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国際特許分類[C07F7/21]の内容

化学;冶金 (1,075,549) | 有機化学 (230,229) | 炭素,水素,ハロゲン,酸素,窒素,硫黄,セレンまたはテルル以外の元素を含有する非環式,炭素環式または複素環式化合物 (10,137) | 周期律表の第4族の元素を含有する化合物 (2,931) | ケイ素化合物 (2,397) | 環中にケイ素を含有しかつ炭素を含有しない環を少なくとも1個もつ環状化合物 (114)

国際特許分類[C07F7/21]に分類される特許

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【課題】低い駆動電圧で素子の安定性及び発光寿命を向上させた有機電界発光素子を提供する。
【解決手段】下記一般式(1)で示されるシロール誘導体化合物を発光素子用材料として、特に電子輸送層又は電子注入層用材料として用いて、有機電界発光素子を製造する。
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【課題】長い稼働寿命、優れた電子的特性を有し、かき傷が無いまたは少ない画像形成部材を提供する。
【解決手段】光導電体は、必要に応じた支持基材と、光発生層と、少なくとも1つの電荷輸送成分と少なくとも1つのシラノールとを含む少なくとも1つの電荷輸送層と、を含む。 (もっと読む)


本発明は、染料で官能化されたシルセスキオキサンクラスター、その製造方法、および着色剤としてのその使用、またはその塩に関し、該化合物(官能化されたクラスターまたはナノ粒子)は、一般式(I)(式中、CAGEは、式(IA)で示される部分であり、Dは、発色団部分であり、他の記号は、本明細書において定義したような意味を有する)を特徴とする。
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【解決手段】式(1)もしくは式(2)(Xはハロゲン原子)で示されるハロゲン化シロキサン化合物を、式(3)で示されるシアン酸塩と反応させ、ハロゲン部分をイソシアン基と置換させるイソシアネート基含有シロキサン化合物の製造方法。






【効果】安価な出発原料であるハロゲン化シロキサン化合物とシアン酸塩を用いて、安価にイソシアネート基含有シロキサン化合物を製造でき、工業的利益が発揮される。 (もっと読む)


【課題】従来のシルセスキオキサン骨格を有する酸無水物は、分子中にフレキシブルなメチレン結合を多数有するため、ガラス転移点や熱分解温度が低く、剛直で耐熱性に優れたかご型ケイ素骨格の特性を十分に発揮させるには至らなかった。
【解決手段】式(1)で示される酸無水物。XおよびYはアルキル、シクロアルキル、アリールおよびアリールアルキルから独立して選択される基であり、Zは3価の脂環式基、または酸無水物基と共に環を形成する3価の飽和脂肪族基である。

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本発明は、タイプ(H2SiO)n[式中、nは、3又はそれ以上の整数である]の水素に富むシクロシロキサンを、a.)タイプH2SiX2[ここでX=ハロゲンである]のハロゲンシランをb.)リチウム塩、銅(II)塩又は元素の周期表の第2主族又は第2副族からの金属の塩又はこれらの塩の混合物と反応させることにより選択的に合成することに関する。環サイズは、有利にはn=3、4、5、6(特にn=4〜6)に調節可能であるので、より大きな環は形成されない。本方法の特に有利な態様において、シクロヘキサシロキサン(H2SiO)6の選択的な製造のために、反応後に溶剤が少なくとも部分的に分離され、引き続き新たに溶剤が添加される。
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【課題】フォトレジスト組成物のパターンラフネスを低減させ、耐エッチング性を改良しうる手段を提供する。
【解決手段】


で示される化合物とステロイド骨格を有する化合物との反応で得られるシロキサン化合物、該化合物を含むフォトレジスト組成物、および該組成物を用いたパターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】基材によく密着し、耐擦傷性に優れた撥水撥油性の層を形成する表面処理剤を提供する。
【解決手段】オルガノポリシロキサンにおいて、


(Rはパーフロロエーテル残基を有する1価の基であり、Rはパーフロロエーテル残基を有する2価の基であり、Qは2価の有機基である)置換されている構造を有することを特徴とするオルガノポリシロキサン。 (もっと読む)


【課題】電子材料の製造でケイ素酸化物用の化学気相成長プロセスで用いられるシクロテトラシロキサンを重合に対し安定化させる方法とその組成物を提供すること。
【解決手段】本発明の方法は、例えば1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンのようなシクロテトラシロキサンに、有効量の中性乃至弱酸性の重合防止剤を供給することを含み、本発明の組成物は、そのようなシクロテトラシロキサンと中性乃至弱酸性の重合防止剤を含む。方法にも組成物にも、遊離基スカベンジャーを含ませることもできる。 (もっと読む)


【課題】半導体装置の表面保護膜または層間絶縁膜材料用途として、現像工程でアルカリ現像液が使用でき、低いキュア温度により、残留応力が低く、優れた耐熱性、機械特性等を発現するポジ型感光性レリーフパターン形成材料を提供する。
【解決手段】同一分子内に籠型シルセスキオキサン構造含有基とフェノール性水酸基の両方の基を含有するアルカリ可溶性物質(A)、及び溶解抑止剤(B)を含有することを特徴とするアルカリ現像性のポジ型感光性レリーフパターン形成材料。 (もっと読む)


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