【課題】アーク加熱によって回転モールドの碗状内面に成形された石英粉成形体を加熱溶融して石英ガラスルツボを製造するための石英ガラスルツボ製造装置において、気泡の効率的な除去を可能としながらも、回転モールドから石英ガラスルツボを容易に取り出せるようにする。
【解決手段】回転モールド１０の碗状内面１０Ａのうち、その上端開口縁１０Ｃを画成する円環帯状の上端開口縁部分１１Ａの熱伝導速度を、当該上端開口縁部分１１Ａを除く碗状内面１０Ａの残部１２Ａよりも高く設定する。また、回転モールド１０を、碗状内面１０Ａの残部１２Ａをなすモールド本体１２と、碗状内面１０Ａの上端開口縁部分１１Ａをなす開口縁部材１１とにより構成し、開口縁部材１１をモールド本体１２に対して着脱自在とする。 （もっと読む）

【課題】単結晶引き上げクリーンルーム内での清浄度低下の防止を図る。
【解決手段】原料粉末をルツボ成形用のモールド１０内に成形し、その成形体１１をアーク溶融により加熱溶融して石英ガラスルツボを製造する方法であって、
アーク溶融をおこなう炭素電極１３として、石英ガラスの結晶化促進剤を含有する電極を用いて前記石英ガラスルツボ内側表面に結晶化促進剤含有層を形成する。 （もっと読む）

【課題】シリコン単結晶引上げ終了後、ルツボの冷却時間を短縮し、シリコン単結晶の製造効率の向上を図るために、ルツボ外周に接するカーボンルツボへの伝熱性及び放熱性に優れたシリコン単結晶引上げ用シリカガラスルツボを提供する。
【解決手段】底部１と円筒状の側壁部２との間にアール状のコーナー部３を有する３層構造のシリカガラスルツボとし、第１層４は、透明シリカガラス、又は、平均気孔径１２０μｍ以下の気孔を含有し、気孔密度３０個／ｍｍ³以下の不透明シリカガラスにて、前記底部中央から、ルツボの中心を通る鉛直方向断面において前記コーナー部３の最も曲率が大きい箇所とその曲率中心とを結ぶ直線に対して、前記曲率中心周りに±５°以内の位置にかけて形成し、第２層５は、平均気孔径８０〜１２０μｍの気孔を含有し、気孔密度４０〜８０個／ｍｍ³の不透明シリカガラスにて形成し、第３層６は、透明シリカガラスにて形成する。 （もっと読む）

本発明は、石英ルツボおよびその製造方法に関する。本発明による石英ルツボは、単結晶成長装置に使用される石英ルツボであって、シリカからなる内部層と、窒素が添加されたシリカからなり、前記内部層の外側に位置して前記内部層を取囲む外部層と、を含む。 （もっと読む）

【課題】合成石英ガラスに対してＵＶレーザ光やＵＶ光の長期照射に対する耐性を備えるのに必要な水素を効率的に含浸させ、ガラス内の水素濃度分布の平準化を図る。
【解決手段】合成石英ガラスを、水素を含む雰囲気中で、第１温度で加熱する第１加熱工程と、前記合成石英ガラスを、水素を含まない雰囲気中で、前記第１温度以上の第２温度で加熱する第２加熱工程と、前記合成石英ガラスを、水素を含む雰囲気中で、前記第２温度以下の第３温度で加熱する第３加熱工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】内層の透明層が、外層の不透明層よりも厚いシリカガラスルツボであって、シリコン単結晶引上げに使用した後、ルツボの冷却時に割れることのない、シリコン単結晶引上げ用シリカガラスルツボを提供する。
【解決手段】底部１と円筒状の側壁部２との間にアール状のコーナー部３を有し、外層４が不透明層、内層５が透明層からなり、前記透明層５が前記不透明層４よりも厚いシリカガラスルツボにおいて、前記底部１から前記コーナー部３にかけて透明層５内に、前記不透明層４と接触せず、かつ、ルツボ内表面に露出しないように、平均気孔径６０〜１２０μｍの気孔を含有し、気孔密度５０〜１００個／ｍｍ³の多孔質層６を形成する。 （もっと読む）

一定の外面形状を有し、反射コーティングが設けられるように意図され、かつミラー基板を意図されるように使用する際に高い負荷を受ける帯域として規定される、表面区域（surface region）を有する、ＥＵＶリソグラフィに使用されるミラー基板用の、高シリカ含有量を有するチタンドープガラス（ガラス）のブランクを製造する既知の方法に基づき、低コストで製造することができるにもかかわらず、均一性並びにブリスタ及び脈理がないことについて高い要件を満たすブランクを提供するために、（ａ）外面形状を包含するのに十分な大きさよりも大きい寸法を有するチタンをドープした高品質のガラスの前部体を作製する方法工程と、（ｂ）チタンドープガラスから円筒形の支持用基体（supporting body）を作製する方法工程と、（ｃ）前部体と支持用基体とを結合させる方法工程であって、複合体を形成する、前部体と支持用基体とを結合させる方法工程と、（ｄ）複合体を加工する方法工程であって、ミラー基板用ブランクを形成する、複合体を加工する方法工程とを含む手法が提案され、ここで、前部体を作製する工程は、ケイ素含有化合物の火炎加水分解によってストランドの形態で得られる出発用基体（starting body）をねじり加工して、前部体ブランクを形成することを伴う均一化プロセスを含み、支持用基体は、前部体よりも均一性の低い一体構造のガラスブロックとして形成される。 （もっと読む）

【課題】シリコン単結晶引上げの際、ルツボ内の原料シリコンを溶融するための加熱開始直後に、外周に接するカーボンルツボと十分な密着性が得られるシリコン単結晶引上げ用シリカガラスルツボを提供する。
【解決手段】底部１と円筒状の側壁部２との間にアール状のコーナー部３を有する３層構造のシリカガラスルツボとし、底部２中央から、ルツボの中心を通る鉛直方向断面においてコーナー部３の最も曲率が大きい箇所とその曲率中心とを結ぶ直線に対して、曲率中心周りに±５°以内の位置にかけて形成された、ＯＨ基含有濃度が３０〜３００ｐｐｍの合成シリカガラスからなる厚さ１〜５ｍｍの第１層４と、天然シリカガラスからなる不透明層の第２層５と、天然シリカガラス、又は、Ｎａ、Ｋ、Ａｌの金属不純物含有量が各々１ｐｐｍ以下の高純度合成シリカガラスからなる透明層である第３層６とを備えた構成とする。 （もっと読む）

【課題】ＶＡＤ法やＯＶＤ法による大型の光学硝材用の合成石英の製造方法であって、効率よく、かつ確実に成長軸方向の非屈折率や複屈折の変動が小さい方法を提供する。
【解決手段】スス付け中の成長軸方向での成長速度変動が±５％以内になるように、水素ガス流量、排気圧、及び、堆積面温度の少なくとも１つを制御して石英ガラス微粒子堆積体を製造し、この微粒子堆積体を焼結炉Ｂに挿入、焼結して合成石英ガラス母材４を製造する。 （もっと読む）

【課題】露光装置、レーザ加工装置、光洗浄装置等、集積回路等の微細パターンを露光・転写に用いるステッパ露光装置に用いられる光学系材の蛍光発光による欠陥をなくし、強度低減できるより優れた透過性能を備えた合成石英ガラスの提供。
【解決手段】水素含浸処理前の合成石英ガラスは、２８０ｎｍ帯の蛍光ピークに相当する欠陥、及び３９０ｎｍ帯の蛍光ピークに相当する欠陥が抑圧されており、水素含浸処理により、２８０ｎｍ帯の蛍光ピークに相当する欠陥、及び３９０ｎｍ帯の蛍光ピークに相当する欠陥、６５０ｎｍ帯の蛍光ピークに相当する欠陥が抑圧されている。 （もっと読む）