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国際特許分類[C01G19/00]の内容

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【課題】ITO薄膜形成に好適な高密度化と成分の均一性に優れた焼結体を得ることができる酸化錫粉末及び該粉末を用いて焼結したITO膜形成用スパッタリングターゲットを提供するものであり、これによってITO薄膜形成時に発生するノジュール等やそれに伴う薄膜の品質の低下を抑制できるITO膜形成用酸化錫−酸化インジウムターゲットを低コストで提供する。
【解決手段】粒度分布から求めたメジアン径が0.40〜1.0μmの範囲にあり、かつ粒度分布から求めた90%粒径が3.0μm以下の範囲にあることを特徴とするITOスパッタリングターゲット用酸化錫粉末。 (もっと読む)


【課題】超疎水性のセルフクリーニング機能を備えた粉体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、超疎水性のセルフクリーニング機能を備えたナノ/ミクロン二元構造の粉体を開示する。前記粉体はミクロンスケールの粒径とナノスケールの表面粗さに特徴を持つ。一実施の形態において、その平均粒径は約1〜25μm、平均粗さRaは約3〜100nmである。前記ナノ/ミクロン二元構造の粉体は、シリカ、金属酸化物またはこれらの組み合わせからなるものとすることができる。 (もっと読む)


【課題】 アクティブチャンネルとして、酸素と、窒素と、亜鉛、錫、ガリウム、カドミウム、及びインジウムからなる群より選ばれる一つ以上の元素とを含む半導体材料を有するTFTを提供する。
【解決手段】 半導体材料は、底部ゲートのTFT、最上部ゲートのTFT、他のタイプのTFTに用いることができる。TFTは、エッチングによってパターン形成されて、チャンネルと金属電極の双方を作成させることができる。次に、エッチング停止層として半導体材料を用いたドライエッチングによってソース・ドレイン電極を画成することができる。アクティブ層のキャリヤ濃度、移動度、TFTの他の層との接合部は、あらかじめ決められた値に調整可能である。この調整は、窒素含有ガスと酸素含有ガスの流量比を変えること、堆積された半導体膜をアニーリングし更に/又はプラズマ処理すること、或いはアルミニウムのドーピング濃度を変えることによって達成することができる。 (もっと読む)


【課題】熱線および紫外線に対して優れた遮蔽性を有し、耐候性の良い透明層を形成する組成物および該透明層とその用途を提供する。
【解決手段】紫外線および熱線の遮蔽材としてインジウム錫酸化物(ITO)粉末および酸化亜鉛(ZnO)粉末を含有し、またはITO粉末およびZnO粉末と共にアンチモン錫酸化物(ATO)粉末を含有し、少なくとも何れかの遮蔽材粉末が900〜1200nmの波長域において吸収性を有するシリカ質被膜を有し、リン酸基またはスルホン酸基を有する有機化合物からなる保護剤の存在下に分散されたものであることを特徴とする透明遮蔽層形成用組成物であり、好ましくは、上記シリカ質被膜がアミノ基を含有するものである透明遮蔽層形成用組成物である。 (もっと読む)


【課題】導電性の低下を抑制しながら、優れた透明性を有する透明導電体を実現できる透明導電体及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】水と異なる極性溶媒中に透明導電粉を含む導電粉含有液と、加水分解により金属酸化物となる金属アルコキシドを含むゾル液とを混合して混合液を得る工程と、混合液を基板上に塗布する工程と、混合液中の溶媒を水分の存在下で除去しながら混合液中の金属アルコキシドを加水分解し、基板上に透明導電層を得る工程とを含む透明導電体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】200℃以下の低温度での金属酸化物薄膜の製造、および均質な有機−無機複合体の製造に適した金属酸化物ゾルを提供するとともに、各種機能を有する金属酸化物薄膜および有機−無機複合体、特に高屈折率、高透明性を有する有機−無機複合体を提供すること。
【解決手段】有機溶媒中、酸、塩基、及び/または分散安定化剤の非存在下、金属アルコキシドに対し0.5〜1倍モル未満の水を用いて加水分解、または、−20℃以下で金属アルコキシドに対し1.0〜2.0倍モル未満の水を用いて加水分解することで、有機溶媒中凝集せずに安定に分散している金属−酸素結合を有する分散質が得られ、該分散質を用いることで200℃以下の低温度での製造される金属酸化物薄膜、および均質な有機−無機複合体が得られる。 (もっと読む)


【課題】本開示は、メチルエチルケトン(MEK)および酢酸ブチルのような有機溶媒中で金属酸化物ナノ粒子を分散させるための、2−[2−(2−メトキシエトキシ)エトキシ]酢酸を含む酸系高分子分散剤に関係する。
【解決手段】本発明は、金属または金属酸化物粒子(例えば、ナノ粒子)を表面処理するための組成物に関係する。その組成物は、
i)質量基準でナノ粒子に対して約1:10〜約5:1の比率の少なくとも一つの表面処理剤2−[2−(2−メトキシエトキシ)エトキシ]酢酸、および
ii)質量基準でナノ粒子に対して約1:10〜約5:1の少なくとも一つの酸官能性高分子分散剤、
を含む。 (もっと読む)


【課題】ITO粉やATO粉等の熱線遮蔽材を分散させた透明膜について、900nm〜1200nmの波長域の赤外線吸収性を高めた熱線遮蔽効果に優れた近赤外線遮蔽組成物を提供する。
【解決手段】熱線遮蔽材粉末を含有する透明層形成組成物であって、熱線遮蔽性を有すると共に、該粉末表面がシリカ質被覆を有することによって900〜1200nmの近赤外線域において吸収性を有することを特徴とし、好ましくは、熱線遮蔽材粉末として、ITO粉末、ATO粉末、酸化インジウム粉末を含有し、該熱線遮蔽材粉末表面の被膜にアミノ基含有シリカ質被膜を有する近赤外線遮蔽組成物。 (もっと読む)


【課題】簡単かつ安価なプロセスで得られ、導電性に優れた導電性金属酸化物粉末の提供。
【解決手段】導電性金属酸化物粉末の組成として、インジウムにゲルマニウムと錫を共存させるとともに、インジウム1モルに対するゲルマニウムと錫のモル合計が0.02よりも大きく、0.4未満となる組成を適用することにより、より良好な導電性を有する導電性金属酸化物粉末を得ることができる。主たる原料を酸化物にしているので、溶液系を用いなくても、酸化物微粒子を機械的に混合しまたは粉砕した原料を加熱することにより、微小な粒径を有する良好な導電性金属酸化物粉末を得ることができ、廃水処理や還元処理を実施する必要がなく、プロセスの簡略化やコスト低減を容易に図ることができる。酸化物原料を用いるので、溶融法と比べて、容易に高結晶性で欠陥の少ない微粒子とすることができ、より高い電気伝導性が得られる。 (もっと読む)


この発明は、極性絶縁体である、一般式ABONの部分的に規則正しい且つ規則正しいオキシ窒化灰チタン石に関する。Aは灰チタン石型構造においてのA−位置から由来する位置に存在する1種以上の陽イオン、又は複数の陽イオンのセットを含む。Bは灰チタン石型構造においてのB−位置から由来する位置に存在する1種以上の陽イオン、又は複数の陽イオンのセットを含む。Cは随意的に幾らかの窒素、Nと共に酸素、Oを含み、そしてDは随意的に幾らかのOと共にNを含む。陽イオンA+Bの合計原子価は陰イオン2C+Dの合計原子価に等しい。また、そのようなオキシ窒化灰チタン石を製造する方法、及びそのようなオキシ窒化灰チタン石の用途が開示される。
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