国際特許分類[C07C303/02]の内容
化学;冶金 (1,075,549) | 有機化学 (230,229) | 非環式化合物または炭素環式化合物 (64,036) | 硫酸エステルまたはアミドの製造;スルホン酸またはそのエステル,ハライド,無水物またはアミドの製造 (751) | スルホン酸またはそのハロゲン化物の製造 (221)
国際特許分類[C07C303/02]の下位に属する分類
水素原子をスルホ基またはハロスルホニル基で置換することによるもの (55)
スルホキシデーションすなわちスルホ基またはハロスルホニル基の形成を伴う二酸化硫黄および酸素との反応によるもの
スルホ基またはハロスルホニル基の形成を伴うチオール,スルフイド,ヒドロポリスルフィドまたはポリスルフィドの酸化によるもの (7)
スルホ基またはハロスルホニル基の形成を伴う置換可能な基を持つ化合物とスルフィドの反応によるもの
炭素―炭素多重結合を持つ化合物に亜硫酸またはその塩を付加することによるもの (9)
スルホ基またはハロスルホニル基の形成が関与しない反応によるスルホン酸からのもの (110)
国際特許分類[C07C303/02]に分類される特許
11 - 20 / 40
ハロゲン化スルホン酸の製造方法
【課題】ハロゲン化スルホン酸の製造方法の提供。
【解決手段】式(I)
(式中、R1、R2及びR3は、水素原子、ハロゲン原子、等を示し、nは1〜20の整数を示す。mは1又は2を示す。Mはアルカリ金属原子又はアルカリ土類金属原子を示す)で表されるスルホン酸塩をH形陽イオン交換樹脂と接触させる式(II)
で表されるスルホン酸の製造方法。
(もっと読む)
フルオロスルホニル基を有する酸フロリドの製造方法
【課題】フルオロスルホニル基を有する酸フロリドの製造方法を提供する。
【解決手段】下記化合物(1)の気体を金属フッ化物に接触させる下記化合物(2)の製造方法(ただし、XおよびYは、それぞれ独立に、たとえば、炭素数1〜10のフルオロアルキル基、炭素数1〜10のポリフルオロ(フルオロスルホニルアルキル)基、フルオロスルホニル基またはフッ素原子を示し、Qは、たとえば、単結合または炭素数1〜6のペルフルオロアルキレン基を示す。)。
【化1】
(もっと読む)
スルホン酸化合物の脱水方法
【課題】スルホン酸化合物の水溶液から、工業的に有利に水を除く方法を提供すること。
【解決手段】粉体を含む疎水性有機溶媒へ、スルホン酸化合物の水溶液を供給し、水を蒸発させることによって該スルホン酸化合物を析出させることを特徴とするスルホン酸化合物の製造方法。
(もっと読む)
2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸の連続製造方法
【課題】不純物含有量が少なく、高分子量のポリマーを与える2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸の高収率な製造方法を提供する。
【解決手段】第1反応槽でアクリロニトリルと発煙硫酸とを混合してこれらの混合液を得、次いで前記第1反応槽で混合した混合液を第2反応槽に供給して第2反応槽で前記混合液とイソブチレンとを反応させて生成するスラリー液を第2反応槽から取出す2−アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸の連続製造方法であって、前記第2反応槽から取出すスラリー液中の2−メチル−2−プロペニル−1−スルホン酸の濃度が12000質量ppm又はtert−ブチルアクリルアミドの濃度が10000質量ppmを超える場合に、第1反応槽におけるアクリロニトリルと発煙硫酸との混合液の滞留時間を増加させる。
(もっと読む)
2−(アルキルカルボニルオキシ)−1,1−ジフルオロエタンスルホン酸塩類およびその製造方法
【課題】化学増幅型レジスト材料に用いられる光酸発生剤などとして有用な、2−アルキルカルボニルオキシ−1,1−ジフルオロエタンスルホン酸オニウム塩を製造するための有用な中間体および工業的な製造方法を提供する。
【解決手段】カルボン酸ブロモジフルオロエチルエステルを、スルフィン化剤を用いてスルフィン化する際に、有機塩基を使用することによって、2−(アルキルカルボニルオキシ)−1,1−ジフルオロエタンスルフィン酸アンモニウム塩を得る。これを酸化して2−(アルキルカルボニルオキシ)−1,1−ジフルオロエタンスルホン酸アンモニウム塩を得る。これを原料とし、オニウム塩に交換するか、鹸化・エステル化を経てオニウム塩に交換することで、2−アルキルカルボニルオキシ−1,1−ジフルオロエタンスルホン酸オニウム塩類を得る。
(もっと読む)
シクロプロパンスルホニルクロライドの製造方法
【課題】 シクロプロパンスルホニルクロライドを容易にかつ高収率で製造する方法を提供すること。
【解決手段】シクロプロピルグリニャール試薬と亜硫酸ガスとを反応させ、得られた式(2):
(式中、Xはハロゲン原子を示す。)で表される化合物を、さらに塩素ガスと反応させることを特徴とするシクロプロパンスルホニルクロライドの製造方法。
(もっと読む)
トリフルオロメタンスルホニルフロリドの製造方法
【課題】従来の製造法に比べて短工程で、高収率かつ高純度でトリフルオロメタンスルホニルフロリドを効率良く製造できる工業的に有利な製造方法を提供する。
【解決手段】トリフルオロメタンスルホン酸無水物((CF3SO2)2O)に、金属フッ化物(MF)を反応させることを特徴とする、トリフルオロメタンスルホニルフロリド(CF3SO2F)の製造方法。
(もっと読む)
トリフルオロメタンスルホニルフルオリドの製造方法
【課題】従来の製造法に比べ、短工程で、高収率かつ高純度でトリフルオロメタンスルホニルフルオリドを製造する方法を提供する。
【解決手段】トリフルオロメタンスルホニルクロリド(CF3SO2Cl)と金属フッ化物を水の存在下、反応させることによりトリフルオロメタンスルホニルフルオリド(CF3SO2F)を製造する方法において、ハロゲン化4級塩を共存させることを特徴とする、トリフルオロメタンスルホニルフルオリド(CF3SO2F)の製造方法。
(もっと読む)
アルカンジスルホニルハライドの製造方法
【課題】アルカンジスルホニルハライドを工業的に容易に製造する方法を提供すること。
【解決手段】アルカンジスルホン酸とハロゲン化りん(V)とを、反応溶媒としてハロゲン化ホスホリルを用いて反応させることによる式(2):
(式中、R1およびR2は、水素原子、または炭素数1〜4のアルキル基を示し、nは、1〜4の整数を示し、Xは、ハロゲン原子を示す。)で表されるアルカンジスルホニルハライドの製造方法。
(もっと読む)
化学増幅型レジスト組成物の酸発生剤の中間体
【課題】酸発生剤用の塩として有用なトリフェニルスルホニウム 1−アダマンタンメトキシカルボニルジフルオロメタンスルホナート塩等の中間体であり、製造にあたり設備を腐食させることが少なく簡便に製造することができる化合物およびその製造方法を提供する。
【解決手段】式(I)で示されることを特徴とする塩。
(式(I)中、Q1、Q2は互いに独立にフッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表し、Rは炭素数2〜30の置換されていてもよい炭化水素基を表し、A+はアンモニウムイオンを表す。)
(もっと読む)
11 - 20 / 40
[ Back to top ]