【課題】簡便な方法及び容易に入手が可能な原料により、ヒドロキシペンタフルオロスルファニルベンゼン化合物を得ることができる、工業的に好適なヒドロキシペンタフルオロスルファニルベンゼン化合物の製法を提供する。
【解決手段】一般式（１）


（式中、Ｐは、保護基を示す。）で示されるオキシペンタフルオロスルファニルベンゼン化合物を脱保護反応させることを特徴とする、一般式（２）


で示されるヒドロキシペンタフルオロスルファニルベンゼン化合物の製法によって解決される。 （もっと読む）

【課題】 高誘電異方性を有する液晶組成物を提供すること。
【解決手段】 有機基に結合したＳＦ₄−Ｏ−ＣＦ₃を含有する新規組成物が開示される。
アリールトリフルオロメトキシテトラフルオロスルフラン（又はＡｒ−ＳＦ₄−Ｏ−ＣＦ₃）が、アリールジスルフィド又はチオールと、フルオロオキシトリフルオロメタン（Ｆ₃ＣＯＦ）との反応を介して合成された。この組成物は有用なシントンであり、それを誘導体化して、高極性分子、特に高誘電異方性を有する新規の液晶組成物を得ることができる。シクロアルキルトリフルオロメトキシテトラフルオロスルフランが同様の有用性を有する。 （もっと読む）

アリールイオウペンタフルオリドの新規な製造方法を開示する。本方法は、少なくとも１種類のアリールイオウ化合物をハロゲン類及びフルオロ塩と反応させてアリールイオウハロテトラフルオリドを形成することを含む。アリールイオウハロテトラフルオリドは、フッ化物源と反応させて目標のアリールイオウペンタフルオリドを形成する。 （もっと読む）

【課題】新しい構造を持つ高活性ペルフルオロアルキル化剤、及びそれを用いたペルフルオロアルキル化有機化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】下記の一般式で表されるペルフルオロアルキル化剤を用いる。


（R１〜R５，は水素原子，ハロゲン原子，ニトロ基，シアノ基，アリール基，アルキル基，ハロアルキル基，アルコキシ基，アルカノイル基，アルコキシカルボニル基，カルバモイル基，アルキル及びアリール置換スルホニル基を表し，R１とR２，R２とR３が結合して環状構造を成してもよい。Rfはペルフルオロアルキル基を示す。Xはハロゲン原子，トリフラート，トリフルオロメタンスルホンイミダイド，テトラフルオロボレート，ヘキサフルオロホスフェート，ペンタフルオロアンチモネートを表す。） （もっと読む）

本発明は、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、およびＲ^５が、Ｈ、ハロ、ＣＮ、ＣＦ_３、およびＣＯＮＨ_２からそれぞれ独立に選択される式（Ｉ）の化合物またはその互変異性体もしくはプロドラッグ、または前記化合物、互変異性体、もしくはプロドラッグの薬学的に許容できる塩；そのような化合物を含有する組成物；ならびにそのような化合物の抗寄生虫剤としての使用に関する。
【化１】
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【課題】通常の有機溶媒中で充分に可溶であって、求核置換反応での使用に好適な試薬を提供する。
【解決手段】 式ＹＯＳＦ₅またはＺＯＳＦ₅によって表される化合物を含有する新規な組成物が提供され、式中：（ａ）Ｙが無機陽イオンである場合、組成物が錯化剤をさらに含むという条件で、Ｙは：（ｉ）（Ｍｅ₂Ｎ）₃Ｓ⁺以外の有機陽イオンまたは（ｉｉ）無機陽イオンを含み；そして（ｂ）式ＺＯＳＦ₅によって表される化合物は分子化合物であるという条件で、Ｚは、Ｃ_1-20アルキル、アリール、シクロアルキル、それらの組み合わせ、または少なくとも１つのヘテロ原子を含有するもの類似物である。陽イオン性化合物の製造方法は、ＯＳＦ₅基を含む分子化合物を含む組成物を調製するための、求核置換反応中で陽イオン性化合物を含む組成物を使用するための方法として開示される。 （もっと読む）

【課題】ブロモ−１−オキシペンタフルオロスルファニルベンゼンの製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の方法は、ペンタフルオロスルファニルオキシベンゼンを臭素化剤で臭素化して、ブロモ−１−オキシペンタフルオロスルファニルベンゼンを提供する工程を含む。本発明の方法は、そのような化合物を製造するための従来法より効率的である。 （もっと読む）

フッ素化剤として作用する新規な置換フェニル硫黄トリフルオリドについて開示する。またそれらの製法、および１つ以上のフッ素原子の標的基質化合物への導入にそれらを用いる方法についても開示する。最後に、置換フェニル硫黄トリフルオリドの製造に用いるための様々な中間化合物を提供する。 （もっと読む）

【解決手段】一般式（１）で示されるスルホン酸塩。


（Ｒ¹はＣ１〜２０のアルキル基、又はＣ６〜１５のアリール基又はＣ４〜１５のヘテロアリール基。Ｍ⁺はリチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン、アンモニウムイオン、又はテトラメチルアンモニウムイオン。）
【効果】本発明のスルホン酸は、α，β−位がフッ素で部分置換されているため強い酸性度を示す上、様々な置換基の導入が容易であり、分子設計の幅が大きい。更に、これらスルホン酸を発生する光酸発生剤は、デバイス作製工程での各種工程に問題なく使用でき、ＡｒＦ液浸露光の際の水への溶出も抑え、ウエハー上に残る水の影響も少ない。また、エステル部位が塩基性条件下で加水分解されるため、レジスト廃液を適切に処理することで、低分子量の低蓄積性化合物へと変換可能で、燃焼廃棄時の燃焼性も高い。 （もっと読む）

その質量の１００％につき、０．５％〜３０％の式（ＩＶ）：Ｒ１−ＯＨ（ＩＶ）を有する１種以上のアルコール（式中、Ｒ１は８〜３６個の炭素原子を有し、１つ以上のヒドロキシル基により任意に置換されている飽和または不飽和の、直鎖のまたは分枝した脂肪族基を示す）、および７０％〜９９．５％の式（Ｉ）を有する１種以上の化合物（式中、Ｒは１つ以上のヒドロキシ基により任意に置換された１〜８個の炭素原子を有する直鎖のまたは分枝した脂肪族基を示し、ｎは１以上で１０以下の整数であり、Ｒ１は上記式（ＩＶ）について先に定義した通りであり、Ｚ₁基またはＺ₂基のうちの少なくとも１つは基（ＩＩ）（式中、−Ｓ−は還元糖の二価の残基を示し、ｐは１以上で１０以下の小数を示し、Ｚ₁基またはＺ₂基のうちの他方の基は水素原子または上記基（ＩＩＩ）を示す））を含む組成物（Ｃ）。界面活性剤としての組成物（Ｃ）の調製方法およびその使用。
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