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国際特許分類[C04B35/00]の内容

化学;冶金 (1,075,549) | セメント;コンクリート;人造石;セラミックス;耐火物 (33,771) | 石灰;マグネシア;スラグ;セメント;その組成物,例.モルタル,コンクリートまたは類似の建築材料;人造石;セラミックス;天然石の処理 (33,771) | 組成に特徴を持つ成形セラミック製品;セラミック組成;セラミック製品を製造するための無機化合物粉末の処理 (8,938)

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【課題】環境負荷が小さく且つ歪量が高い液体噴射ヘッド、液体噴射装置、及び圧電素子を提供する。
【解決手段】ノズル開口21から液体を吐出する液体噴射ヘッドであって、弾性膜50上に、第1電極60と、圧電体層と、圧電体層上に設けられた第2電極と、を具備する圧電素子300を備え、圧電体層は、ビスマス、鉄、バリウム及びチタンを含むペロブスカイト構造の複合酸化物からなり、圧電体層の膜厚を620nm以上1520nm以下の範囲とする。 (もっと読む)


【課題】使用中のAlCの酸化を抑制でき、AlCの効果を長時間持続させることができるアルミニウムオキシカーバイド組成物を提供すること。
【解決手段】AlCの結晶を有するアルミニウムオキシカーバイド組成物において、当該アルミニウムオキシカーバイド組成物を任意の断面で見たときに、AlCの結晶の断面積を円に換算したときの平均直径が20μm以上である。このアルミニウムオキシカーバイド組成物は、炭素質原料とアルミナ質原料とをアーク炉で溶融後、当該アーク炉内で冷却することで製造できる。 (もっと読む)


【課題】所望とする化合物相で構成されたスパッタリング用ターゲットを安定して製造することができるホウ酸リチウム系スパッタリング用ターゲットの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の一実施形態に係るホウ酸リチウム系スパッタリング用ターゲットの製造方法は、酸化リチウム系粉末と酸化ホウ素系粉末との混合粉末を溶解する工程と、前記混合粉末の溶解物を凝固させ、粉砕した凝固粉末を作製する工程と、前記凝固粉末を仮焼する工程と、仮焼した前記混合粉末を焼結する工程とを有する。上記製造方法においては、酸化リチウム系粉末と酸化ホウ素系粉末との混合粉末を一旦溶解し、その後冷却することで原料粉末の化合物化を促進し、所望とする化合物相を有するホウ酸リチウム粉末及びその焼結体を安定に製造することができる。 (もっと読む)


【課題】高温焼成してもクラックが入らず、故人の遺体と一緒に火葬して故人の魂が乗り移った遺品として祀ることができるようにした供養仏を提供する。
【解決手段】棺に遺体と一緒に納められて火葬され、火葬後に故人を供養するために祀られる供養仏10において、本体部分は耐火材料を用い、表面と内面とが実質的に同一の温度変化となるような肉厚の中空状で内外を連通する挿通穴を有する合掌した仏像形状に造型されて焼成され、該本体部分の表面には装飾層が形成され、該装飾層が火葬によって消失して上記本体部分の素地が露出されるようになっている。 (もっと読む)


【課題】連続スパッタ時においても、ノジュールやパーティクルの発生を抑制することができるとともに、膜特性の均一性の高い膜が得られるGTOスパッタリングターゲット、特にFPD用スパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】Gaが1〜20mol%、残部SnO及び不可避的不純物からなるスパッタリング用酸化物焼結体ターゲットであって、当該酸化物焼結体ターゲットの組織に観察される相において、相対密度が97%以上、バルク抵抗率が1000Ωcm以下であることを特徴とするスパッタリング用酸化物焼結体ターゲット。 (もっと読む)


【課題】実用に耐える強度を有し、焼成によって割れ等が生ずることがない成形体、該成形体を焼成した焼成体、さらには成形体及び焼成体の製造方法を得る。
【解決手段】本発明に係る成形体47は、非可塑材料としての微粒状無機材料の黒鉛微粒体49を熱硬化性樹脂からなる凝結体51によって結合してなるものであって、凝結体51は、熱硬化性樹脂の組成成分である単量体及びオリゴマーを黒鉛微粒体49の表面に浸透及び付着させた状態でゲル化させたものであることを特徴とするものである。 (もっと読む)


【課題】 直流電界の印加による比誘電率の低下が抑制されるとともに,高い比誘電率を有するセラミック組成物を提供する。
【解決手段】 本発明の一実施形態に係るセラミック組成物は、コアシェル構造を有するセラミック粒子を含む。一実施形態において,当該セラミック組成物は,反強誘電体から成るコアと、強誘電体又は常誘電体から成り前記コアを取り囲むシェルと、を備える。 (もっと読む)


【課題】 比誘電率εが20〜28であり、かつ共振周波数f。(GHz)とQ値の積であるQ×f。値が十分に大きく、さらに共振周波数f。の温度係数τの絶対値が30ppm/℃以下まで調整が可能な条件を満たし得る事ができる高周波用誘電体磁器組成物を提供する。
【解決手段】 本発明の高周波用誘電体磁器組成物は、一般式 aNiO−bZnO−cNb(式中、27≦a≦33、18≦b≦22、45≦c≦55、a+b+c=100(モル%)である。)で表される主成分100質量部に対して、CaTiOを0.12〜0.18質量部含有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】高温域での安定性に優れ、優れた誘電体特性有する誘電体磁器組成物および、この誘電体磁器組成物を用いたコンデンサ及び、その誘電体磁器組成物を製造するのに好適な製造方法を提供すること
【解決手段】組成式(KNaLiDO (元素Cはアルカリ土類金属であるCa,Sr,Baのうちの少なくとも1種、元素DはNbとTaのうちの少なくとも1種、a,b,c,dはa+b+c+d=1を満たし、0.97≦e≦1.10,fは任意)で表されるニオブ/タンタル酸アルカリ系ペロブスカイト酸化物からなる第1結晶相と、 A−Ti−B−O系複合酸化物(元素Aはアルカリ金属、元素BはNbとTaのうちの少なくとも1種、元素Aと元素BとTiの含有量はいずれもゼロで無い)で構成される第2結晶相と、を含むコンデンサ用の誘電体磁器組成物 (もっと読む)


【課題】溶融状態において好適な流動性が生じるセラミック射出成形用材料を安定的に供給できるセラミック射出成形用材料の製造方法を提供する。
【解決手段】
本発明は、セラミック製品を射出成形により製造するために用いられるセラミック射出成形用材料を製造する方法である。この製造方法は、セラミック射出成形用材料を構成する、セラミック粉末と熱可塑性樹脂からなるバインダとを少なくとも含む混合材料を用意すること;混合材料を、バインダが溶融する温度域まで加熱して溶融状態にすること;溶融状態の混合材料について、所定の温度域における流体力学形状係数を算出すること;得られた流体力学形状係数を予め定めた許容値と対比し、許容値を下回る流体力学形状係数を有する混合材料をセラミック射出成形用材料として選択すること;を包含する。 (もっと読む)


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