【課題】洗浄設備を短時間で十分に洗浄することができる設備洗浄方法及び装置を提供する。
【解決手段】超純水ライン２から超純水を配管３、５，８、半導体洗浄機１０、配管１５、循環水槽１７に流した後、循環水槽１７内の水を循環ポンプ２０、配管２１を介して循環させ、薬液槽１１〜１３から薬液を添加する。主要な配管や、薬液槽１１〜１３、循環水槽１７、カラム３０，３３、フィルタ６等はケーシング５０内に設置されてユニット化されている。 （もっと読む）

【課題】液処理工程中に基板を上方から支持する基板支持部、あるいは基板とともに回転する天板を基板へ供給されるリンス液を用いて洗浄する。
【解決手段】液処理装置１００はウエハＷを上方から支持する回転自在の基板支持部１０と、基板支持部１０の回転中心に設けられ少なくともリンス液をウエハＷに対して供給するトッププレートノズル１０ｎとを備えている。トッププレートノズル１０ｎは基板支持部１０に対して上下方向に移動可能となっており、トッププレートノズル１０ｎを基板支持部１０から離間した状態でトッププレートノズル１０ｎからリンス液をウエハＷに対して供給する。トッププレートノズル１０ｎを基板支持部１０に接近させた状態で、トッププレートノズル１０ｎからリンス液を基板支持部１０の下面に供給して洗浄する。 （もっと読む）

【課題】塗布動作を行う際に塗布液がミスト状に飛散する場合がある。ミスト状に飛散した塗布液が装置内部のうち基板以外の部分に付着すると、装置を汚してしまうという問題があるので、装置内の環境を清浄化する。
【解決手段】基板収容装置ＡＣＭは、基板Ｓを保持する基板保持部１０と、前記基板保持部１０に保持された状態の前記基板Ｓを囲うカップ部２０と、前記基板Ｓと前記カップ部２０との間に異物を回収する回収液を供給する回収液供給部３０とを備える。 （もっと読む）

【課題】従来の定置洗浄方法を改良して、好適に連続洗濯機内の全体を自動洗浄することができる連続洗濯機の定置洗浄方法を提供する。
【解決手段】各浴槽６に配設され通常の洗濯時の水位よりも高水位に設定されたオーバーフロー管７と、オーバーフロー管から溢れ出た水を貯留する貯水タンク８と、貯水タンクの水を圧送するポンプ１１と、ポンプからの水を噴射すべく外側ハウジング２の内側に配設された噴射ノズル１０とを備え、浴槽内に洗浄液を入れて内側ハウジングを回動若しくは連続して回転することにより浴槽内を洗浄するとともに、噴射ノズルから洗浄液を外側ハウジング内に噴射して浴槽内の自動洗浄を行う。 （もっと読む）

【課題】液切れのよいノズルアームを備える基板処理装置を提供すること。
【解決手段】基板処理装置は、処理液を吐出するノズルと、ノズルを保持するノズルアーム４とを含む。ノズルアーム４は、水平面に沿う長手方向Ｄ１に延びている。ノズルアーム４の少なくとも一部の直交断面Ｃ１は、直交断面Ｃ１において最も上に位置している頂部４５と、頂部４５より側方に位置している側部４２と、頂部４５から側部４２まで下降し続けている上側傾斜部４７とを含む。 （もっと読む）

【課題】電気分解によって発生するスケールの堆積を確実に抑制することが可能な洗浄装置を提供すること。
【解決手段】この洗浄装置ＡＰは、対象に向けて機能水を吐出するノズル１８と、給水源から供給された水をノズル１８に供給する給水路１２と、給水路１２に設けられ、一対の電極を有し、給水源から供給された水を電気分解して性状を変化させて機能水と成す電解槽１６と、を備え、給水源から供給された水のＳｉイオン濃度を高めるＳｉイオン濃度調整部１４を、電解槽１６よりも上流側に設けている。 （もっと読む）

【課題】 研磨速度の低下を抑制すると共に研磨傷の発生を抑制することが可能なＣＭＰ研磨液の洗浄液、これを用いた洗浄工程、並びにこれを用いた半導体基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】 ＣＭＰ研磨液の供給装置を洗浄するための洗浄液であって、強酸を含有するＣＭＰ研磨液用洗浄液。ＣＭＰ研磨液用洗浄液に含まれる強酸は、硫酸、シュウ酸、次亜塩素酸、フッ酸、硝酸、塩酸から選ばれる少なくとも１種類の化合物であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】プラスチック予備成形物を容器へと成形する装置を提供する。
【解決手段】所定の搬送経路Ｐに沿って容器１０を搬送する搬送装置２を備えており、該搬送装置２が、容器１０を保持するための複数の保持部材４を有しており、該保持部材４が前記所定の搬送経路Ｐに沿って搬送される。本発明によれば、前記装置が、前記保持部材４を少なくとも一部分において殺菌するための清掃装置８を備えている。 （もっと読む）

【課題】船上で養殖貝の洗浄作業を行うとき、洗浄中の養殖貝の安定と、養殖貝を吊下げた養殖紐を確実に保持して移動させること。
【解決手段】洗浄装置の本体正面上下方向に設けた点検口１０、１１に蓋板をそれぞれ着脱可能に取付け、前記本体３の出口側７に取付けた排出シュータ２５の底面中間に、貝止め板と貝受舌部を有した貝回収口を設け、前記搬送コンベア２８と保持コンベア４６の無端ベルト部２９、４７を構成する連結片に、それぞれ互い違いに向かい合わせて係止突部を一体に形成し、養殖貝を多数吊下げた養殖紐を、前記本体の入口側６から搬送コンベア２８に着脱可能に取付けて出口側７に移動可能に形成し、前記洗浄面４０に送られた養殖貝を無端ベルト部２９、４７の連結片に設けた係止突部で上下方向から保持して移動させながら洗浄することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板のベベル部および基板裏面を短時間で、しかも良好に洗浄することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】遮断部材５が基板Ｗの表面Ｗｆに近接して対向配置された状態で基板Ｗの上面ベベル部に第１処理液が供給されてベベル洗浄が実行される。このベベル洗浄中に裏面処理ノズル２から第２処理液が基板裏面Ｗｂに供給されて裏面洗浄が実行される。また、遮断部材５の下面周縁部に段差部ＳＴが形成されており、環状部５０ｂに付着した処理液などが基板対向面側に移動しようとしても、当該移動は段差部ＳＴにより阻止される。その結果、基板対向面５０ａと平面領域ＦＰの間に液密層が形成されるのを確実に防止する。 （もっと読む）

【課題】限外濾過フィルタの復旧再生工程として実施する逆洗浄を、限外濾過フィルタの閉塞やリークといった異常状態にも効率的に対応できるようにする洗浄方法を提供すること。
【解決手段】複数の限外濾過フィルタを並列に並べて液を通過させる循環機構において、前記複数の限外濾過フィルタの内で順次一つずつの限外濾過フィルタを逆洗浄する工程を含む限外濾過フィルタの洗浄方法であって、前記逆洗浄する工程が、前記複数の限外濾過フィルタの各々の状態を検知する動作と、前記検知された状態に応じて個別に逆洗浄の条件を設定する動作と、を有する。 （もっと読む）

【課題】膜エレメント間に堆積した固形分を十分に除去することが可能な膜分離装置の洗浄装置を提供する。
【解決手段】洗浄装置１１は、内部に中空部７０が備えられ、且つ、先端部に中空部７０と連通して洗浄液５５を噴射する先端開口部７１が備えられるとともに、側面部に中空部７０と連通して洗浄液５５を噴射する側面開口部７２が備えられた挿入部材５３と、挿入部材５３の中空部７０に洗浄液５５を供給する供給手段と、挿入部材５３の下部先端部を先頭として膜エレメント１３間の間隙に挿入部材５３を挿入する昇降手段５４を有する。 （もっと読む）

【課題】粉粒体から障害物質を効率的に除去するとともに、難溶性の炭酸塩が析出してスケールによる配管の詰まりやポンプの故障等の虞を低減することができる粉粒体処理システムを提供する。
【解決手段】
粉粒体を洗浄しながら微粒物と中粒物に分級する湿式選別手段２から排出された微粒物と洗浄排水を固液分離する微粒物分離手段４と、微粒物分離手段４で固液分離された洗浄排水を湿式選別手段２へ返送する第一の循環経路３と、湿式選別手段２で分級された中粒物を再洗浄する再洗浄手段５から排出された洗浄排水を再洗浄手段５へ返送する第二の循環経路７と、再洗浄手段５に新規水を供給する新規水供給経路８と、再洗浄手段５から排出された洗浄排水の一部を、洗浄水として第一の循環経路３に供給する洗浄排水供給経路９と、湿式選別手段２から排出された洗浄排水に含まれる特定物質を除去するための炭酸イオンを生成する炭酸イオン生成手段６を備える。 （もっと読む）

【課題】装置設計、コスト、メンテナンス等の負担を軽減し、洗浄工程に要する時間を軽減することが可能な、噴射蒸気により被洗浄物の洗浄を行なうスチームジェット用ノズルを提供する。
【解決手段】ノズル本体１０は、蒸気室１２と、空気室１４と、蒸気室１２に通じる蒸気入力口１５と蒸気噴射口１６と蒸気排気口１７と、空気室１４に通じる空気入力口１８とを有し、蒸気室内１２には、噴射用バルブ２０と排気用バルブ３０を有し、空気入力口１８から入力される圧縮空気により、噴射用バルブ２０と排気用バルブ３０を制御し、洗浄処理時には、蒸気入力口１５から入力された蒸気を、蒸気噴射口１６から噴出させ、待機時には、蒸気排気口１７から排気させる。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、液体を貯留した槽の底部に沿って流れる噴射流の直進性に優れ、槽の底部に堆積した異物が巻き上がらないように噴射流を形成することができるノズル及びそのノズルを提供することにある。
【解決手段】本発明のノズル１は、液体を貯留した槽９内で噴射流を形成するノズル１であって、前記槽９の底部に対して斜めに噴き付ける第１の噴射流Ｆａを形成する第１の噴射孔５ａと、前記第１の噴射流Ｆａよりも、前記槽９の底部に対して浅い角度となる方向に第２の噴射流Ｆｂ，Ｆｃを形成する第２の噴射孔５ｂ，５ｃと、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】農薬が付着した農薬散布機などをより効果的に洗浄できるようにする。
【解決手段】アルカリ性の水を用いて農薬散布機などの被洗浄物を洗浄した後、酸性の水を用いて被洗浄物を洗浄する。前記アルカリ性の水はｐＨ１０以上が好ましい。また、消石灰を水に溶解又は懸濁させたものが好ましい。前記アルカリ性の水に前記被洗浄物を３０〜１２０分間接触させるのが好ましい。前記酸性の水はｐＨ６以下が好ましい。前記農薬としては除草剤が好適である。 （もっと読む）

【課題】薬液又は再利用水を供給する配管が長く又は配管の経路が複雑な場合も、ノズルの詰まりを防止して、基板の処理を均一に行う。
【解決手段】基板１を移動しながら、制御弁３４を閉じ、制御弁３３を開いて、共通経路３５ａ及び分岐経路３５ｂを介して、ノズル３９を薬液供給源３０に接続して、ノズル３９から基板１の表面へ薬液を吐出する。所定の周期又は所定の枚数の基板の処理毎に、制御弁３３を閉じ、制御弁３４を開いて、共通経路３５ａ及び分岐経路３５ｃを介して、ノズル３９を圧縮気体供給源４０に接続して、ノズル３９から共通経路３５ａ内の薬液及び圧縮気体を吐出する。圧縮気体の圧力により、ノズル３９へつながる共通経路３５ａ内から薬液が排出されて、薬液の結晶や異物の発生が抑制される。また、ノズル３９内に付着した薬液の結晶や異物が、圧縮気体の圧力で除去される。 （もっと読む）

【課題】不純物や斑点を低減した良質の多結晶シリコンを得ることができる洗浄装置を提供する。
【解決手段】酸を満たした状態の複数の酸槽２〜６に多結晶シリコンＳを順次浸漬しながら洗浄する多結晶シリコン洗浄装置であって、各酸槽２〜６の液温は、隣接する酸槽の後段位置の酸槽が前段位置の酸槽と同じかもしくは低く設定され、かつ、最も前段位置の酸槽２よりも最も後段位置の酸槽６の方が低温に設定され、各酸槽２〜６に、その液温を一定に維持する温調手段１８が設けられている。 （もっと読む）

【課題】基板を洗浄処理した後、ＩＰＡ等の乾燥用溶剤を用いて乾燥した場合に、スループットを低下させることなく薬液を回収することができる洗浄装置および洗浄方法を提供すること。
【解決手段】ウエハＷを回転させながら、ウエハＷに薬液洗浄を施し、リンス処理を施し、その後ＩＰＡによる乾燥処理を施す洗浄機構１は、排液カップ６および排液配管３１を洗浄するための洗浄液を、ウエハＷに供給されない状態で、排液カップ６に供給する洗浄液供給機構３９を有し、さらに洗浄機構１の各構成部を制御する制御部４０を有し、この制御部４０は、ウエハＷの洗浄処理、その後のリンス処理を実施させた後、ＩＰＡによる乾燥処理を行わせている際に、乾燥処理が実施されているタイミングで洗浄液を排液カップ６に供給させるように制御する。 （もっと読む）

【課題】吸着パッドに詰まったスラッジを確実に排出する。
【解決手段】支持部材（５３ａ）に支持されていて被加工物（２０）を吸着する吸着パッド（５１ａ）を洗浄する吸着パッド洗浄装置は、吸着パッドの内部から吸着パッドの吸着面（５２ａ）に向かって洗浄液を供給する洗浄液供給手段（５８）と、吸着パッドの吸着面において吸着パッドの内側領域を該内側領域周りの外側領域から封止可能に被覆する内側領域被覆部（３０）とを含む。また、チャックテーブル（１２ａ）は、被加工物を吸着する吸着パッドと、吸着パッドを支持する支持部材（５３ａ、５７）と、支持部材に形成されていて吸着パッドの内側領域周りに在る外側領域まで延びる外側領域通路（７１）と、洗浄液を外側領域通路に通して吸着パッドの吸着面に向かって供給する洗浄液供給手段と、を含む。 （もっと読む）