アリルオキシエステル：R_nM(OR’)_x(OR’’)_y[式中、Mは、ケイ素、炭素、ホウ素またはチタンであり；Rは、水素またはヒドロカルビル基であり；R’は、アリル不飽和ヒドロカルビルまたはヒドロカルビルオキシヒドロカルビル基であり；R’’は、R’の飽和アナログであり；xは、少なくとも1であり、yは、ゼロであってもよく；Mがホウ素である場合に、n＋x+y＝3であり、Mがケイ素、炭素またはチタンである場合に、n＋x+y＝4である。]は、ペイントまたは塗料配合物中で反応性希釈剤として使用される。 （もっと読む）

【課題】蒸気圧が高く、低温で成膜でき、常温常圧においては化学的に安定であり、保存安定性及び他のソースとの混合安定性に優れた、ＣＶＤ法やＡＬＤ法等の気化工程を有する薄膜製造方法のプレカーサとして特に好適な珪素化合物を提供すること。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表される珪素アルコキシド化合物。
【化１】



（式中、Ｒは炭素原子数１〜４のアルキル基を示し、Ｒ^１〜Ｒ^４は水素原子又は炭素原子数１〜４のアルキル基を表し、Ａは炭素原子数１〜４のアルカンジイル基を表し、ｎは１〜３の数を表す。）
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【課題】 ヘテロ環が効果的に被覆され、電子材料等に適したヘテロ環化合物を提供する。
【解決手段】 例えば、下記スキーム１に従い、まずチオフェンモノマーユニット(1T)を合成し、さらに、酸化的重合を繰り返し、オリゴマー(2T)〜(16T)を合成する。ヘテロ環は、チオフェンに限定されず、例えばフランまたはピロールでも良い。ケイ素上の置換基も、スキーム１のものに限定されず、任意である。また、重合度および合成方法も、スキーム１のものに限定されない。本発明の化合物は、紫外可視吸収スペクトルに示す通り、π電子共役が効果的に保たれている。
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本発明は、オキサチアジン及び／又はその誘導体、特に３−ベンゾ（ｂ）チエン−２−イル−５，６−ジヒドロ−１，４，２−オキサチアジン−４−オキシドを含有する有機ケイ素化合物を基礎とする架橋可能なコンパウンド及びこのコンパウンドの架橋により製造された成形体に関する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、硬化後に、熱分解可能であり、より優れたリサイクル性を有し、さらに、分解温度を制御することができる硬化性組成物およびそれに用いられる共役ジエン化合物を提供することを課題とする。
【解決手段】本発明の共役ジエン化合物は、１分子中に１個のケイ素原子と２個以上のアルコキシ基とを有するアルコキシシラン化合物と、式（１）で表される化合物との反応により得られる共役ジエン化合物である。また、本発明の硬化性組成物は、共役ジエン化合物と、１分子中に２個以上のジエノフィル構造を有するジエノフィル化合物とを含有する。
Ｒ¹−ＸＨ （１）
（式中、Ｒ¹は、共役ジエン構造を含有する１価の炭化水素基を表す。Ｘは、酸素原子または硫黄原子を表す。） （もっと読む）

【課題】 良好な親水性を有し、水にさらされた場合の水接触角の増加が少なく、長期間の耐汚染性を有する塗膜を得ることができるシリケート組成物及びこれを含む水性塗料を提供する。
【解決手段】 アルキルシリケートを下記式（１）；
Ｒ−Ｘ−（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_３−Ｈ （１）
（式中、Ｒは、炭素数４〜１８の炭化水素基を表す。Ｘは、−Ｏ−又は−ＣＯＯ−を表す。）で表される化合物で変性して得られるシリケート組成物。 （もっと読む）

【課題】新規アルコキシシラノールを提供する。
【解決手段】ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシ）（イソ−プロポキシ）シラノール、ビス（イソ−プロポキシ）（ｔｅｒｔ−ブトキシ）シラノール、ビス（ｔｅｒｔ−ペントキシ）（イソ−プロポキシ）シラノール、ビス（イソ−プロポキシ）（ｔｅｒｔ−ペントキシ）シラノール、ビス（ｔｅｒｔ−ペントキシ）（ｔｅｒｔ−ブトキシ）シラノール、ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシ）（ｔｅｒｔ−ペントキシ）シラノール及びそれらの混合物からなる群より選択された組成物。 （もっと読む）

カルバメート官能性シリカが開示されている。開示された官能性シリカの製造法および同じ官能性シリカを含有する塗料も提供される。 （もっと読む）

【課題】ハロゲン化アルコキシシランを塩化水素ガスなどの腐食性ガスを発生することなく、高収率で提供することである。
【解決手段】化１４で表されるテトラハロシランと化１５で表されるオルトギ酸エステルを反応させて化１６で表されるハロゲン化アルコキシシランを製造するハロゲン化アルコキシシランの製造方法である。
【化１４】


【化１５】


【化１６】
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本発明は、少なくとも１つのケイ素原子と、少なくとも１つのカルボニル群とを有する少なくとも１つの不飽和重合可能モノマー（Ｉ，ＩＩ）を含む、レジスト製造用の重合可能な化合物に関する。本発明は、この化合物の重合により製造されたレジストと、リソグラフィ方法とに関する。 （もっと読む）