【課題】タンクの内部の洗浄において、すすぎに要する水の量を削減する。
【解決手段】洗浄方法は、タンクＴの内部を薬液によって浄化する浄化工程と、タンクＴの内部を水によってすすぐすすぎ工程とを含む。すすぎ工程は、タンクＴの内部の上方に配置された噴射部Ｓから水を噴射させるとともにタンクＴの底部ＴＢから水を排出させ、排出された水を再び噴射部Ｓに供給する循環系において水を循環させながらタンクＴの内部をすすぐ循環すすぎ工程を含む。循環すすぎ工程は、噴射部Ｓから噴射された水がタンクＴの側壁の内部面ＴＩに吹き付けられる状態で実施される。 （もっと読む）

【課題】 成膜処理終了後洗浄されるまでの時間を一定として基板を均一に処理することができ、また、成膜処理の終了した基板を清浄な状態で搬送することのできる基板処理装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 処理部を備えるＣＶＤ処理装置１２により成膜処理された基板を基板洗浄装置１により洗浄処理する基板処理装置であって、基板の表面を洗浄するための洗浄ユニット６、７と、基板の裏面を洗浄するための反転洗浄ユニット８と、基板搬送用カセット１２が載置される搬入搬出テーブル７３を備えたインデクサ部７５と、ＣＶＤ処理装置１２の処理部と、洗浄ユニット６、７と、第２洗浄ユニット８と、インデクサ部７５との間で基板を搬送する基板搬送機構４、７４とを備える。 （もっと読む）

【課題】表面に疎水性の部分を有する種々の基板においても、表面へのパーティクルが残存し難い基板洗浄方法および基板洗浄装置を提供すること。
【解決手段】少なくとも一部の期間において基板を回転させつつ、基板の表面に液を供給して洗浄する工程と、その後基板を乾燥させる工程とを有する基板洗浄方法であって、基板を乾燥させる工程は、基板の回転数を基板を洗浄する際の回転数よりも低い第１の回転数に減速させる工程と、基板の回転数が前記第１の回転数まで減速された際に、基板の略中心から周縁部に向けて液の供給位置の移動を開始する工程と、第１の回転数より低い第２の回転数に達した時点で液の供給を停止する工程と、第２の回転数から回転数を増加させる工程と、第２の回転数より高い回転数で基板を回転させながら基板に向かってガスを供給する工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】洗浄液の噴射圧力に応じた適切な膜厚で流体カーテンを形成する。
【解決手段】洗浄ノズル１８を、軸心に噴射口２３を有し、下端外周を先広がりのテーパ状としたノズル本体１９と、そのノズル本体１９に外装されて内周にリング状の流路３２を有し、下端内周をテーパ状とした外スリーブ３１とから形成して、ノズル本体１９の下端外周と外スリーブ３１の下端内周との間に、洗浄液の噴射口２３を中心としたリング状の第２噴射口３８を形成し、外スリーブ３１を、エアシリンダ２７，２７により所定の上下位置に軸方向にスライドさせることで、第２噴射口３８の大きさを変更して流体カーテンの膜厚を調整可能とした。 （もっと読む）

【課題】回転アームの詰まったノズル又はかさばった物体が、回転アームの回転移動に影響を与えるか、又はさらには回転移動を遮ることによる洗浄結果の質の低下を防止する洗浄機の提供。
【解決手段】回転アーム（２、３、７、８）の回転移動を監視するために、挿入可能なかご（４）に取り付けられるかご回転アーム（７、８）の回転移動に対する所望の値（ｎｋ１ｓｎ、ｎｋ２ｓｎ）が、追加の永久的に取り付けられるアーム（２、３）の測定された回転移動値（ｎ１ｉ、ｎ２ｉ）の関数として変更される。このように所望の値を「スライドさせる」ことにより、洗浄流体の流体圧力、温度、粘度及び化学物質等の干渉パラメータによるすべての回転アームの回転移動値に対する影響を補償する。 （もっと読む）

【課題】回転ロールを洗浄するための洗浄液の消費量を低減する。
【解決手段】回転ロール９０の最上部の基点Ｐから，回転方向Ｆに２７０°から３００°回転した位置に，第１のブロック１１０が設けられ，その後方側に第２のブロック１３０が設けられる。第１のブロック１１０により，回転ロール９０との間に狭小の隙間Ｄが形成され，その表面１１０ａに洗浄液吐出口１１１と吸引口１１２が形成される。第２のブロック１３０には，排気口１３１が形成される。回転ロール９０の下部側には，滞留部１４１と洗浄液誘導部１４２が形成された第３のブロック１４０が設けられる。洗浄時には，回転ロール９０を回転させた状態で，洗浄液吐出口１１１から隙間Ｄに洗浄液Ｈが吐出され，洗浄液Ｈが回転ロール９０の表面を伝って流れ，滞留部１４１で一旦滞留された後，洗浄液誘導部１４２を通って排出される。 （もっと読む）

【課題】サイズの異なるガラス材料製のハードディスクを効率よく洗浄できるようにしたガラスハードディスクの洗浄装置を提供する。
【解決手段】ローダーカセット（２）から送り出されたハードディスク（１）を第１ウォーターベアリング（６）で搬送する。第１検出間隙（８）を設けて第２ウォーターベアリング（７）を連接し、ハードディスク（１）をスクラブ洗浄部へ送る。このスクラブ洗浄部で、ハードディスク（１）はテーパー付のドライブローラ（１０）の傾斜面に当って回転される。スクラブ洗浄後のハードディスクは第３ウォーターベアリング（２４）及び第２検出間隙（２７）をあけて設けた第４ウォーターベアリング（２６）でアンローダーカセット（３１）に収納される。上記第１検出間隙（８）及び第２検出間隙（２７）には、ハードディスクを横方向から検出するセンサー（９）、（２９）がある。 （もっと読む）

【課題】微細気泡をムラなく被洗浄物に衝突させることができる洗浄装置を提供する。
【解決手段】洗浄装置は、液体２中に気泡を発生させる気泡発生機構と、気泡および液体２を含む気液混合体を被洗浄物７に向けて放出する放出部４とを備えている。気泡発生機構は、放出部４から放出される気液混合体中に、相対的に小さな微細気泡３と相対的に大きな大気泡１とを混在させる。大気泡１と微細気泡３が混入された液体２を用いることによって、微細気泡３を被洗浄物７の表面で破裂させることができる。そのため、微細気泡３のマイクロジェット効果を十分に発揮させることが可能になる。 （もっと読む）

【課題】 被清掃面の拭き清掃を行うシート状の清掃体を備える清掃用具において、清掃効果向上を図るのに有効な技術を提供する。
【解決手段】 本発明に係る清掃用具１０は、被清掃面を拭き清掃する清掃シート１００と、この清掃シート１００の下方領域の被清掃面に向けて洗浄液を噴射する噴射ノズル２５２を備える構成とされる。 （もっと読む）

【課題】基板１０を上乗せローラにより保持しつつ、基板１０の処理を基板全体に亘って可及的に均一にする。
【解決手段】基板１０を傾斜させた状態で搬送する搬送機構１３，１４と、基板１０の表側面に処理液を供給する処理液供給部とを備え、搬送機構１３，１４は、基板１０の傾斜方向に延びる第１の軸１５に回転可能に設けられて基板１０の裏側面を支持する下受けローラ１３と、第１の軸１５と平行に延びる第２の軸１６に回転可能に設けられて基板１０の表側面を支持する上乗せローラ１４とを有し、上乗せローラ１４は、第２の軸１６の方向に貫通形成された開口２２を有している。 （もっと読む）