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国際特許分類[C07D409/10]の内容

化学;冶金 (1,075,549) | 有機化学 (230,229) | 複素環式化合物 (108,186) | 2個以上の複素環を含有し,そのうち少なくても1個が異項原子として硫黄のみをもつ複素環式化合物 (4,512) | 2個の複素環を含有するもの (2,981) | 芳香族環を含有する炭素鎖により結合しているもの (190)

国際特許分類[C07D409/10]に分類される特許

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本発明は、式(I)の化合物、又は薬剤として許容される塩、若しくはそれらの溶媒和物の新規の調製プロセスであって、式(VII)(VIII)(IX)を含み、式中、M2が亜鉛種である式(VII)の化合物を、式中、各Zが独立して選択される酸素保護基であり、LG2が脱離基である式(VIII)の化合物と、エーテル溶媒及び炭化水素溶媒の混合物中で反応させて、対応する式(IX)の化合物を生じさせる工程と、式(IX)の化合物を脱保護して、対応する式(I)の化合物を生じさせる工程と、を含むプロセスを目的とする。
【化1】

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式(I)[式中、R〜Rは、請求項1に記載の意味を有する]で示される化合物及びその薬学的に許容しうる塩は、医薬として使用することができる。
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【課題】高感度なラジカル重合開始剤として機能しうる新規オキシムエステル化合物及びそれを用いた硬化性組成物、及びそれを含むネガ型レジスト及びそれを用いた画像パターン形成方法の提供。
【解決手段】カルバゾールの3位に下記一般式(2)で表されるオキシムエステル残基、及び9位に置換フェニル残基を有するラジカル重合開始剤、及び該ラジカル重合開始剤を用いた硬化性組成物、該硬化性組成物を含むネガ型レジスト、さらに該ネガ型レジストを基材上に積層し、部分的にエネルギー線を照射し重合させ、未照射の部分をアルカリ現像液によって除去する画像パターンの形成方法。一般式(2)


(式中、R1、R2’は、アルキル基、アリール基、複素環基等を表す。) (もっと読む)


【課題】湿式成膜法により成膜可能な結晶化しにくい有機EL材料を提供する。
【解決手段】下式[1]で表される化合物からなる低分子塗布型有機エレクトロルミネッセンス素子用材料。式[1]


(式中、Aはカルバゾリル基を表し、R1〜R9は芳香族炭化水素基などを表す。) (もっと読む)


本発明は、狭い粒度分布ならびに向上した流動性、嵩密度及びタップ密度特性を有する1−(β−D−グルコピラノシル)−4−メチル−3−[5−(4−フルオロフェニル)−2−チエニルメチル]ベンゼン半水和物結晶を得るための結晶化方法に関する。 (もっと読む)


本発明は、式(I)(式中、A、R、R、R、R及びRは、発明の詳細な説明及び特許請求の範囲にて定義されたとおりである)で示される、システインプロテアーゼのカテプシンの、特にシステインプロテアーゼのカテプシンS又はLの選択的阻害剤である化合物、特に糖尿病、アテローム性動脈硬化、腹部大動脈瘤、末梢動脈障害又は糖尿病性ネフロパシーの処置における医薬として有用なそれらの調製に関する。

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2−アザトリフェニレンを含む化合物を提供する。特に、追加の芳香族基を有する2−アザトリフェニレン核を含む化合物を提供する。提供した化合物は、発光性又は非発光性物質でありうる。この化合物は有機発光ダイオードに、特にホスト物質、正孔阻止層物質、又は発光ドーパントとして用いることができる。2−アザトリフェニレンを含む化合物を含むデバイスは、向上した安定性と効率を示しうる。
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本発明は、式(I):


〔式中、Qは、CHまたはNであり;Xは、N、N−OまたはCRであり;Yは、N、N−OまたはCR3aであり;RおよびRは、独立して、水素および特許請求の範囲に記載の種々の置換基から選択されるか;またはRおよびRは、それらが結合する原子と一体となって、所望により置換されていてよい4から7環員の炭素環式またはヘテロ環式芳香族性または非芳香環を形成し;Rは、水素および種々の置換基から選択され;R3aは、水素および特許請求の範囲に記載の種々の置換基から選択される。〕
で示される化合物、ならびにその塩、互変異性体、溶媒和物およびN−オキシドを提供する。また、式(I)の化合物を含む医薬組成物、該化合物の製造方法および該化合物の医薬としての使用方法も提供する。式(I)の化合物は、CDKキナーゼ類の阻害活性を有し、とりわけ、癌のような増殖性疾患の処置に有用である。
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開示されたものは、疼痛を含む、様々な疾患、症候群、病的状態及び障害を処置するための化合物、組成物及び方法である。かかる化合物は以下のように式(I)で表わされる。
【化1】


式中、Y、Z、R1及びsは本明細書に定義される。 (もっと読む)


疼痛を含む、様々な疾患、症候群、病的状態及び障害を処置するための化合物、組成物及び方法が開示される。かかる化合物は以下のように式(I)で表わされる。
【化1】


式中、Y、Z、R1及びsは本明細書に定義される。
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