【課題】ＩＴＯ粉体における抵抗の経時変化を少なくして、大気中での安定性を向上させること。
【解決手段】錫含有水酸化インジウムを不活性ガスおよび還元性ガスの雰囲気下で焼成し、大気中に暴露する前に、０℃以上１００℃以下の温度で、水分を含む、不活性ガスおよび／または還元性ガス雰囲気下で所定の時間処理してＩＴＯ粉体を製造する。 （もっと読む）

【課題】導電性を損なうことなく、エッチング特性に優れるＺｎ、ＳｎおよびＯから構成される透明導電性膜を提供する。
【解決手段】Ｚｎ、ＳｎおよびＯから構成される透明導電性膜であって、ＺｎモルとＳｎモルの和に対するＺｎモルの比（Ｚｎ／（Ｚｎ＋Ｓｎ））が０．４１以上０．５５以下の範囲であり、非晶質膜であり、膜の抵抗率が１×１０^-2Ωｃｍ未満であることを特徴とする透明導電性膜。Ｚｎ、ＳｎおよびＯから構成される焼結体であって、ＺｎモルとＳｎモルの和に対するＺｎモルの比（Ｚｎ／（Ｚｎ＋Ｓｎ））が０．５３以上０．６５以下の範囲である焼結体をスパッタリング用ターゲットとして用い、酸素が実質的に存在しない不活性ガス中で、スパッタリングにより透明導電性膜を製造することを特徴とする上記の透明導電性膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】導電性が高く、大気中であっても導電性の経時変化の少ないＩＴＯ導電膜を成膜できるＩＴＯ粉体を提供する。
【解決手段】スズ含有水酸化インジウムを焼成炉内に設置し、アンモニアを０．５％含有する窒素雰囲気下で５５０〜１０００℃、１０ｍｉｎ〜６ｈｒ焼成して１次粒子径が２０ｎｍ以上、２００ｎｍ以下のＩＴＯ粉体を製造し、一方、これと同様だが、焼成時間の制御により、当該１次粒子径が１ｎｍ以上、２０ｎｍ以下のＩＴＯ粉体を製造する。そして、当該１次粒子径が１ｎｍ以上、２０ｎｍ以下のＩＴＯ粉体と、１次粒子径が２０ｎｍ以上、２００ｎｍ以下のＩＴＯ粉体とを、所定の割合で混合して本発明に係るＩＴＯ粉体を得る。 （もっと読む）

【課題】ノジュール発生のない優れた特性を有するＩＴＯスパッタリングターゲットを安定的に製造することを可能とする。
【解決手段】ＢＥＴ法によって求めた比表面積相当径とＸ線回折により求めた結晶子径との比（比表面積相当径／結晶子径）が１．０未満のＩＴＯ粉末を用いることにより、非常に高密度のＩＴＯ焼結体を安定的に製造することができ、ノジュール発生のない優れた特性を有するＩＴＯスパッタリングターゲットを製造することができる。このようなＩＴＯ粉末はＩＴＯ焼結体の粉砕により得ることが可能であり、使用済みターゲット等から回収されたＩＴＯ焼結体の再利用が可能となる。 （もっと読む）

【課題】原料溶液を使用しない製造方法であって、導電性の優れた酸化物粒子を得られる製造方法を提供する。
【解決手段】Ｉｎ原子及びＳｎ原子を含む原料を、不活性ガス雰囲気下で加熱処理する酸化物粒子の製造方法であって、酸化物粒子の、酸素を除く全原子に占めるＩｎ原子及びＳｎ原子の含有率が、それぞれ、８０≦Ｉｎ≦９９モル％、１≦Ｓｎ≦２０モル％である酸化物粒子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】液体中でのナノ粒子およびマイクロ粒子の安定な分散液、およびそれらの調製のための方法の提供。
【解決手段】ａ）約０．１重量％〜約２５重量％の２，３−ジヒドロキシナフタレン−６−スルホン酸塩または２，３−ジヒドロキシナフタレン−６−スルホン酸塩の混合物ｂ）約１重量％〜約９０重量％の金属酸化物粒子、金属酸化物表面を有する粒子およびそれらの混合物からなる群から選択される粒子ｃ）約１０重量％〜約９０重量％の液体を含み、前記粒子が極性液体中に分散されている組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明は、高い出力特性を得ることが可能なプロトン伝導性無機材料、電解質膜、電極、膜電極複合体及び燃料電池を提供する。
【解決手段】プロトン伝導性無機材料は、Ｗ、Ｍｏ、Ｃｒ、Ｂ及びＶよりなる群から選択される少なくとも一種類からなる元素Ｘを含有する酸化物粒子と、Ｓｎ、Ｈｆ、Ｇｅ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｃｅ及びＮｂよりなる群から選択される少なくとも一種類からなる元素Ｙを含有し、前記酸化物粒子が担持される酸化物担体とを含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】紫外線、近赤外線の遮へい能力に優れたガラス基板を提供する。
【解決手段】平均粒径、粉体色を特定したインジウム−錫酸化物粉体からなる膜をガラス基板の上に形成する。前記インジウム−錫酸化物粉体の体積含有率は、該インジウム−錫酸化物膜の光学特性を考慮して適正な値に限定する。
これにより、可視光線とを透過し紫外線と近赤外線を同時に、しかも高遮へい能力で遮蔽することができる。電波透過性を制御することができる。インクの塗布、乾燥という簡便な方法で製造できる。 （もっと読む）

【課題】薬液の回収効率を向上させた成膜装置を提供すること。
【解決手段】本発明の成膜装置は、スプレー熱分解法により被処理体の一面上に薄膜を形成する成膜装置であって、前記被処理体を載置する支持手段と、前記被処理体の一面に向けて、前記薄膜の原料溶液からなる薬液ミストを噴霧する吐出手段と、成膜に利用されなかった薬液ミストの熱を奪うための冷却手段と、前記被処理体の近傍に導入部を配してなる排気手段と、を少なくとも備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】焼成して作製した酸化物粒子あって、Ｉｎ含有量が少ない場合でも良好な導電性が得られる酸化物粒子を提供する。
【解決手段】酸素を除く全原子に占めるＩｎ、Ｚｎ及びＳｎの含有率が、それぞれ、２０≦Ｉｎ≦８０モル％、０≦Ｚｎ≦８０モル％、０≦Ｓｎ≦８０モル％であり、不活性ガス雰囲気下で焼成してなる酸化物粒子。また、この酸化物粒子を粉砕した後、さらに不活性ガス雰囲気にて熱処理することで、さらに導電性を向上できる。 （もっと読む）