【課題】容易に、結晶化の溶融状態、結晶粒径及び粒径バラツキを所望の状態にしたシリコン膜を形成することができるレーザ照射方法を提供する。
【解決手段】レーザ照射方法は、マルチモードのレーザ光を発振させる発振ステップ（Ｓ１０２）と、レーザ光を光ファイバーで伝送する伝送ステップ（Ｓ１０４）と、光ファイバーから出射したレーザ光を重畳し細長い形状に整形する整形ステップ（Ｓ１０６）と、整形されたレーザ光を短軸方向に走査しながらアモルファスシリコン膜に照射することで、ポリシリコン膜に結晶化する照射ステップ（Ｓ１０８）とを含み、照射ステップ（Ｓ１０８）では、走査速度Ｖ（ｍｍ／ｓ）と照射パワー密度Ｐ（ＫＷ／ｃｍ²）との関係をＫ＝Ｐ／√Ｖとし、Ｋ＞４の条件を満足する走査速度と照射パワー密度とで照射することで、レーザ照射領域に所定の溶融状態での結晶を形成させる。 （もっと読む）

【課題】レーザ光の伝送用の光ファイバのコアの断面積を小さくする。
【解決手段】レーザ発振器１１１から出射されたレーザ光は、光ファイバ１１５により強度分布がほぼ均一になるように整形される。光ファイバ１１５から出射されたレーザ光は、集光レンズ１１９により集光されて、光ファイバ１２０に入射される。光ファイバ１２０に入射されたレーザ光は、コリメータレンズ１２１乃至ｆθレンズ１２６からなる加工光学系に伝送される。本発明は、例えば、レーザ加工装置に適用できる。 （もっと読む）

【課題】走査回数を増やすことなく、基板の表面と基板内部とに、短パルスレーザによる加工が行える基板加工装置を提供する。
【解決手段】短パルスレーザ光源３１と、短パルスレーザビームを第一光路側と第二光路側とに分岐する光路分岐部３５と、第二光路側が第一周波数よりも小さな第二周波数で繰り返し発振するように繰り返し発振周波数を変換するパルスピッカー部３９と、第二光路側の出力パワーが第一光路側の出力パワーよりも大きくなるように調整する出力調整部３６と、第一光路側および第二光路側を重ね合わせた合成レーザビームを形成する光路合成部４６と、対物レンズ４９を含み、基板に向けて合成レーザビームを照射する合成レーザビーム照射光学部４８と、合成レーザビームを相対的に走査させる走査機構とを備える。 （もっと読む）

【課題】レーザー光線発信器から発振されたレーザー光線の出力を高速制御することができるレーザー光線照射機構およびレーザー加工装置を提供する。
【解決手段】レーザー光線発振器と集光レンズとの間に配設された出力調整手段６３とを具備するレーザー光線照射機構であって、出力調整手段は、１／２波長板と、直線偏光のレーザー光線を入光してS偏光成分を反射させP偏光成分を透過せしめる第１の偏光ビームスプリッター面および第２の偏光ビームスプリッター面を備えたプリズム６３２と、S偏光成分とP偏光成分との間に位相差(α)を生成する光路長調整手段６３３と、偏光成分合成手段６３６と、偏光成分合成手段で合成されたレーザー光線を分光する偏光ビームスプリッター面を備え、偏光成分合成手段で合成されたレーザー光線のS偏光成分とP偏光成分との位相差(α＋β)を０度から１８０度の間で制御する制御手段とを具備している。 （もっと読む）

【課題】レーザ装置によって被加工物の加工する際に、加工部分に照射されるレーザ光スポットを調整する方法及び装置の提供。
【解決手段】レーザ装置１はレーザ光線６を放出するレーザ、レーザ光線６を集束する少なくとも１つの集光レンズ４及びレーザ光線６の径を調整する操作素子を含んで構成される。前記操作素子として回折素子５を用いて、レーザ光線６を複数の部分レーザ光線に分割し、該部分レーザ光線が集束されて被加工物７にレーザ光スポット１２として照射される。回折素子５の設計により、レーザ光スポット１２の径の調整、特に拡大が可能となる。 （もっと読む）

【課題】分割すべき領域の内部にレーザー光線を十分に集光させること。
【解決手段】改質層形成工程を実行する前に、ワーク１の表面にワーク１に対して吸収性を有するレーザー光線ＬＢを照射してワーク１の表面に存在する凹凸１０１を除去する。これにより、改質層形成工程を実行する際に、ワーク１の表面に存在する凹凸１０１によってレーザー光線ＬＢが散乱されることにより、分割すべき領域の内部にレーザー光線ＬＢを十分に集光できなくなることを抑制できる。 （もっと読む）

【課題】フェムト秒レーザーを用いる加工において、汎用省力化の加工方法に関する作業時間当りの照射の加工面積拡大化を計り所要時間の短縮を計る。
【解決手段】フェムト秒レーザー発振器から発振された光源ビームを主光軸ビーム及び光路長が相互相違する複数の分岐ビームに分流すると共に、該主光軸ビーム及び分岐ビームを回帰集光させた統合ビームを、集光レンズを備えた受光ヘッドに導き、更に回転ベース上に設置した前記受光ヘッドのレンズ保持具は、回転ベースの回転軸芯に対して移動偏芯させた状態において、該回転ベースを統合ビームの光軸中心に合わせて同芯円状に回転させながら、前記統合ビームの光軸中心に対し摺動テーブルを円軌道上において、Ｘ軸Ｙ軸の同時２軸制御において移動させて、加工対象となるワークを連続照射することにより照射をスパイラル形状に形成させて円弧状に照射面積を拡大するフェムト秒レーザー加工機。 （もっと読む）

【課題】
レーザを用いた薄膜のスクライブにおいて、加工スポット間の重畳部でエネルギが過剰になることを防ぎ、下地へのダメージを発生させないようにすると共に、膜残りが発生しないようにスクライブ領域を加工することを可能にする。
【解決手段】
試料の表面に形成された薄膜にパルスレーザ光を試料の表面に対して相対的に走査しながら照射することで試料の表面から薄膜を部分的に除去加工する薄膜レーザパターニング方法及び装置において、パルスレーザを相対的に走査する方向に対して非対称なトップハット形状の強度分布を有するように成形し、この成形したパルスレーザの照射領域を一部重複させながら照射して相対的に走査することによりこの相対的に走査して照射した領域の薄膜を除去加工するようにした。 （もっと読む）

【課題】媒質の屈折率の温度依存性を利用して所望の光学特性を呈する。
【解決手段】
流体光学素子１０は、入射された光が通過する互いに対向する端面１１Ａ，１１Ｂを有する容器１１に、屈折率に温度依存性を有する媒質であって、第１の波長λ１のレーザ光Ｌ１は吸収し、第２の波長λ２のレーザ光Ｌ２は透過する波長選択性を有する液体１２を収容してなり、少なくとも高密度に集束された光が通過する側の端面に入射用又は出射用の開口１４が設けられている。この流体光学素子１０は、第１の波長λ１のレーザ光Ｌ１の照射により上記液体１２に温度勾配が与えられ、上記温度勾配にともなう上記液体１２の屈折率勾配によるレンズ効果、すなわち、熱レンズ効果を呈し、入射される第２の波長λ２のレーザ光Ｌ２に対して上記レンズ効果を付与する。 （もっと読む）

【課題】並行して使用するレーザ光のスポットの形状や大きさを簡単に個別に調整する。
【解決手段】レーザ光λａは、レンズ１２０ａにより結像位置Ｐ１ａにおいて結像した後、レンズ１２１ａによりコリメートされ、２波長性ミラー１２３に入射する。レーザ光λｂは、レンズ１２０ｂにより結像位置Ｐ１ｂにおいて結像した後、レンズ１２１ｂによりコリメートされ、全反射ミラー１２２により反射され、２波長性ミラー１２３に入射する。そして、レーザ光λａおよびレーザ光λｂは、２波長性ミラー１２３により光路が結合され、２波長性レンズ１２４により結像位置Ｐ２において結像する。本発明は、例えば、薄膜太陽電池パネルを加工するレーザ加工装置に適用できる。 （もっと読む）