【課題】溶融状態において好適な流動性が生じるセラミック射出成形用材料を安定的に供給できるセラミック射出成形用材料の製造方法を提供する。
【解決手段】
本発明は、セラミック製品を射出成形により製造するために用いられるセラミック射出成形用材料を製造する方法である。この製造方法は、セラミック射出成形用材料を構成する、セラミック粉末と熱可塑性樹脂からなるバインダとを少なくとも含む混合材料を用意すること；混合材料を、バインダが溶融する温度域まで加熱して溶融状態にすること；溶融状態の混合材料について、所定の温度域における流体力学形状係数を算出すること；得られた流体力学形状係数を予め定めた許容値と対比し、許容値を下回る流体力学形状係数を有する混合材料をセラミック射出成形用材料として選択すること；を包含する。 （もっと読む）

【課題】主成分として有害物質鉛元素を含まずに、強誘電性を示しかつ外部磁場によって分極の大きさを制御可能な新規なマンガン酸化物、およびそのメモリへの利用を提供する。
【解決手段】マンガン酸化物は、ペロブスカイト構造を有する、式（１）Ｓｒ_１−ｘＢａ_ｘＭｎＯ_３（１≧ｘ＞０．４）・・・（１）で表されるマンガン酸化物である。単位格子１の対称中心には磁性イオンであるＭｎイオン３が存在する。単位格子１の対称中心をＭｎサイトとする。単位格子１が有する８個の頂点には、ＳｒイオンおよびＢａイオンのうちいずれか一方が存在している。単位格子１が有する頂点をＳｒサイト２とする。単位格子１が有する６面の面心には、Ｏイオン４が存在する。 （もっと読む）

【課題】耐熱性無機基板上に塗布法で形成された高い仕事関数を有する有機ＥＬ用透明導電性基材とその製造方法、有機ＥＬ素子を提供する。
【解決手段】基板１上に、主成分として有機インジウム化合物、または有機インジウム化合物とドーパント用有機金属化合物を含有する透明導電膜形成用塗布液、あるいは、主成分として有機錫化合物、または有機錫化合物とドーパント用有機金属化合物を含有する透明導電膜形成用塗布液を塗布して塗布膜を形成する塗布工程、前記塗布膜を乾燥して乾燥塗布膜を形成する乾燥工程、前記乾燥塗布膜を無機化して、酸化インジウム、またはドーパント金属酸化物を含む酸化インジウムである導電性酸化物を主成分とする無機膜、あるいは酸化錫、またはドーパント金属酸化物を含む酸化錫を主成分とする無機膜を形成する無機化工程の各工程からなる塗布法により透明導電膜３を形成する有機ＥＬ用透明導電性基材の製造方法。 （もっと読む）

【課題】アルカリ含有ニオブ酸系ペロブスカイト構造を有し、９５０〜１０５０℃程度で緻密に焼結させることができ、且つ、その内部に存在する複数の電極と圧電セラミックスとを同時に焼成して多積層圧電セラミックス部品とした場合においても、良好な電気機械結合定数と、高い圧電特性を保持することが可能な、低鉛の圧電セラミックスを提供する。
【解決手段】主成分として組成式（Ｌｉ_ｘＮａ_ｙＫ_{１−ｘ−ｙ}）_ａ（Ｎｂ_１−ｚＴa_ｚ）Ｏ_３（但し、０．０４＜ｘ≦０．１、０≦ｙ≦１、０≦ｚ≦０．４、０．９５≦ａ≦１．００５）で表されるアルカリ含有ニオブ酸系ペロブスカイト構造を有した結晶によって構成される圧電セラミックスであり、該圧電セラミックスの素体を構成する複数の結晶粒子２０１の粒界又は粒界三重点において、Ｓｉ及びＫを含有する結晶相２０２又は非結晶相２０２を存在させる。 （もっと読む）

【課題】特性のバラツキを低減し、かつ特性が良好である射出成形用組成物を提供すること。
【解決手段】フェライト粒子の集合であるフェライト粉末と第１バインダと第２バインダとを有する射出成形用組成物であって、第２バインダは軟化点が第１バインダの軟化点よりも低く、フェライト粉末の重量をＷｐ、比表面積をＳとし、第１バインダ、第２バインダの重量をＷｂ１、Ｗｂ２、密度をＤｂ１、Ｄｂ２とし、第１バインダの仮想厚みＴｂ１が０．６〜３．０、第２バインダの仮想厚みＴｂ２が５．０〜１６．０である。該組成物中には、フェライト粒子の外周を第１バインダおよび第２バインダが覆う被覆フェライト粒子が存在することが好ましい。
Ｔｂ１[ｎｍ]＝（Ｗｂ１×１０^３）／（Ｄｂ１×Ｗｐ×Ｓ）…式１
Ｔｂ２[ｎｍ]＝（Ｗｂ２×１０^３）／（Ｄｂ２×Ｗｐ×Ｓ）…式２ （もっと読む）

【課題】流動性が高く、しかも成形体の強度を高めることができる射出成形用組成物およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】フェライト粒子の集合であるフェライト粉末と、第１バインダと、第２バインダと、を有する射出成形用組成物であって、射出成形用組成物中には、フェライト粒子（１０）の外周を第１バインダ（１）が覆い、第１バインダ（１）の外周を第２バインダ（２）が覆っている被覆フェライト粒子（２０）が存在する。第１バインダは親水性であり、第２バインダは疎水性であって、第２バインダの軟化点が、第１バインダの軟化点よりも低い。第２バインダ中にはワックス（３）が浸透していることが好ましい。射出成形用組成物は、フェライト粉末に、第１バインダ、第２バインダの順で混練して製造され、その後にワックスが添加されることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 耐熱衝撃性に優れ、かつ耐食性や強度の点でも優れ、各種溶融金属用容器の内張りレンガに好適な炭素含有耐火物を提供する。
【解決手段】 本発明の炭素含有耐火物は、炭素質原料と酸化物とを含む炭素含有耐火物において、下記の（１）式で定義される復元率Ｒが、４０％以上１５０％以下である弾力性黒鉛を、前記炭素質原料のうちの少なくとも一部に含有し、かつ前記弾力性黒鉛の前記炭素含有耐火物に占める割合が１．５質量％以上であることを特徴とする。但し、（１）式において、ｈ₀は粉体試料を３５ＭＰａの圧力で一軸圧縮している間の圧縮方向の試料長さ（ｍｍ）、ｈ_rは粉体試料を３５ＭＰａの圧力で一軸圧縮後に圧力を除いた後の圧縮方向の試料長さ（ｍｍ）である。
復元率Ｒ（％）＝１００（ｈ_r／ｈ₀−１）…（１） （もっと読む）

【課題】従来よりも抵抗値の低いＩｎ_２Ｏ_３−ＺｎＯ系酸化物導電膜を形成することができるスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】インジウム元素（Ｉｎ）、亜鉛元素（Ｚｎ）及び下記のＡ群から選択される少なくとも１つの元素（Ａ）を含有し、Ｉｎ、Ｚｎ及びＡの金属元素の組成（原子比）がＩｎ_ｘＺｎ_（1-ｘ）Ａ_ｙで表わされる酸化物からなり、ｘ及びｙが下記式（１）及び（２）を満たすスパッタリングターゲット。
Ａ群：Ａｌ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｓｃ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｇａ、Ｂ、Ｓｉ、Ｇｅ、ランタノイド
０．６８≦ ｘ ≦０．９５ （１）
０．０００１≦ ｙ ≦０．００４５ （２） （もっと読む）

【課題】スパッタリング用ターゲットとして好ましく使用され得る導電性酸化物およびその製造方法を提供する。
【解決手段】結晶質Ｉｎ₂Ｏ₃と、結晶質Ｇａ₂ＺｎＯ₄とを含む導電性酸化物であって、導電性酸化物において、Ｚｎの原子濃度比を１とした場合に、Ｉｎの原子濃度比が０．４以上１．８以下であり、かつ、Ｇａの原子濃度比が０．４以上１．８以下の導電性酸化物とし、Ｉｎ−Ｇａ−Ｚｎ−Ｏ酸化物のスパッタリング用のターゲットとして用いること。 （もっと読む）

【課題】使用済みのマグネシアカーボンレンガから高純度の黒鉛を容易に分離、回収すること。
【解決手段】使用済みマグネシアカーボンレンガの再利用方法は、使用済みのマグネシアカーボンレンガを粉砕する粉砕ステップと、粉砕ステップによって生成された粉砕物を水に投入し、浮遊選鉱法を利用して水から浮上物を分離、回収する回収ステップと、回収ステップによって回収された浮上物を耐火物原料として使用する再利用ステップと、を含む。これにより、使用済みのマグネシアカーボンレンガから高純度の黒鉛を容易に分離、回収することができる。なお、粉砕物の最大粒径が０．３［ｍｍ］以下にすることが望ましい。また、捕集剤としては、灯油又は軽油を用いることが望ましい。 （もっと読む）