前記側部まで下降し続けている上側傾斜部（４７、２４７、３４７、４４７）と、を含む、基板処理装置（１）である。なお、この項において、括弧内の英数字は、後述の実施形態における対応構成要素の参照符号を表すものであるが、これらの参照符号により特許請求の範囲を限定する趣旨ではない。
【０００８】
この構成によれば、ノズルを保持するノズルアームが、水平面に沿う長手方向に延びている。ノズルアームの少なくとも一部の直交断面（長手方向に直交する断面）は、頂部から側部まで下降し続けている上側傾斜部を含む。上側傾斜部が下降し続けているから、上側傾斜部に処理液が付着したとしても、この処理液は、上側傾斜部に沿って下に流れる。そして、この処理液は、ノズルアームから落下し除去される。すなわち、ノズルアームに処理液が付着したとしても、この処理液は、短時間でノズルアームから除去される。したがって、ノズルアームに対する処理液の残留量を低減することができる。
【０００９】
請求項２記載の発明は、前記直交断面は、前記直交断面において最も下に位置している底部（５０、２５０、３５０、４５０）と、前記側部から前記底部まで下降し続けている下側傾斜部（５２、２５２、３５２、４５２）と、をさらに含む、請求項１記載の基板処理装置である。
この構成によれば、ノズルアームの直交断面が、側部から底部まで下降し続けている下側傾斜部を含む。下側傾斜部が下降し続けているから、下側傾斜部に処理液が付着したとしても、この処理液は、下側傾斜部に沿って下に流れる。そして、この処理液は、ノズルアームから落下し除去される。したがって、ノズルアームに対する処理液の残留量を低減することができる。
【００１０】
請求項３記載の発明は、前記直交断面は、前記直交断面において最も側方に位置している左右一対の側端（４２、４３）を含み、一方の側端は、前記頂部を含み、前記側部は、他方の側端を含み、前記上側傾斜部は、前記一方の側端から前記他方の側端まで下降し続けている、請求項１または２記載の基板処理装置である。
この構成によれば、一方の側端が、頂部を含み、側部が、一方の側端とは反対側の他方の側端を含む。上側傾斜部は、頂部から側部まで延びている。したがって、上側傾斜部は、一方の側端から他方の側端まで延びている。すなわち、直交断面の上部は、一方の側端から他方の側端まで延びており、他方の側端に近づくほど下降している。そのため、直交断面の上部に付着した処理液は、共通の側端（他方の側端）に向かって流れ落ちる。これにより、直交断面の上部に付着している液滴同士を結合させて、その自重によって落下させることができる。したがって、ノズルアームに対する処理液の残留量を低減することができる。
【００１１】
請求項４記載の発明は、前記ノズルアームの下部に向けて気体を吐出する第1気体ノズル（３５）をさらに含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載の基板処理装置である。
この構成によれば、第１気体ノズルから吐出された気体がノズルアームの下部に吹き付けられる。前述のように、ノズルアームに付着した処理液は、ノズルアームに沿って下に流れる。すなわち、ノズルアームに付着した処理液は、ノズルアームの下部に集まる。この処理液が集まる位置に気体が吹き付けられる。これにより、ノズルアームに付着している処理液を吹き飛ばして効率的に除去することができる。したがって、ノズルアームに対する処理液の残留量を低減することができる。
【００１２】
請求項５記載の発明は、前記第1気体ノズルは、前記第1気体ノズルから吐出された気体が前記ノズルアームに沿って前記ノズルアームの長手方向に流れるように構成されている、請求項４記載の基板処理装置である。
この構成によれば、第１気体ノズルから吐出された気体がノズルアームに沿って長手方向に流れる。したがって、第１気体ノズルからノズルアームに気体が吹き付けられる範囲が広がる。これにより、より広い範囲から処理液を除去することができる。したがって、ノズルアームに対する処理液の残留量を低減することができる。
【００１３】
請求項６記載の発明は、前記第1気体ノズルは、前記ノズルアームの側方から前記ノズルアームの下部に向けて気体を吐出するように構成されており、前記上側傾斜部は、前記第1気体ノズルからの気体が吹き付けられる側に向かって下降している、請求項４または５記載の基板処理装置である。
この構成によれば、第１気体ノズルから吐出された気体が、ノズルアームの下部に対して側方から吹き付けられる。上側傾斜部は、第１気体ノズルからの気体が吹き付けられる側に向かって下降している。したがって、上側傾斜部に付着した処理液は、第１気体ノズルからの気体が吹き付けられる側に向かって流れ落ちる。言い換えると、第１気体ノズルから吐出された気体は、上側傾斜部に付着した処理液が集まる位置に吹き付けられる。したがって、上側傾斜部に付着した処理液を効率的に除去することができる。
【００１４】
請求項７記載の発明は、前記ノズルアームは、疎水性材料によって形成されている、請求項１〜６のいずれか一項に記載の基板処理装置である。
この構成によれば、ノズルアームが疎水性材料によって形成されているので、ノズルアームが疎水性を有している。したがって、ノズルアームが親水性の場合に比べて、ノズルアームに付着した処理液は、短時間でかつ小さい力でノズルアームから除去される。さらに、処理液がはじかれるから、ノズルアームに保持される処理液の量を低減することができる。したがって、ノズルアームに対する処理液の残留量を一層低減できる。
【００１５】
請求項８記載の発明は、前記ノズルアームの上面（２６）に向けて純水を吐出する純水ノズル（３３）をさらに含む、請求項１〜７のいずれか一項に記載の基板処理装置である。
この構成によれば、純水ノズルから吐出された純水がノズルアームの上面に供給される。これにより、ノズルアームの上面に付着しているパーティクル等の異物や処理液が洗い流される。したがって、ノズルアームの上面に付着している異物や処理液が基板上に落下して、基板が汚染されることを抑制または防止できる。さらに、前述のように、ノズルアームに供給された純水は、ノズルアームに沿って流れ落ちることによりノズルアームから短時間で除去されるので、ノズルアームへの純水の供給が終了した後に、ノズルアームから基板に純水が落下することを抑制または防止することができる。
【００１６】
請求項９記載の発明は、前記ノズルは、前記ノズルアームよりも下方に配置されたノズル下部（２３）を含み、前記基板処理装置は、前記ノズル下部に向けて気体を吐出する第２気体ノズル（３６）をさらに含む、請求項１〜８のいずれか一項に記載の基板処理装置である。
この構成によれば、第２気体ノズルから吐出された気体が、ノズルアームよりも下方に位置するノズル下部に吹き付けられる。ノズル下部は、ノズルアームよりも下方に配置されているから、ノズルの外表面に付着した処理液や、ノズルアームを伝ってノズルに移動した処理液は、ノズル下部に向かって流れ落ちる。したがって、第２気体ノズルから吐出された気体は、処理液が集まる位置に吹き付けられる。そのため、処理液を効率的に除去することができる。
【００１７】
請求項１０記載の発明は、前記ノズルアームは、前記ノズルを保持する先端部（２０）と、基端部（２１）とを含む棒状の部材であり、前記第１気体ノズルは、前記第１気体ノズルから吐出された気体が前記基端部から前記先端部に向かう方向（Ｄ２）に流れるように構成されており、前記第２気体ノズルは、前記第２気体ノズルから吐出された気体が前記基端部から前記先端部に向かう方向に流れるように構成されている、請求項９記載の基板処理装置である。
【００１８】
この構成によれば、第１気体ノズルから吐出された気体は、ノズルアームに沿って基端部から先端部に向かう方向に流れる。同様に、第２気体ノズルから吐出された気体は、ノズル下部に沿って基端部から先端部に向かう方向に流れる。すなわち、各気体ノズルから吐出された気体は、同じ向きに流れる。したがって、第１気体ノズルから吐出された気体と、第２気体ノズルから吐出された気体とが衝突して、各気体ノズルから吐出された気体の勢いが弱まることを抑制または防止することができる。これにより、ノズルおよびノズルアームに付着している処理液を確実に除去することができる。
【００１９】
請求項１１記載の発明は、基板を保持する基板保持手段（２）と、前記ノズルが前記基板保持手段に保持された基板の上方に位置している処理位置と、前記ノズルが前記基板保持手段に保持された基板の上方から退避している待機位置との間で前記ノズルアームを移動させる移動手段（１０）と、をさらに含み、前記第1気体ノズルは、前記待機位置に位置している前記ノズルアームの下部に向けて気体を吐出するように構成されている、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の基板処理装置である。
【００２０】
この構成によれば、移動手段の駆動力がノズルアームに伝達されることにより、ノズルアームが処理位置と待機位置との間で移動する。第１気体ノズルから吐出された気体は、待機位置に位置しているノズルアームの下部に吹き付けられる。したがって、第１気体ノズルを待機位置に配置することができる。すなわち、第１気体ノズルは、ノズルアームと共に移動するように構成されていなくてもよい。したがって、ノズルアームを含む可動部の大型化を抑制または防止することができる。
【００２１】
請求項１２記載の発明は、前記ノズルアームの前記少なくとも一部は、前記処理位置において前記基板保持手段に保持された基板の上方に位置している部分（２２）を含む、請求項１１記載の基板処理装置である。
この構成によれば、処理位置において基板保持手段に保持された基板の上方に位置している部分が、直交断面を有している。したがって、この部分に処理液が付着したとしても、この処理液は、短時間で除去される。そのため、基板上でノズルアームを移動させたとしても、ノズルアームから基板に処理液が落下することを抑制または防止できる。これにより、基板の汚染や品質低下を抑制または防止できる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明の第１実施形態に係る基板処理装置の概略構成を示す側面図である。
【図２】本発明の第１実施形態に係る基板処理装置の概略構成を示す平面図である。
【図３】本発明の第１実施形態に係るノズルアームおよびこれに関連する構成の側面図である。
【図４】図３に示す矢印ＩＶの方向から見たノズルアームの断面図である。
【図５】図４の一部を拡大した図である。
【図６】ノズルおよびノズルアームを洗浄するときの動作の一例について説明するための工程図である。
【図７】ノズルアームに純水が供給されているときの純水の動きの一例について説明するための断面図である。
【図８】ノズルアームに窒素ガスが供給されているときの純水の動きの一例について説明するための断面図である。
【図９】本発明の第２実施形態に係るノズルアームの断面図である。
【図１０】本発明の第３実施形態に係るノズルアームの断面図である。
【図１１】本発明の第４実施形態に係るノズルアームの断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下では、この発明の実施の形態を、添付図面を参照して詳細に説明する。
図１は、本発明の第１実施形態に係る基板処理装置１の概略構成を示す側面図である。図２は、本発明の第１実施形態に係る基板処理装置１の概略構成を示す平面図である。
基板処理装置１は、基板Ｗを１枚ずつ処理する枚葉式の基板処理装置である。基板処理装置１は、基板Ｗを水平に保持して回転させるスピンチャック２と、スピンチャック２に保持された基板Ｗの上面に向けて処理液を吐出するノズル３と、ノズル３を保持するノズルアーム４と、スピンチャック２の上方に配置された遮断板５と、これらの構成２〜５を収容する処理室６を区画する隔壁（図示せず）とを備えている。さらに、基板処理装置１は、基板処理装置１に備えられた装置の動作やバルブの開閉を制御する制御装置７を備えている。
【００２４】
スピンチャック２は、基板Ｗを水平に保持して当該基板Ｗの中心を通る鉛直軸線まわりに回転可能な円盤状のスピンベース８と、このスピンベース８を鉛直軸線まわりに回転させるスピンモータ９とを含む。スピンチャック２は、基板Ｗを水平方向に挟んで当該基板Ｗを水平に保持する挟持式のチャックであってもよいし、非デバイス形成面である基板Ｗの裏面（下面）を吸着することにより当該基板Ｗを水平に保持するバキューム式のチャックであってもよい。第１実施形態では、スピンチャック２は、たとえば挟持式のチャックである。
【００２５】
ノズル３は、液体と気体とを衝突させることにより複数の液滴を生成し、生成された複数の液滴を基板Ｗに向けて吐出する二流体ノズルである。第１実施形態では、液体の一例である純水が、ノズル３に供給され、気体の一例である窒素ガスが、ノズル３に供給される。ノズル３は、その吐出口が下方に向けられた状態でスピンチャック２よりも上方に配置されている。ノズル３は、二流体ノズルに限らず、連続流の状態で処理液を吐出するストレートノズルであってもよいし、窒素ガスなどの気体を吐出するノズルであってもよい。
【００２６】
ノズル３は、ノズルアーム４の先端部２０で保持されている。ノズルアーム４は、水平面に沿う長手方向Ｄ１に延びている。図２に示すように、ノズルアーム４の基端部２１は、ノズル回転機構１０に連結されている。ノズル回転機構１０は、スピンチャック２の側方に設けられた鉛直なノズル回転軸線Ｌ１まわりに、ノズル３およびノズルアーム４を回転させる。ノズル回転機構１０は、ノズル３がスピンチャック２の上方に位置している処理位置（図１に示す位置および図２において実線で示す位置）と、ノズル３がスピンチャック２の上方から退避している待機位置（図２において二点鎖線で示す位置）と、の間でノズル３およびノズルアーム４を水平に移動させる。待機位置には、処理液を受け止めるポッド１１が配置されている。ポッド１１は、上向きに開いた容器である。ポッド１１は、ノズル３が待機位置に配置されているときに、ノズル３の下方に位置するように配置されている。
【００２７】
遮断板５は、基板Ｗとほぼ同じ直径を有する円板状の部材である。遮断板５は、水平な姿勢で支軸１２に支持されている。支軸１２は、遮断板昇降機構１３および遮断板回転機構１４に連結されている。遮断板昇降機構１３は、遮断板５の下面が基板Ｗの上面に近接している処理位置と、処理位置の上方に設けられた退避位置（図１に示す位置）との間で、遮断板５および支軸１２を昇降させる。遮断板回転機構１４は、基板Ｗの中心を通る鉛直軸線まわりに遮断板５および支軸１２を回転させる。支軸１２は、円筒状である。支軸１２の内部空間は、遮断板５の中央部を鉛直方向に貫通する貫通孔１５に接続されている。第１配管１６は、支軸１２内に挿入されており、第２配管１７は、第１配管１６に接続されている。第２配管１７に介装された純水バルブ１８が開かれると、第２配管１７から第１配管１６に純水が供給され、純水バルブ１８が閉じられると、第１配管１６への純水の供給が停止される。第１配管１６に供給された純水は、中心軸ノズル１９を構成する第１配管１６の下端部から基板Ｗの上面中央部に向けて吐出される。
【００２８】
中心軸ノズル１９から基板Ｗに処理液を供給するときには、たとえば、制御装置７が、スピンモータ９を制御することにより、スピンチャック２に保持された基板Ｗを回転させる。そして、制御装置７は、遮断板５を処理位置に位置させた状態で、回転状態の基板Ｗの上面に向けて中心軸ノズル１９から処理液を吐出させる。中心軸ノズル１９から吐出された処理液は、基板Ｗの上面中央部に供給された後、基板Ｗの回転による遠心力によって基板Ｗの上面に沿って外方に広がる。これにより、基板Ｗの上面全域に処理液が供給され、基板Ｗが処理される。
【００２９】
また、ノズル３から基板Ｗに処理液を供給するときには、たとえば、制御装置７が、スピンモータ９を制御することにより、スピンチャック２に保持された基板Ｗを回転させる。そして、制御装置７は、ノズル３を処理位置に位置させた状態で、回転状態の基板Ｗの上面に向けてノズル３から処理液を吐出させる。第１実施形態では、ノズル３が二流体ノズルであるので、複数の液滴が、ノズル３から基板Ｗの上面に向けて噴射される。これにより、基板Ｗの上面に処理液が供給され、基板Ｗが処理される。
【００３０】
図３は、本発明の第１実施形態に係るノズルアーム４およびこれに関連する構成の側面図である。図４は、図３に示す矢印ＩＶの方向から見たノズルアーム４の断面図である。図３は、ノズル３およびノズルアーム４が待機位置に配置されている状態を示している。
ノズルアーム４は、先端部２０と基端部２１とを含む棒状の部材である。すなわち、ノズルアーム４は、先端部２０と、基端部２１と、基端部２１と先端部２０とを接続する棒状のアーム部２２とを含む。アーム部２２は、長手方向Ｄ１に延びている。先端部２０および基端部２１は、それぞれ、アーム部２２の一端部および他端部に結合されている。ノズル３は、先端部２０に保持されている。先端部２０は、基端部２１から離れる方向に向かってアーム部２２の一端部から下方に延びている。ノズル３は、柱状であり、鉛直な姿勢で先端部２０に保持されている。ノズル３は、先端部２０から下方に延びるノズル下部２３を含む。ノズル下部２３は、基端部２１およびアーム部２２よりも下方に配置されている。また、基端部２１は、ボルト２４によってベース２５に取り付けられている。ノズル回転機構１０の駆動力は、ベース２５を介してノズルアーム４に伝達される。先端部２０およびアーム部２２は、処理位置においてスピンチャック２に保持された基板Ｗの上方に位置する部分である（図２参照）。
【００３１】
ノズルアーム４は、疎水性材料によって形成されている。疎水性材料としては、たとえば、ポリテトラフルオロエチレンなどのフッ素樹脂が挙げられる。図４に示すように、アーム部２２は、上面２６、右側面２７、左側面２８、およびＶ字状の下面２９を含む五角形状の直交断面Ｃ１（長手方向Ｄ１に直交する断面）を有している。アーム部２２の直交断面Ｃ１は、アーム部２２の一端部からアーム部２２の他端部まで一定である。すなわち、直交断面Ｃ１は、アーム部２２の一端部からアーム部２２の他端部まで同じ形で同じ大きさ（同形同大）である。アーム部２２には、ノズルアーム４を補強する棒状の芯材３０が埋め込まれている。芯材３０は、たとえば、ステンレス鋼によって形成されている。さらに、アーム部２２の内部には、ノズル３に液体を供給する液体供給管３１と、ノズル３に気体を供給する気体供給管３２とが差し込まれている。芯材３０、液体供給管３１、および気体供給管３２は、アーム部２２内で長手方向Ｄ１に延びている。図３に示すように、液体供給管３１および気体供給管３２は、アーム部２２から先端部２０側に突出しており、ノズル３に接続されている。
【００３２】
基板処理装置１は、ノズルアーム４に純水を供給してノズルアーム４を洗浄する第１純水ノズル３３（純水ノズル）および第２純水ノズル３４と、ノズルアーム４に気体を供給してノズルアーム４に付着している純水を除去する第１気体ノズル３５および第２気体ノズル３６とをさらに含む。図３に示すように、第１純水ノズル３３および第２純水ノズル３４は、ノズルアーム４の基端部２１の近傍に配置されている。第１純水ノズル３３は、ノズルアーム４の上方に配置されており、第２純水ノズル３４は、ノズルアーム４の下方に配置されている。さらに、図４に示すように、第１純水ノズル３３および第２純水ノズル３４は、直交断面Ｃ１の幅方向（長手方向Ｄ１に直交する水平な方向）に関する中心を通る鉛直な軸線ＣＬ１上に配置されている。第１純水ノズル３３および第２純水ノズル３４は、ノズルアーム４と共にノズル回転軸線Ｌ１まわりに水平に移動するように保持されている。
【００３３】
図３に示すように、第１純水ノズル３３および第２純水ノズル３４には共通の純水バルブ３７を介して、洗浄液としての純水が供給される。すなわち、純水バルブ３７が開かれると、第１純水ノズル３３に純水が供給され、ノズルアーム４に向けて第１純水ノズル３３から純水が吐出される。さらに、純水バルブ３７が開かれると、第２純水ノズル３４に純水が供給され、ノズルアーム４に向けて第２純水ノズル３４から純水が吐出される。したがって、純水バルブ３７が開かれると、第１純水ノズル３３および第２純水ノズル３４から純水が吐出される。
【００３４】
第１純水ノズル３３は、第１純水ノズル３３からたとえば水平に純水が吐出されるように配置されている。第１純水ノズル３３から吐出された純水は、ノズルアーム４に沿って長手方向Ｄ１に流れる。一方、第２純水ノズル３４は、第２純水ノズル３４からたとえば斜め上向きに純水が吐出されるように配置されている。第２純水ノズル３４から吐出された純水は、ノズルアーム４の下部に供給される。そして、ノズルアーム４に供給された純水は、ノズルアーム４に沿って長手方向Ｄ１に流れる。
【００３５】
また、図３に示すように、第１気体ノズル３５および第２気体ノズル３６は、ノズルアーム４よりも下方に配置されている。第１気体ノズル３５は、ノズルアーム４の基端部２１側に配置されており、第２気体ノズル３６は、ノズルアーム４の先端部２０側に配置されている。第1気体ノズル３５は、平面視においてノズルアーム４に重なり合わないように配置されている（図２参照）。また、第２気体ノズル３６は、ノズル下部２３の近傍に配置されている。第２気体ノズル３６は、ノズル下部２３に対して水平方向に対向している。第１気体ノズル３５および第２気体ノズル３６は、それぞれ、待機位置に配置された第１ステー３８および第２ステー３９によって保持されている。したがって、ノズル３およびノズルアーム４がノズル回転軸線Ｌ１まわりに回転すると、第１気体ノズル３５および第２気体ノズル３６は、ノズル３およびノズルアーム４に対して相対移動する。
【００３６】
図３に示すように、第１気体ノズル３５および第２気体ノズル３６には共通の気体バルブ４０を介して、気体の一例である窒素ガスが供給される。すなわち、気体バルブ４０が開かれると、第１気体ノズル３５に窒素ガスが供給され、ノズルアーム４に向けて第１気体ノズル３５から窒素ガスが吐出される。さらに、気体バルブ４０が開かれると、第２気体ノズル３６に窒素ガスが供給され、ノズル３に向けて第２気体ノズル３６の第２気体吐出口から窒素ガスが吐出される。したがって、気体バルブ４０が開かれると、第１気体ノズル３５および第２気体ノズル３６から窒素ガスが吐出される。
【００３７】
第１気体ノズル３５は、第１気体ノズル３５からたとえば斜め上向きに窒素ガスが吐出されるように配置されている。第１気体ノズル３５から吐出された窒素ガスは、ノズルアーム４の下部に吹き付けられる。そして、ノズルアーム４に吹き付けられた窒素ガスは、ノズルアーム４の下部に沿って長手方向Ｄ１に流れる。さらに、第1気体ノズル３５およびノズルアーム４が平面視において重なり合わないように配置されているので、第１気体ノズル３５から吐出された窒素ガスは、ノズルアーム４の下部に対して側方から吹き付けられる。一方、第２気体ノズル３６は、第２気体ノズル３６からたとえば水平に窒素ガスが吐出されるように配置されている。第２気体ノズル３６から吐出された窒素ガスは、ノズル下部２３に吹き付けられる。
【００３８】
図５は、図４の一部を拡大した図である。以下では、ノズルアーム４の断面（アーム部２２の直交断面Ｃ１）について詳細に説明する。
前述のように、直交断面Ｃ１は、たとえば、五角形状である。直交断面Ｃ１は、上部４１、右側部４２（側部、他方の側端）、左側部４３（一方の側端）、および下部４４を含む。上部４１、右側部４２、左側部４３、および下部４４は、それぞれ、上面２６、右側面２７、左側面２８、および下面２９の一部である。上部４１は、水平面に対して傾斜している。右側部４２および左側部４３は、上下方向に延びている。下部４４は、水平面に対して傾斜している。下部４４は、たとえばＶ字状である。
【００３９】
上部４１は、左端４５（頂部）と、右端４６と、左端４５と右端４６とを接続する上側傾斜部４７とを含む。上部４１の左端４５は、直交断面Ｃ１において最も上に位置している。したがって、上部４１の右端４６は、上部４１の左端４５よりも下方に位置している。上側傾斜部４７は、上部４１の右端４６に近づくほど下降するように連続的に傾斜している。すなわち、上側傾斜部４７は、頂部としての上部４１の左端４５から右側部４２の一部である上部４１の右端４６まで下降し続けている。上側傾斜部４７の傾斜角度は、たとえば一定である。上側傾斜部４７の傾斜角度は、一定に限らず、連続的に変化していてもよい。すなわち、上側傾斜部４７は、第１実施形態のような直線であってもよいし、上または下に凸の曲線であってもよい。
【００４０】
また、下部４４は、左端４８と、右端４９と、左端４８と右端４９との間に配置された下端５０（底部）と、左端４８と下端５０とを接続する左側傾斜部５１と、右端４９と下端５０とを接続する右側傾斜部５２（下側傾斜部）とを含む。下端５０は、直交断面Ｃ１において最も下に位置している。したがって、下部４４の左端４８および右端４９は、下端５０よりも上方に位置している。左側傾斜部５１は、左側部４３の一部である下部４４の左端４８から底部としての下端５０まで下降し続けるように連続的に傾斜している。同様に、右側傾斜部５２は、右側部４２の一部である下部４４の右端４９から底部としての下端５０まで下降し続けるように連続的に傾斜している。左側傾斜部５１および右側傾斜部５２の傾斜角度は、一定であってもよいし、連続的に変化していてもよい。さらに、左側傾斜部５１の傾斜角度や変化の状態は、右側傾斜部５２と同じであってもよいし、異なっていてもよい。下部４４は、直交断面Ｃ１の幅（左右方向への長さ）が下端５０に近づくほど減少するように傾斜している。
【００４１】
また、左側部４３は、上部４１の左端４５から下部４４の左端４８まで下方に延びている。上部４１の左端４５、左側部４３、および下部４４の左端４８は、直交断面Ｃ１において最も左側方に位置している。上部４１の左端４５は、上部４１の一部であると共に、左側部４３の一部でもある。同様に、下部４４の左端４８は、下部４４の一部であると共に、左側部４３の一部でもある。左側部４３は、直交断面Ｃ１において最も側方に位置している一方の側端である。
【００４２】
また、右側部４２は、上部４１の右端４６から下部４４の右端４９まで下方に延びている。上部４１の右端４６、右側部４２、および下部４４の右端４９は、直交断面Ｃ１において最も右側方に位置している。上部４１の右端４６は、上部４１の一部であると共に、右側部４２の一部でもある。同様に、下部４４の右端４９は、下部４４の一部であると共に、右側部４２の一部でもある。右側部４２は、直交断面Ｃ１において最も側方に位置している他方の側端である。すなわち、右側部４２および左側部４３は、軸線ＣＬ１に対して互いに反対側に配置された左右一対の側端である。
【００４３】
第１気体ノズル３５は、ノズルアーム４の側方からノズルアーム４の下部に向けて気体を吐出するように構成されている。すなわち、第1気体ノズル３５から吐出された窒素ガスは、ノズルアーム４の右側面２７や下面２９に対して右側方から吹き付けられる。前述のように、上側傾斜部４７は、上部４１の右端４６に近づくほど下降するように傾斜している。したがって、上側傾斜部４７は、第1気体ノズル３５からの気体が吹き付けられる側に向かって下降している（図８参照）。
【００４４】
図６は、ノズル３およびノズルアーム４を洗浄するときの動作の一例について説明するための工程図である。図７は、ノズルアーム４に純水が供給されているときの純水の動きの一例について説明するための断面図である。図８は、ノズルアーム４に窒素ガスが供給されているときの純水の動きの一例について説明するための断面図である。以下では、図３を参照する。また、以下の説明では、図１、図６、図７および図８を適宜参照する。
【００４５】
ノズル３およびノズルアーム４の洗浄は、たとえば、スピンチャック２に基板Ｗが保持されていない状態で行われる。また、ノズル３およびノズルアーム４の洗浄では、最初に、たとえば第１純水ノズル３３および第２純水ノズル３４からノズルアーム４に向けて純水が吐出される（図６のステップＳ１、第１純水供給工程）。具体的には、制御装置７は、ノズル３およびノズルアーム４を待機位置に位置させた状態で、純水バルブ３７を開いて、第１純水ノズル３３および第２純水ノズル３４から純水を吐出させる。
【００４６】
第１純水ノズル３３から吐出された純水の大部分は、アーム部２２の上面２６に供給され、第１純水ノズル３３から吐出された純水の一部は、アーム部２２の右側面２７および左側面２８に供給される。アーム部２２の上面２６が水平面に対して傾斜しているので、アーム部２２の上面２６に供給された純水は、先端部２０に向かって長手方向Ｄ１に移動しながら、上面２６に沿って下方に流れる（図７参照）。そして、上部４１の右端４６に達した純水は、上部４１の右端４６から側方に飛散したり、右側面２７に沿って下方に流れたりする。また、右側面２７および左側面２８に供給された純水は、先端部２０に向かって長手方向Ｄ１に移動しながら、右側面２７または左側面２８に沿って下方に流れる。そして、図７に示すように、右側面２７の下端（下部４４の右端４９）および左側面２８の下端（下部４４の左端４８）に達した純水は、右側面２７または左側面２８から落下したり、下面２９に沿って下方に流れたりする。
【００４７】
一方、第２純水ノズル３４から吐出された純水の大部分は、アーム部２２の下面２９に供給され、第２純水ノズル３４から吐出された純水の一部は、アーム部２２の右側面２７および左側面２８に供給される。前述のように、右側面２７および左側面２８に供給された純水は、右側面２７または左側面２８から落下したり、下面２９に沿って下方に流れたりする。その一方で、アーム部２２の下面２９が水平面に対して傾斜しているので、アーム部２２の下面２９に供給された純水は、先端部２０に向かって長手方向Ｄ１に移動しながら、下面２９に沿って下方に流れる（図７参照）。つまり、アーム部２２の下面２９に供給された純水は、下端５０に向かって移動するように下面２９に沿って流れる。そして、下端５０に達した純水の一部は、ノズルアーム４から落下する。
【００４８】
このように、第１純水ノズル３３および第２純水ノズル３４から吐出された純水は、アーム部２２の上面２６、右側面２７、左側面２８、および下面２９に供給される。これにより、アーム部２２に付着しているパーティクルなどの異物や処理液が純水によって洗い流される。また、第１純水ノズル３３および第２純水ノズル３４からアーム部２２に供給された純水は、先端部２０に向かって長手方向Ｄ１に流れる。そして、先端部２０の近傍に達した純水は、アーム部２２から先端部２０に移動し、先端部２０やノズル３に沿って下方に流れる。これにより、先端部２０やノズル３に付着している異物等が純水によって洗い流される。そして、先端部２０やノズル３から落下した純水は、ポッド１１によって受け止められる。
【００４９】
次に、第１気体ノズル３５および第２気体ノズル３６からノズル３およびノズルアーム４に向けて窒素ガスが吐出される（図６のステップＳ２、第１気体供給工程）。具体的には、制御装置７は、ノズル３およびノズルアーム４を待機位置に位置させた状態で、気体バルブ４０を開いて、第１気体ノズル３５および第２気体ノズル３６から窒素ガスを吐出させる。
【００５０】
第１気体ノズル３５から吐出された窒素ガスの大部分は、アーム部２２の下面２９に吹き付けられ、第１気体ノズル３５から吐出された窒素ガスの一部は、アーム部２２の右側面２７および左側面２８に吹き付けられる（図８参照）。アーム部２２の下面２９に吹き付けられた窒素ガスは、下面２９に沿って先端部２０の方へ長手方向Ｄ１に流れる。また、アーム部２２の右側面２７および左側面２８に吹き付けられた窒素ガスは、右側面２７または左側面２８に沿って先端部２０の方へ長手方向Ｄ１に流れる。これにより、アーム部２２の下面２９、右側面２７、および左側面２８に付着している純水が、窒素ガスによって吹き飛ばされ除去される。
【００５１】
一方、第２気体ノズル３６から吐出された窒素ガスの大部分は、ノズル下部２３に吹き付けられる。また、第１気体ノズル３５からアーム部２２に向けて吐出され、先端部２０の近傍に達した窒素ガスは、先端部２０やノズル３に沿って流れる。したがって、先端部２０には、第１気体ノズル３５から吐出された窒素ガスが吹き付けられ、ノズル３には、第１気体ノズル３５および第２気体ノズル３６から吐出された窒素ガスが吹き付けられる。これにより、先端部２０やノズル３に付着している純水が吹き飛ばされ除去される。
【００５２】
このように、第１気体ノズル３５から窒素ガスが吐出されることにより、アーム部２２の下面２９、右側面２７、および左側面２８から純水が除去される。第１気体ノズル３５から吐出された窒素ガスは、アーム部２２の上面２６に殆ど供給されないが、アーム部２２の上面２６に供給された純水は、上面２６の傾斜によって流れ落ちることにより、上面２６から除去される。したがって、アーム部２２の下面２９、右側面２７、および左側面２８から純水を除去することにより、アーム部２２全体から純水を除去することができる。さらに、第１気体ノズル３５から吐出された窒素ガスは、ノズル３や先端部２０にも供給されるので、ノズル３およびノズルアーム４に付着している純水を効率的に除去することができる。
【００５３】
次に、中心軸ノズル１９からノズル３およびノズルアーム４の先端部２０に向けて純水が吐出される（図６のステップＳ３、第２純水供給工程）。具体的には、制御装置７は、遮断板５を待機位置に位置させた状態で、ノズル回転機構１０を制御して、ノズル３およびノズルアーム４を処理位置に移動させる（図１参照）。すなわち、制御装置７は、ノズル３を中心軸ノズル１９の下方に移動させる。そして、制御装置７は、ノズル３が中心軸ノズル１９の下方に位置する状態で、純水バルブ１８を開いて、中心軸ノズル１９からノズル３に向けて純水を吐出させる。
【００５４】
中心軸ノズル１９から吐出された純水の大部分は、ノズル３およびノズルアーム４の先端部２０に供給される。すなわち、ノズル３および先端部２０には、第１純水ノズル３３および第２純水ノズル３４からだけでなく、中心軸ノズル１９からも純水が供給される。これにより、ノズル３および先端部２０に純水が十分に供給される。特に、第１純水ノズル３３および第２純水ノズル３４からの純水が十分に供給されない範囲（ノズル３の凹部や、ノズルアーム４の湾曲部）にも確実に純水が供給される。これにより、ノズル３および先端部２０に付着している異物や処理液が確実に除去される。
【００５５】
次に、第１気体ノズル３５および第２気体ノズル３６からノズル３およびノズルアーム４に向けて窒素ガスが吐出される（図６のステップＳ４、第２気体供給工程）。具体的には、制御装置７は、遮断板５を待機位置に位置させた状態で、ノズル回転機構１０を制御して、ノズル３およびノズルアーム４を待機位置に移動させる。そして、制御装置７は、ノズル３およびノズルアーム４を待機位置に位置させた状態で、気体バルブ４０を開いて、第１気体ノズル３５および第２気体ノズル３６から窒素ガスを吐出させる。前述のように、ノズル３、先端部２０、およびアーム部２２に付着している純水は、第１気体ノズル３５および第２気体ノズル３６から吐出された窒素ガスによって除去される。これにより、ノズル３およびノズルアーム４が乾燥し、ノズル３およびノズルアーム４の洗浄が完了する。
【００５６】
以上のように第１実施形態では、ノズル３を保持するノズルアーム４が、水平面に沿う長手方向Ｄ１に延びている。アーム部２２の直交断面Ｃ１は、頂部（左端４５）から右側部４２まで下降し続けている上側傾斜部４７を含む。上側傾斜部４７が下降し続けているから、上側傾斜部４７に処理液が付着したとしても、この処理液は、上側傾斜部４７に沿って下に流れる。そして、この処理液は、ノズルアーム４から落下し除去される。すなわち、ノズルアーム４に処理液が付着したとしても、この処理液は、短時間でノズルアーム４から除去される。したがって、ノズルアーム４に対する処理液の残留量を低減することができる。
【００５７】
また第１実施形態では、直交断面Ｃ１が、右側部４２から底部（下端４４）まで下降し続けている右側傾斜部５２と、左側部４３から底部まで下降し続けている左側傾斜部５１とを含む。右側傾斜部５２および左側傾斜部５１が底部まで下降し続けているから、右側傾斜部５２および左側傾斜部５１に処理液が付着したとしても、この処理液は、右側傾斜部５２および左側傾斜部５１に沿って下に流れる。そして、この処理液は、ノズルアーム４から落下し除去される。したがって、ノズルアーム４に対する処理液の残留量を低減することができる。
【００５８】
また第１実施形態では、直交断面Ｃ１の一方の側端が、頂部（左端４５）を含み、右側部４２が、直交断面Ｃ１の他方の側端を含む。上側傾斜部４７は、頂部から右側部４２まで延びている。したがって、上側傾斜部４７は、一方の側端から他方の側端まで延びている。すなわち、直交断面Ｃ１の上部４１は、一方の側端から他方の側端まで延びており、他方の側端に近づくほど下降している。そのため、直交断面Ｃ１の上部４１に付着した処理液は、共通の側端（他方の側端）に向かって流れ落ちる。これにより、直交断面Ｃ１の上部４１に付着している液滴同士を結合させて、その自重によって落下させることができる。したがって、ノズルアーム４に対する処理液の残留量を低減することができる。
【００５９】
また第１実施形態では、第１気体ノズル３５から吐出された窒素ガスがノズルアーム４の下部に吹き付けられる。前述のように、ノズルアーム４に付着した処理液は、ノズルアーム４に沿って下に流れる。すなわち、ノズルアーム４に付着した処理液は、ノズルアーム４の下部に集まる。この処理液が集まる位置に窒素ガスが吹き付けられる。これにより、ノズルアーム４に付着している処理液を吹き飛ばして効率的に除去することができる。したがって、ノズルアーム４に対する処理液の残留量を低減することができる。
【００６０】
また第１実施形態では、第１気体ノズル３５から吐出された窒素ガスがノズルアーム４に沿って長手方向Ｄ１に流れる。したがって、第１気体ノズル３５からノズルアーム４に窒素ガスが吹き付けられる範囲が広がる。これにより、より広い範囲から処理液を除去することができる。したがって、ノズルアーム４に対する処理液の残留量を低減することができる。
【００６１】
また第１実施形態では、第１気体ノズル３５から吐出された窒素ガスが、ノズルアーム４の下部に対して側方から吹き付けられる。上側傾斜部４７は、第１気体ノズル３５からの窒素ガスが吹き付けられる側に向かって下降している。したがって、上側傾斜部４７に付着した処理液は、第１気体ノズル３５からの窒素ガスが吹き付けられる側に向かって流れ落ちる。言い換えると、第１気体ノズル３５から吐出された窒素ガスは、上側傾斜部４７に付着した処理液が集まる位置に吹き付けられる。したがって、上側傾斜部４７に付着した処理液を効率的に除去することができる。
【００６２】
また第１実施形態では、ノズルアーム４が疎水性を有している。したがって、ノズルアーム４が親水性の場合に比べて、ノズルアーム４に付着した処理液は、短時間でかつ小さい力でノズルアーム４から除去される。さらに、処理液がはじかれるから、ノズルアーム４に保持される処理液の量を低減することができる。したがって、ノズルアーム４に対する処理液の残留量を一層低減できる。
【００６３】
また第１実施形態では、第１純水ノズル３３から吐出された純水がノズルアーム４の上面２６に供給される。これにより、ノズルアーム４の上面２６に付着しているパーティクル等の異物や処理液が洗い流される。したがって、ノズルアーム４の上面２６に付着している異物や処理液が基板Ｗ上に落下して、基板Ｗが汚染されることを抑制または防止できる。さらに、前述のように、ノズルアーム４に供給された純水は、ノズルアーム４に沿って流れ落ちることによりノズルアーム４から短時間で除去されるので、ノズルアーム４への純水の供給が終了した後に、ノズルアーム４から基板Ｗに純水が落下することを抑制または防止することができる。
【００６４】
また第１実施形態では、第２気体ノズル３６から吐出された窒素ガスが、ノズルアーム４よりも下方に位置するノズル下部２３に吹き付けられる。ノズル下部２３は、ノズルアーム４よりも下方に配置されているから、ノズル３の外表面に付着した処理液や、ノズルアーム４を伝ってノズル３に移動した処理液は、ノズル下部２３に向かって流れ落ちる。したがって、第２気体ノズル３６から吐出された窒素ガスは、処理液が集まる位置に吹き付けられる。そのため、処理液を効率的に除去することができる。
【００６５】
また第１実施形態では、第１気体ノズル３５から吐出された窒素ガスは、ノズルアーム４に沿って基端部２１から先端部２０に向かう方向Ｄ２（図３参照）に流れる。同様に、第２気体ノズル３６から吐出された窒素ガスは、ノズル下部２３に沿って基端部２１から先端部２０に向かう方向Ｄ２に流れる。すなわち、各気体ノズル３５、３６から吐出された窒素ガスは、同じ向きに流れる。したがって、第１気体ノズル３５から吐出された窒素ガスと、第２気体ノズル３６から吐出された窒素ガスとが衝突して、各気体ノズル３５、３６から吐出された窒素ガスの勢いが弱まることを抑制または防止することができる。これにより、ノズル３およびノズルアーム４に付着している処理液を確実に除去することができる。
【００６６】
また第１実施形態では、ノズル回転機構１０の駆動力がノズルアーム４に伝達されることにより、ノズルアーム４が処理位置と待機位置との間で移動する。第１気体ノズル３５から吐出された窒素ガスは、待機位置に位置しているノズルアーム４の下部に吹き付けられる。したがって、第１気体ノズル３５をノズルアーム４の待機位置に配置することができる。すなわち、第１気体ノズル３５は、ノズルアーム４と共に移動するように構成されていなくてもよい。したがって、ノズルアーム４を含む可動部の大型化を抑制または防止することができる。
【００６７】
また第１実施形態では、処理位置においてスピンチャック２に保持された基板Ｗの上方に位置している部分、すなわち、アーム部２２が、直交断面Ｃ１を有している。したがって、アーム部２２に処理液が付着したとしても、この処理液は、短時間で除去される。そのため、基板Ｗ上でノズルアーム４を移動させたとしても、ノズルアーム４から基板Ｗに処理液が落下することを確実に抑制または防止できる。これにより、基板Ｗの汚染や品質低下を抑制または防止できる。
【００６８】
この発明の実施の形態の説明は以上であるが、この発明は、前述の第１実施形態の内容に限定されるものではなく、請求項記載の範囲内において種々の変更が可能である。
たとえば、前述の第１実施形態では、直交断面Ｃ１が、図５に示す五角形状である場合について説明した。しかし、直交断面Ｃ１の形状は、図５の上下が反転された形状であってもよい。すなわち、直交断面Ｃ１の上部が、倒立Ｖ字状で、直交断面Ｃ１の下部が、一方の側端から他方の側端まで延びる斜線であってもよい。さらに、直交断面Ｃ１は、五角形以外の多角形であってもよい。
【００６９】
具体的には、たとえば図９に示すノズルアーム２０４のように、ノズルアーム２０４の直交断面Ｃ２０１は、三角形状であってもよい。直交断面Ｃ２０１は、頂部２４５と、側部２４６と、上側傾斜部２４７とを含む。さらに、直交断面Ｃ２０１は、底部２５０と、下側傾斜部２５２とを含む。
また、図１０に示すノズルアーム３０４のように、ノズルアーム３０４の直交断面Ｃ３０１は、四角形状であってもよい。直交断面Ｃ３０１は、頂部３４５と、側部３４６と、上側傾斜部３４７とを含む。さらに、直交断面Ｃ３０１は、底部３５０と、下側傾斜部３５２とを含む。
【００７０】
また、前述の第１実施形態では、直交断面Ｃ１が、複数の直線によって区画されている場合について説明したが、直交断面Ｃ１は、直線および曲線を含んでいてもよいし、曲線によって区画されていてもよい。
具体的には、たとえば図１１に示すノズルアーム４０４のように、ノズルアーム４０４の直交断面Ｃ４０１は、下側に凸の曲線と、水平面に対して傾斜している直線とによって区画されていてもよい。直交断面Ｃ４０１は、頂部４４５と、側部４４６と、上側傾斜部４４７とを含む。さらに、直交断面Ｃ４０１は、底部４５０と、下側傾斜部４５２とを含む。
【００７１】
また、前述の第１実施形態では、アーム部２２が、アーム部２２の一端部からアーム部２２の他端部まで一定の断面（直交断面Ｃ１）を有している場合について説明した。しかし、アーム部２２の断面は、変化していてもよい。
具体的には、任意の２つの位置におけるアーム部２２の断面が相似（同形）であり、アーム部２２の断面積（大きさ）が連続的に変化していてもよい。この場合、アーム部２２の断面積は、アーム部２２の一端部（先端部２０側の端部）に近づくほど減少していてもよい。また、アーム部２２の断面形状（直交断面Ｃ１の形状）は、アーム部２２の一端部に近づくに従って連続的に変化していてもよい。この場合、アーム部２２の断面積は、一定であってもよいし、アーム部２２の一端部に近づくほど減少していてもよい。
【００７２】
また、前述の第１実施形態では、第１純水ノズル３３および第２純水ノズル３４からノズルアーム４に純水が供給される場合について説明した。しかし、第１純水ノズル３３および第２純水ノズル３４以外のノズルからノズルアーム４に純水が供給されてもよい。
具体的には、遮断板５の上面に純水を供給する純水ノズル５５３（図１参照）が設けられていてもよい。この場合、制御装置７は、遮断板回転機構１４を制御することにより遮断板５を回転させながら、回転状態の遮断板５の上面に向けて純水ノズル５５３から純水を吐出させてもよい。純水ノズル５５３から吐出された純水は、遮断板５の上面に供給され、遮断板５の回転による遠心力によって遮断板５の周囲に振り切られる。したがって、遮断板５から振り切られた純水は、処理室６を区画する隔壁（図示せず）に衝突して跳ね返る。そして、跳ね返った純水がノズルアーム４に供給される。これにより、ノズルアーム４に付着している異物や処理液が洗い流される。
【００７３】
また、前述の第１実施形態では、ノズル３を保持する先端部２０がノズルアーム４に設けられている場合について説明した。しかし、先端部２０が設けられておらず、アーム部２２の一端部にノズル３が保持されていてもよい。すなわち、アーム部２２の一端部が、ノズル３を保持する先端部であってもよい。
また、前述の第１実施形態では、第１気体ノズル３５および第２気体ノズル３６から吐出される気体が窒素ガスである場合について説明した。しかし、第１気体ノズル３５および第２気体ノズル３６から吐出される気体は、窒素ガスに限らず、アルゴンガスなどの窒素ガス以外の不活性ガスであってもよいし、乾燥空気や、清浄空気であってもよい。
【００７４】
また、前述の第１実施形態では、第１純水ノズル３３および第２気体ノズル３６から水平に流体（純水または窒素ガス）が吐出され、第２純水ノズル３４および第１気体ノズル３５から斜め上向きに流体が吐出される場合について説明した。しかし、第１純水ノズル３３および第２気体ノズル３６からの流体の吐出方向は、斜め上向きまたは斜め下向きであってもよい。また、第２純水ノズル３４および第１気体ノズル３５からの純水の吐出方向は、水平方向であってもよい。
【００７５】
また、前述の第１実施形態では、共通の純水バルブ３７を介して第１純水ノズル３３および第２純水ノズル３４に純水が供給され、共通の気体バルブ４０を介して第１気体ノズル３５および第２気体ノズル３６に窒素ガスが供給される場合について説明した。しかし、別々のバルブを介して第１純水ノズル３３および第２純水ノズル３４に純水が供給されてもよい。同様に、別々のバルブを介して第１気体ノズル３５および第２気体ノズル３６に窒素ガスが供給されてもよい。
【００７６】
その他、特許請求の範囲に記載された事項の範囲で種々の設計変更を施すことが可能である。
【符号の説明】
【００７７】
１ 基板処理装置
２ スピンチャック（基板保持手段）
３ ノズル
４ ノズルアーム
１０ ノズル回転機構（移動手段）
２０ 先端部
２１ 基端部
２２ アーム部（ノズルアームの少なくとも一部）
２３ ノズル下部
２６ ノズルアームの上面
３３ 第１純水ノズル（純水ノズル）
３５ 第1気体ノズル
３６ 第２気体ノズル
４２ 右側部（側部、他方の側端）
４３ 左側部（一方の側端）
４５ 左端（頂部）
４７ 上側傾斜部
５０ 下端（底部）
５２ 右側傾斜部（下側傾斜部）
２０４ ノズルアーム
２４５ 頂部
２４６ 側部
２４７ 上側傾斜部
２５０ 底部
２５２ 下側傾斜部
３０４ ノズルアーム
３４５ 頂部
３４６ 側部
３４７ 上側傾斜部
３５０ 底部
３５２ 下側傾斜部
４０４ ノズルアーム
４４５ 頂部
４４６ 側部
４４７ 上側傾斜部
４５０ 底部
４５２ 下側傾斜部
Ｃ１ 直交断面
Ｃ２０１ 直交断面
Ｃ３０１ 直交断面
Ｃ４０１ 直交断面
Ｄ１ 長手方向
Ｄ２ 基端部から先端部に向かう方向
Ｗ 基板
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を処理する処理流体を吐出するノズルと、
前記ノズルを保持しており、水平面に沿う長手方向に延びているノズルアームと、を含み、
前記長手方向に直交する、前記ノズルアームの少なくとも一部の直交断面は、前記直交断面において最も上に位置している頂部と、前記頂部より側方に位置している側部と、前記頂部から前記側部まで下降し続けている上側傾斜部と、を含む、基板処理装置。
【請求項２】
前記直交断面は、前記直交断面において最も下に位置している底部と、前記側部から前記底部まで下降し続けている下側傾斜部と、をさらに含む、請求項１記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記直交断面は、前記直交断面において最も側方に位置している左右一対の側端を含み、
一方の側端は、前記頂部を含み、前記側部は、他方の側端を含み、
前記上側傾斜部は、前記一方の側端から前記他方の側端まで下降し続けている、請求項１または２記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記ノズルアームの下部に向けて気体を吐出する第1気体ノズルをさらに含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【請求項５】
前記第1気体ノズルは、前記第1気体ノズルから吐出された気体が前記ノズルアームに沿って前記ノズルアームの長手方向に流れるように構成されている、請求項４記載の基板処理装置。
【請求項６】
前記第1気体ノズルは、前記ノズルアームの側方から前記ノズルアームの下部に向けて気体を吐出するように構成されており、
前記上側傾斜部は、前記第1気体ノズルからの気体が吹き付けられる側に向かって下降している、請求項４または５記載の基板処理装置。
【請求項７】
前記ノズルアームは、疎水性材料によって形成されている、請求項１〜６のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【請求項８】
前記ノズルアームの上面に向けて純水を吐出する純水ノズルをさらに含む、請求項１〜７のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【請求項９】
前記ノズルは、前記ノズルアームよりも下方に配置されたノズル下部を含み、
前記基板処理装置は、前記ノズル下部に向けて気体を吐出する第２気体ノズルをさらに含む、請求項１〜８のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【請求項１０】
前記ノズルアームは、前記ノズルを保持する先端部と、基端部とを含む棒状の部材であり、
前記第１気体ノズルは、前記第１気体ノズルから吐出された気体が前記基端部から前記先端部に向かう方向に流れるように構成されており、
前記第２気体ノズルは、前記第２気体ノズルから吐出された気体が前記基端部から前記先端部に向かう方向に流れるように構成されている、請求項９記載の基板処理装置。
【請求項１１】
基板を保持する基板保持手段と、
前記ノズルが前記基板保持手段に保持された基板の上方に位置している処理位置と、前記ノズルが前記基板保持手段に保持された基板の上方から退避している待機位置との間で前記ノズルアームを移動させる移動手段と、をさらに含み、
前記第1気体ノズルは、前記待機位置に位置している前記ノズルアームの下部に向けて気体を吐出するように構成されている、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【請求項１２】
前記ノズルアームの前記少なくとも一部は、前記処理位置において前記基板保持手段に保持された基板の上方に位置している部分を含む、請求項１１記載の基板処理装置。
【請求項１】
基板を処理する処理流体を吐出するノズルと、
前記ノズルを保持しており、水平面に沿う長手方向に延びているノズルアームと、を含み、
前記長手方向に直交する、前記ノズルアームの少なくとも一部の直交断面は、前記直交断面において最も上に位置している頂部と、前記頂部より側方に位置している側部と、前記頂部から前記側部まで下降し続けている上側傾斜部と、を含む、基板処理装置。
【請求項２】
前記直交断面は、前記直交断面において最も下に位置している底部と、前記側部から前記底部まで下降し続けている下側傾斜部と、をさらに含む、請求項１記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記直交断面は、前記直交断面において最も側方に位置している左右一対の側端を含み、
一方の側端は、前記頂部を含み、前記側部は、他方の側端を含み、
前記上側傾斜部は、前記一方の側端から前記他方の側端まで下降し続けている、請求項１または２記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記ノズルアームの下部に向けて気体を吐出する第1気体ノズルをさらに含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【請求項５】
前記第1気体ノズルは、前記第1気体ノズルから吐出された気体が前記ノズルアームに沿って前記ノズルアームの長手方向に流れるように構成されている、請求項４記載の基板処理装置。
【請求項６】
前記第1気体ノズルは、前記ノズルアームの側方から前記ノズルアームの下部に向けて気体を吐出するように構成されており、
前記上側傾斜部は、前記第1気体ノズルからの気体が吹き付けられる側に向かって下降している、請求項４または５記載の基板処理装置。
【請求項７】
前記ノズルアームは、疎水性材料によって形成されている、請求項１〜６のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【請求項８】
前記ノズルアームの上面に向けて純水を吐出する純水ノズルをさらに含む、請求項１〜７のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【請求項９】
前記ノズルは、前記ノズルアームよりも下方に配置されたノズル下部を含み、
前記基板処理装置は、前記ノズル下部に向けて気体を吐出する第２気体ノズルをさらに含む、請求項１〜８のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【請求項１０】
前記ノズルアームは、前記ノズルを保持する先端部と、基端部とを含む棒状の部材であり、
前記第１気体ノズルは、前記第１気体ノズルから吐出された気体が前記基端部から前記先端部に向かう方向に流れるように構成されており、
前記第２気体ノズルは、前記第２気体ノズルから吐出された気体が前記基端部から前記先端部に向かう方向に流れるように構成されている、請求項９記載の基板処理装置。
【請求項１１】
基板を保持する基板保持手段と、
前記ノズルが前記基板保持手段に保持された基板の上方に位置している処理位置と、前記ノズルが前記基板保持手段に保持された基板の上方から退避している待機位置との間で前記ノズルアームを移動させる移動手段と、をさらに含み、
前記第1気体ノズルは、前記待機位置に位置している前記ノズルアームの下部に向けて気体を吐出するように構成されている、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【請求項１２】
前記ノズルアームの前記少なくとも一部は、前記処理位置において前記基板保持手段に保持された基板の上方に位置している部分を含む、請求項１１記載の基板処理装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【公開番号】特開２０１２−１８２３７１（Ｐ２０１２−１８２３７１Ａ）
【公開日】平成２４年９月２０日（２０１２．９．２０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−４５２１９（Ｐ２０１１−４５２１９）
【出願日】平成２３年３月２日（２０１１．３．２）
【出願人】（０００２０７５５１）大日本スクリーン製造株式会社 (2,640)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年９月２０日（２０１２．９．２０）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年３月２日（２０１１．３．２）
【出願人】（０００２０７５５１）大日本スクリーン製造株式会社 (2,640)
【Ｆターム（参考）】
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