国際特許分類[B23K35/26]の内容
処理操作;運輸 (1,245,546) | 工作機械;他に分類されない金属加工 (71,475) | ハンダ付またはハンダ離脱;溶接;ハンダ付または溶接によるクラッドまたは被せ金;局部加熱による切断,例.火炎切断:レーザービームによる加工 (42,379) | ハンダ付,溶接または切断のために用いられる溶加棒,溶接電極,材料,媒剤 (4,089) | 材料の組成または性質を特徴とするもの (3,248) | 適当なハンダ付材料または溶接材料の選定 (1,960) | 主成分が400°C以下の融点をもつもの (582)
国際特許分類[B23K35/26]に分類される特許
1 - 10 / 582
鉛フリーはんだ合金及びその製造方法
【課題】 耐酸性及び軟性に優れた 鉛フリーはんだ合金、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 Sn−Zn系 鉛フリーはんだ合金に、Agを1〜5重量%添加させ、Ag−Zn合金相であるガンマ(γ)及びエプシロン(ε)相の分率を5〜20体積%に形成することで、前記 鉛フリーはんだ合金の軟性だけではなく前記合金の耐酸性を大幅に改善させる。
(もっと読む)
リフローフィルム、はんだバンプ形成方法、はんだ接合の形成方法及び半導体装置
【課題】はんだ成分を自己組織化により基板の電極上に偏在させることにより、保存性、運搬性、及び使用時のハンドリング性に優れ、電極上に選択的にはんだバンプ又ははんだ接合を形成できるリフローフィルムを提供し、更にこれを用いたはんだバンプ又ははんだ接合の簡便な形成方法、これにより形成されたボイドが少なく高さばらつきが少ないはんだバンプ及びはんだバンプ付き基板を提供する。
【解決手段】ポリビニルアルコールと、分子量500以下の水に溶解または分散する化合物と、分散したはんだ粒子とを含むフィルム21であって、前記分子量500以下の化合物はポリビニルアルコール100質量部に対して20〜300質量部であるリフローフィルム、および基板10の電極12面側に前記リフローフィルムを載置する工程、さらに平板12を載置する工程、加熱する工程、及び前記リフローフィルムを溶解除去する工程を含むはんだバンプ形成方法。
(もっと読む)
フォームはんだ
【課題】従来のフォームはんだ製造方法は、所定量の金属粒を直接溶融はんだ中に投入してから金属粒を分散させるため、フォームはんだ中にフラックスが微量残っていた。そのため従来のフォームはんだ製造方法で得られたフォームはんだではんだ付けを行うとボイドが発生したり、部品が傾斜したりして充分な接合強度が得られなかった。
【解決手段】本発明では、熱分解可能なフラックスと高融点金属粒からなる混合物で混合母合金を作製し、さらに混合母合金を大量の溶融はんだに投入・攪拌してビレットを作製する。そして該ビレットを押出、圧延、打ち抜き工程を経てペレットやワッシャーにする。
(もっと読む)
接合体
【課題】 鉛を実質的に含有しない接合材を用い、高温条件においても良好な機械的強度を保持可能な接合体及び半導体装置を提供する。
【解決手段】 本発明は、金属材料の溶融温度が260℃以上であり、鉛及び金を主成分とした金属合金を代替する接合材料として、被接合部に物理蒸着法により形成されるSnと、前記Snより高融点を有する金属材料とからなる接合層を、他方の被接合部に接合することにより、300℃以上450℃以下の温度範囲において、良好な接合状態が確保でき、かつ高い高温強度を維持することを可能とした。
(もっと読む)
プリコート用ハンダペースト及びその製造方法
【課題】薄くて、かつ均一な厚さのプリコートハンダ層が形成できるとともに、IMCの発生が抑えられ、特にプリコートハンダ層の形成に用いた場合に優れたプリコート用ハンダペーストを提供する。
【解決手段】ハンダ粉末とハンダ用フラックスとを含有するプリコート用のハンダペーストにおいて、ハンダ粉末10は銅からなる中心核と中心核を被覆する錫からなる被覆層とを有するA粉末11と銀からなるB粉末12との混合粉末であって、ハンダ粉末の平均粒径が0.1〜5.0μmであることを特徴とする。
(もっと読む)
ポリアミン、カルボン酸フラックス組成物およびはんだ付け方法
【課題】非硬化性であり、信頼できるはんだ付け接続を容易にし、かつ従来のエポキシベースのアンダーフィル材料との混和を容易にするようにカスタマイズすることができるフラックス剤を提供する。
【解決手段】カルボン酸、および式(I)で表されるポリアミンフラックス剤を当初成分として含むフラックス組成物とする。
(式中、R1、R2、R3およびR4は独立して水素、置換C1−80アルキル基、非置換C1−80アルキル基等。R7は少なくとも2つの第三級炭素を有する非置換C5−80アルキル基、少なくとも2つの第三級炭素を有する置換C5−80アルキル基等。)
(もっと読む)
半導体装置とその製造方法
【課題】Sn-Sb系はんだ合金を用いた半導体装置であって、ヒートサイクル時の耐クラック性をより向上した半導体装置とその製造方法を提供する。
【解決手段】はんだ合金により導電性部材間を接合してなる半導体装置において、前記はんだ合金は、主成分としてSnおよびSbを含有するものとし、前記SnとSbとから生成される金属間化合物の粒径サイズを20μm以上とする。半導体装置の製造方法としては、はんだ合金による接合時に、はんだ合金を溶融した後の冷却速度、即ち、はんだ合金の液相線から固相線を通過する冷却勾配(℃/sec)を、2.5〜0.1とする。
(もっと読む)
鉛フリーソルダペースト用フラックス及び鉛フリーソルダペースト
【課題】酸化防止剤を用いたフラックスにおいて、鉛フリーソルダペーストの保存安定性や加熱時の耐だれ性、耐ソルダボール性を改善すること。
【解決手段】酸化防止剤(A)を含むフリーソルダペースト用フラックスにおいて、ベース樹脂(B)としてα,β−不飽和カルボン酸変性ロジン水素化物(b1)を、また添加剤として下記般式(1)で表される化合物(C)を使用する。
【化1】
(式(1)中、R1及びR2はいずれも水素又は炭素数1〜3のアルキル基を表す。)
(もっと読む)
導電性接合材料、並びに導体の接合方法、及び半導体装置の製造方法
【課題】加熱溶解後においても光沢性の良好な金属被膜を形成でき、自動外観検査装置の適用が可能となる導電性接合材料、並びに該導電性接合材料を用いた導体の接合方法、及び半導体装置の製造方法の提供。
【解決手段】第1の金属粒子と、前記第1の金属粒子よりも大きな平均粒径を有する第2の金属粒子と、前記第1の金属粒子よりも平均粒径が大きく、前記第1の金属粒子よりも比重が大きく、かつ前記第2の金属粒子よりも融点が高い第3の金属粒子とを含む導電性接合材料である。
(もっと読む)
低融点無鉛ハンダ及びその製造方法
【課題】ビスマスと錫とを主成分とする粘り性に優れ安価であり、ビスマスと錫とが均一的に分布するな低融点無鉛ハンダ及びその製造方法を提供する。
【解決手段】低融点無鉛ハンダは、第1所定Wt%のビスマスと、第2所定Wt%の錫と銅を含む金属群とからなり、前記金属群は、前記第2所定Wt%の第3所定Wt%の銅と、前記第2所定Wt%の0Wt%から3Wt%との間の銀と、残りが錫からなり、前記第1所定Wt%が54Wt%と56Wt%との間にあり、前記第2所定Wt%が46Wt%と44Wt%との間にあり、 前記第3所定Wt%が0.6Wt%と0.8Wt%の間にあることを特徴とする。
(もっと読む)
1 - 10 / 582
[ Back to top ]