【課題】複数の浮上ユニット側から基板カセットに基板を直接的に保管したり又は基板カセットから複数の浮上ユニット側に基板を直接的に送り出したりすることを可能にして、基板の浮上搬送を含む基板の一連の処理の能率向上を図る。
【解決手段】搬送路Ｐの所定領域Ｐｄにおける搬送幅方向の両側に支持フレーム３９がそれぞれ立設され、各支持フレーム３９に基板カセットを支持するカセットサポータ４３が昇降可能に設けられ、搬送路Ｐに沿って隣接関係にある浮上ユニット１９間に基板支持部材５１が進入できるようになっている。 （もっと読む）

【課題】板状基体の搬送方向からの位置ずれの補正が可能であり、安定した高精度の搬送が可能であって、かつ静電気の発生、およびパーテイクルの発生を、低減することができる浮上搬送装置および浮上搬送方法を得る。
【解決手段】板状基体の搬送路を形成する基台１０と、前記基台１０を覆う囲い板２０と、前記基台１０に配置された複数の噴射ノズルおよび複数の吸引ノズルと、板状基体の搬送時のずれを検出する手段とで構成される浮上搬送装置１００であって、前記複数の噴射ノズルは、板状基体を前記基台１０の面に沿って浮上搬送させ、前記複数の吸引ノズルは、前記噴射ノズルの列の外側に配置されて、板状基体の搬送時のずれを検出する手段からの信号によって、前記複数の吸引ノズルのいずれかの吸引力が調整されて、前記板状基体３０の搬送のずれが補正される浮上搬送装置１００とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、板状基体の形状や重量の影響を除き、板状基体に対して迅速な調芯をすることができる浮上搬送装置を提供する。
【解決手段】板状の搬送面（上面１₁）を具備し、この搬送面に沿って板状基体を送るための基部１と、搬送面から気体を噴出することによって、板状基体を搬送面から浮上させると共に浮上した板状基体を搬送面に沿って移動させる第１噴出手段と、第１噴出手段によって浮上した板状基体を搬送面の中心位置Ｉ₂に保つために、気体を噴出する第２噴出手段（２Ｆ₁〜２Ｈ₁，２Ｆ₂〜２Ｈ₂）とを備えた。 （もっと読む）

【課題】 被処理体が大型化しても真空処理容器の大きさを極力抑制できる真空処理装置を提供すること、および大型の搬送アームを使用せずに真空処理装置への被処理体の搬送が可能な真空処理システムを提供すること。
【解決手段】 第１の真空搬送装置２００ａ内からプラズマ処理装置１００内へ向けて基板Ｓを浮上搬送するには、基板Ｓの裏面側に搬送ステージ２０３の浮上用ガス噴射孔２０７から浮上用ガスを噴射して浮上させた状態で基板Ｓを一対のガイド装置２０５の保持部材２１３によって保持し、可動支持体２１７をレール２１５上でプラズマ処理装置１００へ向けて移動させる。次に、保持部材２１３による保持を解除し、載置台１０３のガス噴射孔１０３ｂからのガスにより基板Ｓを静止浮上させて、プラズマ処理装置１００へ基板Ｓを受け渡す。 （もっと読む）

【課題】複数の浮上ユニット３９側に基板Ｗを受渡したり又は複数の浮上ユニット３９側から基板Ｗを受取ったりすることを可能にした上で、圧縮空気の消費量を減らして、浮上搬送装置１のランニングコストの低減を図ること。
【解決手段】搬送方向に隣接関係にあるいずれかの浮上ユニット３９間の間隙に、基板受け部材４３を挿入できるように、隣接関係にあるいずれかの浮上ユニット３９のうちの少なくとも一方が搬送方向へ移動可能に構成されていること。 （もっと読む）

【課題】浮上ユニット３９の上面又は基板Ｗの裏面に導電性被膜を形成することなく、基板Ｗと浮上ユニと３９との接触を検知して、浮上搬送装置１のメンテナンスに要する手間とコストを削減する。
【解決手段】装置フレーム３に浮上ユニット３９が搬送方向に沿って配設され、装置フレーム３に基板Ｗと浮上ユニット３９との接触による弾性音波を検出するＡＥセンサが設けられていること。 （もっと読む）

【課題】基板の振動や変形を抑制しつつ基板を高速度で搬送する。
【解決手段】基板ハンドリングシステム１は、ガラス基板Ｇを搬送するための搬送路２０を備え、搬送路２０は、エアの吹出及び吸引によって搬送路２０上でガラス基板Ｇを浮上保持する基板浮上装置２５と、ガラス基板Ｇを保持し当該ガラス基板Ｇを移動させる駆動機構２４と、を有しており、ガラス基板Ｇを浮上保持しながら搬送方向Ｘに搬送する。この基板ハンドリングシステム１では、ガラス基板Ｇを高速度で搬送しても、ガラス基板Ｇの主面が傷付くのを確実に抑制できると共に、高い保持剛性によって、ガラス基板Ｇの振動を抑制し且つガラス基板Ｇに変形があってもこれを搬送路２０に倣った状態にすることができる。 （もっと読む）

【課題】板状部材を厚み方向に沿った線を中心として回動させる場合にもタクトを短縮できる板状部材の搬送装置および板状部材の搬送方法を提供する。
【解決手段】搬送装置１０は、上方に向かって複数の噴射口から気体を噴射することによりガラス基板１１を浮上させる浮上部材２１を有する浮上手段２０と、浮上手段２０によりガラス基板１１が浮上部材２１から浮上した状態でガラス基板１１を保持するとともに搬送方向に沿って下流側に向かってガラス基板１１を搬送する搬送手段３０とを備える。搬送手段３０は、搬送方向に沿って移動可能であるとともにガラス基板１１の厚み方向に沿った線を中心として軸回転可能な吸着パッド３４を有する。パッド３４は、ガラス基板１１の平面中央部に吸着する。 （もっと読む）

【課題】変形を抑制しつつ安定して平板状部材を搬送することのできる搬送装置を提供する。
【解決手段】ガラス基板９０の搬送装置は、ガラス基板９０を吊下げるようにその上部を把持するチャック装置５０と、直線の搬送経路に沿って延びるように形成され、チャック装置５０によって吊下げるように把持されるガラス基板９０の下部を両面から非接触で支持する流体支持装置４０ａ，４０ｂと、ガラス基板９０の下部が流体支持装置４０ａ，４０ｂにより支持される状態で維持されるように搬送経路に沿ってチャック装置５０を移動させる電動スライダ３０とを備える。 （もっと読む）

【課題】被浮上体の回転時にその角部近辺の下面に流体が当たるようにし、被浮上体が撓まないようにして、被浮上体と流体噴出体30との接触防止を図る。
【解決手段】浮上装置10は、複数の通常流体噴出体31（30）が所定の配列で配置されて構成される通常浮上領域40と、浮上した状態の被浮上体の下面に吸着されるものであって通常浮上領域40内の所定位置に配置される吸着体60と、回転軸72を中心に吸着体60を回転させる回転機構70とを備える。回転軸72を中心とし少なくとも一部が通常浮上領域40外を通過する領域外通過円50を設定する。通常浮上領域40外における領域外通過円50の円周上に、円周上流体噴出体32（30）を配置し、被浮上体における、回転に伴って通常浮上領域40から外れた部分を、円周上流体噴出体32（30）から噴出させた流体により浮上させる。 （もっと読む）