【課題】フッ素化合物の優れた特性を有すると共に、非フッ素系有機化合物との相溶性にも優れた光硬化可能なフッ素化合物の提供。
【解決手段】環状シロキサン構造を備えた含フッ素アクリレートもしくは含フッ素α置換アクリレートであって、例えば、下記式で表される化合物である。


(Ｒｆは下記式（４）で表されるパーフルオロポリエーテル残基であり、


式（４）中、ｊ、ｋ、ｌ及びｍはＲｆの分子量が２００〜６０００となる範囲において、０〜５０の整数であり、XはＦもしくはトリフルオロメチル基である。） （もっと読む）

【課題】層間距離が比較的広く製造が容易なシリコンナノシートを提供する。
【解決手段】本発明のシリコンナノシートは、ケイ素原子で構成された六員環が複数連なった構造を基本骨格とする。そして、六員環を構成するケイ素原子には、金属又は金属酸化物と結合可能な官能基を持つ炭化水素基を有するケイ素原子が酸素原子を介して結合したケイ素原子、水素原子と結合したケイ素原子及び水酸基と結合したケイ素原子が混在している。 （もっと読む）

光活性成分とアミン官能性との両方を含み、多面体オリゴマーシルセスキオキサンに結合された光開始剤化合物であって、光開始剤が式（１）または（１’）によって表され、その際、ｎは２ｍであり； ｍは２〜３０の整数であり； ｎ’＋ａの合計は４〜６０の整数であり； ｎ’は偶数の整数であり； ａは偶数または奇数の整数であり； 且つ、例えば種々のＡはＣ₁〜Ｃ₁₂−アルキルまたは光活性成分Ｑ１であるか、式（２）の基であり； Ｅは例えば直接結合であり、Ｌは直鎖または分枝鎖のＣ₁〜Ｃ₃−アルキレン、好ましくはプロピレンであり； Ｒ₁およびＲ₂は例えば光活性成分ＱまたはＣ₂〜Ｃ₂₀−アルキルであり； Ｑは例えば式（４）の基であり； Ｚ₂は例えば、非置換または１つまたはそれより多くのＯＲ₆によって置換されたＣ₁〜Ｃ₆−アルキレンであり； 且つ、Ｒ₆、Ｒ₁₂、Ｒ₁₃およびＲ₁₄は例えば水素である、光開始剤化合物が、低移動性光開始剤として特に適している。
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【課題】ダブルデッカー閉環型Ｔ_８のトランス／シス異性体混合物を再結晶処理により、それぞれ単独に分離（単離）し、もしくは一方の異性体が過剰になる様に分離し、それを用いて重合したポリマー及びその製造方法の提供。
【解決手段】一般式（１）


（式中Ｒは夫々独立して水素原子、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基またはシクロアルキル基である。アルキル基炭素数は１から１０であり、任意の水素原子はハロゲン原子または炭素数１から１０のアルキル基で置き換えられてもよい。アリール基炭素数は６から１０であり、アリールアルキル基の炭素数は７から１０であり、シクロアルキル基における炭素数は３から１０であり、ハロゲン原子または炭素数１から１０のアルキル基で置き換えられてもよい。式中、Ｘは炭素数４の飽和分枝状アルキル基を表す。）で示される完全縮合オリゴシルセスキオキサンのトランス立体異性体またはそのシス体。 （もっと読む）

リン含有シルセスキオキサンは、式［Ｒ^１３ＳｉＯ_１／２］ｍ［Ｒ^２ＳｉＯ_３／２］ｎ［Ｒ^３ＳｉＯ_３／２］ｐ［（Ｒ^４Ｏ）_２ＰＯ（ＣＨ_２）_ｘＳｉＯ_３／２］ｑ（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、及びＲ^４はそれぞれ、独立してヒドロカルビル基を表し；ｘは、１〜８の整数を表し；ｍは、１．５未満の正の数であり；ｎ及びｑは、０超かつ１未満の正の数であり；ｐは、０以上かつ１未満の数である）により表される。更に、（ｎ＋ｐ）／ｑは、０．５〜９９の範囲であり、（ｎ＋ｐ＋ｑ）＝１である。リン含有シルセスキオキサンを含む硬化性及び硬化した組成物を開示する。 （もっと読む）

【課題】高収率で高純度の有機無機ハイブリッド材料として有用なかご型有機基修飾金属酸化物を効率良く得る製造方法を提供する。また、上記のかご型有機基修飾金属酸化物を必要によりナノメートルサイズでしかも単分散な微粒子として連続的かつ短時間で製造する方法を提供する。
【解決手段】有機基修飾金属酸化物前駆体液と水性媒体とを流路に導入し、該流路中で加熱加圧下において前記両液を混合して、かご型有機基修飾金属酸化物を生成させる、かご型有機基修飾金属酸化物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサンのようなシクロテトラシロキサンを重合に対し安定化させるための方法、及び組成物を提供する。
【解決手段】有効量の遊離基スカベンジャー重合抑制剤をそのようなシクロテトラシロキサンに供給することを含む安定化方法、及び電子材料の製造においてケイ素酸化物の前駆物質として化学気相成長法で使用される重合に対し安定化させた、１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサンのようなシクロテトラシロキサンの組成物であって、そのようなシクロテトラシロキサンと遊離基スカベンジャー重合抑制剤とを含むシクロテトラシロキサンの組成物である。 （もっと読む）

【課題】フッ素化合物の優れた特性を有すると共に、非フッ素系有機化合物との相溶性に優れ、さらに、光硬化可能なフッ素化合物を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表される、含フッ素アクリレートもしくは含フッ素α置換アクリレート。


［式（１）中、ａは１〜４、ｂは０〜３、ｃは１〜４、ｅは２〜８の整数、dは０又は１、Ｒ^１はポリアルコキシアルキレン、Ｒ^２は、それぞれ独立に、水素原子、メチル基等、Ｒｆはパーフルオロポリエーテル残基、Ｚは２価の有機基を表す。］ （もっと読む）

【課題】汚れが付き難い、目立ち難い、及び、拭き取り易いという３つの要求のバランスが取れた表面を与える表面処理剤を提供することを目的とする。
【解決手段】下記式（１）で示されるパーフルオロポリエーテル残基含有ポリオルガノシロキサン及びそれを含む表面処理剤である。



［式（１）中、Ｒｆは２価のパーフルオロポリエーテル残基、ＱはＲｆ基とＺとを連結する２価の基、Ｚはシロキサン結合を３個以上有する３〜１１価のポリオルガノシロキサン残基、Ｒは炭素数８〜４０の１価の有機基、ｎは１〜８の整数、Ａは下記式（２）に示した基であり、ｋは１〜９の整数、但し、ｎ＋ｋ＝（Ｚの価数−１）である。



（式（２）中、Ｒ’は炭素数１〜４のアルキル基、又はフェニル基、Ｘは加水分解性基であり、ａは２又は３、ｂは２〜１０の整数である。）］ （もっと読む）

【課題】光学的及び電気的特性に優れた耐熱性絶縁膜を形成することのできる感光性組成物及びこの感光性組成物に用いられるアルカリ可溶性シルセスキオキサン並びにその製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）間移動触媒を含有する有機溶媒層と水性溶媒層との二層状態を作り、前記有機溶媒層に一般式（１）：ＲＳｉＸ₃（式中、Ｒは、Ｃ₁〜Ｃ₅の脂肪族炭化水素基、シクロヘキシル基、Ｃ₂〜Ｃ₅のアルケニル基、又はアリール基を表し、Ｘは塩素、臭素又は沃素を表す。）で表されるトリハロシランを滴下し、有機溶媒層及び界面にて制御された反応を行うことによりポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）が２０００以下のシルセスキオキサンを製造し、（Ｂ）得られたシルセスキオキサンをアシル化剤を用い、例えばフリーデル−クラフツ反応によりアシル化することによりアシル化されたシルセスキオキサンを製造する。得られたシルセスキオキサンとキノンジアジド感光剤、あるいは光酸又は塩基発生剤とにより感光性組成物を製造し、これを基体上に塗布し、露光後現像し、硬化することにより、耐熱性絶縁パターン膜を形成する。 （もっと読む）