【課題】 メントールは、清涼感・冷涼感を有するため、各種飲食品、医薬、化粧料、嗜好品、トイレタリー製品等に使用されている。しかしながら、メントールは昇華性および揮発性を有するために、製品の保存中の温度変化等により揮散し、含量が減少することがある。本発明は、物質の吸着性に優れ、外部からの物理的・化学的刺激により穏やかな脱着性または放出制御特性に優れた物質担持多孔質シリカおよび該多孔質シリカを含有した組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】 多孔質シリカに、メントール、揮発性物質、温熱性物質、植物ポリフェノールおよび有機色素からなる群より選択される物質を担持することにより上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】高溶融率かつ高球形度の球状無機質粉末を容易に製造すること。
【解決手段】無機質粉末を流動媒体に同伴させ、その混合物をバーナーから炉内に噴射する際に、バーナーの先端又は近傍で、燃料ガス及び助燃ガスの少なくとも一方のガスを混合物に添加することを特徴とする球状無機質粉末の製造方法。本発明においては、燃料ガス及び助燃ガスの少なくとも一方のガスを添加する位置が、バーナー先端面よりも内側であり、しかも混合物の内部であることが好ましい。また、ガスが添加される前に、混合物が分散手段を経由していることが好ましい。また、流動媒体が、助燃ガス及び非酸化性ガスの少なくとも一方であることが好ましい。さらには、無機質粉末を水スラリーとして供給することが好ましい。 （もっと読む）

ガラスは、プリフォームの縦方向に対してほぼ平行に前後に動くプラズマトーチの前方で動かしてプリフォームに予備焼結組成物を堆積させることにより製造され、第１の供給ダクトはプラズマに予備焼結組成物の粒を供給し、場合により第２の供給ダクトはプラズマにキャリアガスと混合されたフッ素化合物又は塩素化合物、有利にフッ素化合物を供給し、その際、前記の予備焼結組成物は、３０〜９０ｍ²／ｇのＢＥＴ表面積、８０以下のＤＢＰインデックス、２５０００ｎｍ²より低いアグリゲート平均面積、１０００ｎｍより低いアグリゲート平均周長を有し、その際、前記アグリゲートの少なくとも７０％は１３００ｎｍより低い周長を有する熱分解二酸化ケイ素粉末、又は火炎加水分解法により３０ｐｐｂよりも低い金属含有量を有する四塩化ケイ素の反応により製造された０．２μｇ／ｇよりも低い金属含有量を有する熱分解法により製造された高純度の二酸化ケイ素の金属酸化物又はメタロイド酸化物の顆粒からなる。 （もっと読む）

【課題】長期保存後でもゲル化及び沈殿作用に対して優れた安定性を有するとともに、非常に高い固体分を有する分散体を得ることができる分散体安定化方法を提供する。
【解決手段】分散体がホウ素を含む。
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ゾルゲル法によるモノリスの製造方法において、以下の工程：ａ）アルコキシドを水溶液中で加水分解して加水分解物を形成させ、そして場合によりこれを最適な濃度に蒸発させる工程、ｂ）熱分解経路により製造された酸化物を添加する工程、ｃ）このアルコキシドの加水分解物と、この熱分解経路により製造された酸化物とを混合してコロイドゾルを形成させる工程、ｄ）場合によりこのコロイドゾルから粗い含有物を除去する工程、ｅ）このコロイドゾルを型中でゲル化させる工程、ｆ）場合により得られるエアロゲル中に含まれる水を有機溶剤で置換する工程、ｇ）このエアロゲルを乾燥させる工程、ｈ）この乾燥エアロゲルを熱処理する工程を含み、その際、このコロイドゾルから粗い含有物を除去する方法。 （もっと読む）

【課題】 シリコンマスクを形成するエッチング処理時に、エッチング処理を最適な時期に終了させることが容易なマスク、及びマスクの製造方法を提案する。
【解決手段】 被成膜基板に対して所定パターンを有する薄膜を形成するためのシリコンマスクＭが、シリコン基材Ｓ上に、所定パターンに対応する開口部２０と、開口部２０を形成する際の形成状態を検知可能な検知部１５と、を備える。
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超高純度の光学品質ガラス製品を製造する方法が開示され、前記方法は、
１． 金属酸化物又はメタロイド酸化物を緻密化して約１ミリメートルより小さい平均粒子サイズを有する顆粒にする工程；
２． 場合により、前記顆粒を完全に焼結させて、高純度の人工砂を製造する工程；
３． この顆粒状の人工砂を通常の技術、例えばスリップ注型成形により注型して、高密度の多孔性成形体を作成する工程；
４． 場合により、前記成形体を乾燥及び部分的に焼結する工程；
５． 場合により、前記成形体を真空下で完全に焼結する工程；及び
６． 場合により、前記の完全に焼結した成形体を熱間静水圧加圧成形する工程を有し、
その際、前記金属酸化物又はメタロイド酸化物は、ＢＥＴ表面積３０〜９０ｍ²／ｇ、ＤＢＰインデックス８０より低、アグリゲート平均面積２５０００ｎｍ²より低及びアグリゲート平均周長１０００ｎｍより低を有し、その際、前記アグリゲートの少なくとも７０％は１３００ｎｍより短い周長を有する熱分解二酸化ケイ素粉末、又は０．２μｇ／ｇより低い金属含有量を有する熱分解法により製造された高純度二酸化ケイ素である。 （もっと読む）

二酸化ケイ素をベースとし、かつ次の特性：平均粒度：１０〜１２０μｍ、ＢＥＴ表面積：４０〜４００ｍ²／ｇ、細孔容積：０．５〜２．５ｍｌ／ｇ、細孔分布：合計の細孔容積の５％未満が、直径＜５ｎｍを有する孔であり、残りはメソ孔及びマクロ孔、ｐＨ値：３．６〜８．５、タップ密度：２２０〜７００ｇ／ｌを有する顆粒。前記顆粒は、二酸化ケイ素を水中に分散、噴霧乾燥、場合により加熱及び／又はシラン化することにより調整される。その際、ＢＥＴ表面積３０〜９０ｍ²／ｇ、ＤＢＰ値８０以下、アグリゲート平均面積２５０００ｎｍ²未満及び平均アグリゲート周長１０００ｎｍ未満を有し、アグリゲートの少なくとも７０％が１３００ｎｍより小さい周長を有する熱分解二酸化ケイ素粉末又は０．２μｇ／ｇより少ない金属含有量を有する高純度な熱分解により調整された二酸化ケイ素（３０ｐｐｂよりも少ない金属含有量を有する四塩化ケイ素を火炎加水分解により反応させて調整された）が使用される。 （もっと読む）

【課題】 無機ガスや低沸点有機化合物の分離性能に優れた均一なシリカゲル層を有するキャピラリー体を提供する。
【解決手段】 中空貫通孔を有する直径１０〜１０００μｍの筒状多孔質シリカであって、筒状体を構成する多孔質シリカの細孔直径が２〜１５ｎｍであり、且つ、該中空貫通孔の直径が０．１〜１００μｍであることを特徴とする筒状多孔質シリカである。 （もっと読む）

【課題】 光導波路構造や光ファイバーの新しい形成方法、既存の半導体電気回路形成技術を発展させる技術に有用な、空間制御性に優れかつ高温で熱処理する必要のない簡便な非晶質シリカの結晶化方法を提供する。
【解決手段】 非晶質シリカにイオンを添加した後、酸化性雰囲気中で非晶質シリカを熱処理して結晶化させる。 （もっと読む）