【課題】カルボニル炭素又はイミノ炭素へ炭化水素基を付加した求核反応体を温和な条件下であっても高選択的に得られる。
【解決手段】ＴＨＦ中で、塩化亜鉛（０．３３５ｍｍｏｌ）とＥｔＭｇＣｌ（４．３５ｍｍｏｌ）の存在下、ベンゾフェノン（３．３５ｍｍｏｌ）を加え、０℃にて２時間攪拌した。その後、飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、室温下３分攪拌した。続いて、酢酸エチルを加え、通常の分液処理を行った。抽出した有機層を洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、ろ過、濃縮した。中性シリカゲルカラム（ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）にて生成物を分取し、対応する３級アルコールを収率８４％で得た。 （もっと読む）

【課題】 微生物の培養物、菌体、又はそれらに存在する酵素を、非対称ケトン化合物と接触させることにより、トロンボポイエチン受容体アゴニストの重要中間体である光学活性なアルコール化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】キャンディダ・クルセイ、キャンディダ・トロピカリス、キャンディダ・アルビカンス、キャンディダ・グラブラータ、キャンディダ・パラクルセイ、キャンディダ・ユティリス、キャンディダ・プシュードトロピカリス、キャンディダ・ルゴサ、ロードトルーラ・グルチニス・ヴァー・ダイレネンシス、ロードトルーラ・ルブラ、及びサッカロマイセス・セレビシアエからなる群より選ばれる菌株の培養物、菌体、又はそれらに存在する酵素を、非対称ケトン化合物と接触させることを特徴とする、光学活性なアルコール化合物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】水溶性遷移金属触媒を使用する水溶液中での〔２＋２＋２〕環状三量化反応の改良法を提供する。
【解決手段】合成できる化合物は下記の通りである。
一般式：


〔式中，Ｒ1はＨまたは−ＣＨ2ＯＨからなる群から選ばれ、Ｒ2は−ＣＨ2ＯＨ，−ＣＯＣＨ3，−ＣＯ2ＣＨ3，（ＣＨ2）2ＯＨ，−ＣＨ2ＮＨ（ＣＨ3），−Ｃ（ＣＨ3）2ＯＨまたは−ＣＨ2Ｎ（ＣＨ3）2からなる群から選ばれる〕を有する、置換芳香族化合物。 （もっと読む）

本発明は、ＭＸ₃・ｚＬｉＡが溶媒中にあり、Ｍは、ランタンを含めたランタノイド、イットリウム、又はインジウムであり；ｚ＞０であり；Ｘ及びＡは、独立に又は共に一価のアニオンであり、好ましくは、Ｃｌ、Ｂｒ又はＩである無水溶液に関する。当該溶液は、ＭＸ₃又はその水和物と、ｚ当量のＬｉＡとを、水又は親水性溶媒又はそれらの混合溶媒に溶解又は懸濁させ、真空下で溶媒を除去し、得られる粉体を別の溶媒に溶解させることによって容易に調製される。ＭＸ₃・ｚＬｉＡの溶液は、例えば、グリニャール試薬のケトン類及びイミン類への付加反応に有利に用いることができる。ＭＸ₃・ｚＬｉＡの触媒的な使用も可能である。 （もっと読む）

【課題】 銅系触媒の触媒活性を最大限に利用して、かつ、反応率および選択率が悪化することなく、アセトフェノンの水添によりα−フェニルエチルアルコールを製造する方法を提供すること。
【解決手段】 銅系触媒を用いてアセトフェノンを水添することによりα−フェニルエチルアルコールを製造する方法であって、複数の反応器を並列に組み合わせ運転することにより、各反応器中の銅系触媒の触媒活性をそれぞれ有効利用することを特徴とするα−フェニルエチルアルコールの製造方法。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、バルビエ型反応を適用した第３級アルコールの工業的に有利な製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】 本発明は、一般式（１）
【化１】


［式中、Ｒ^１は有機基を示す。Ｒ^２はアルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基又は水酸基を示す。］
で表される化合物と一般式（２）
Ｒ^３Ｘ （２）
［式中、Ｒ^３は第１級アルキル基を示す。Ｘはハロゲン原子を示す。］
で表されるハロゲン化アルキルとを、金属ストロンチウムの存在下に反応させて、一般式（３）
【化２】


［式中、Ｒ^１及びＲ^３は前記に同じ。一般式（１）におけるＲ^２がアルキル基を示す場合には、Ｒ^４はＲ^２を示し、また、一般式（１）におけるＲ^２がアルコキシ基、アリールオキシ基又は水酸基を示す場合には、Ｒ^４はＲ^３を示すものとする。］
で表される第３級アルコールを製造する。 （もっと読む）

【課題】 不斉付加反応、不斉共役付加反応や不斉ヒドロホウ素化反応等を高選択的に行うことを可能にし、さらに容易かつ安価に調製しうる不斉配位子およびそれを含む不斉遷移金属錯体を提供すること。
【解決手段】 一般式（Ｉ）：
【化１】


（式中、Ａ環は存在しないかまたは置換基を有していてもよいベンゼン環を示し、Ｒ^１およびＲ^２はそれぞれ独立して、置換基を有していてもよいフェニル基、シクロヘキシル基等を示し、Ｒ^３およびＲ^４はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基等を示し、Ｘは、−ＯＲ^５または−ＮＨＲ^６（ここで、Ｒ^５およびＲ^６は置換基を有していてもよい低級アルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基等を示す。）で表される残基を示す。）で表される化合物、当該化合物を配位子として含有する不斉遷移金属錯体および当該錯体を不斉触媒として用いる光学活性化合物の製造方法。 （もっと読む）

本発明は、特に不斉合成における遷移金属錯体の使用に加えて、キラルリン化合物とこれらの遷移金属錯体に関する。 （もっと読む）

本発明は、接触水素化の分野、より具体的には、エステルまたはラクトンを、それぞれ相応するアルコールまたはジオールへと還元するための水素化法における、四座の配位子を有し、少なくとも１つのアミノ基またはイミノ基が配位しており、かつ少なくとも１のホスフィノ基が配位しているＲｕ錯体の使用に関する。 （もっと読む）

本発明は、接触水素化の分野、およびより具体的には、エステルまたはラクトンを、それぞれ相応するアルコールまたはジオールへと還元するための水素化法における、１つのアミノ基またはイミノ基が配位しており、かつ１つのホスフィノ基が配位している二座配位子を有するＲｕ錯体の使用に関する。 （もっと読む）