国際特許分類[C08F8/00]の内容
化学;冶金 (1,075,549) | 有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物 (224,083) | 炭素−炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物 (38,630) | 後処理による化学的変性 (2,907)
国際特許分類[C08F8/00]の下位に属する分類
アルキル化 (12)
還元,例.水素添加 (128)
酸化 (56)
エポキシ化 (29)
アシル化 (12)
加水分解 (230)
エステル化 (229)
ハロゲン原子またはハロゲン含有基の導入 (101)
分子からのハロゲン原子またはハロゲン含有基の除去 (13)
アルデヒドまたはケトンとの縮合 (84)
窒素原子または窒素含有基の導入 (467)
いおう原子またはいおう含有基の導入 (158)
りん原子またはりん含有基の導入 (30)
金属原子または金属含有基の導入 (208)
金属塩またはアンモニウム塩の製造 (95)
不飽和ジカルボン酸またはその無水物との反応,例.マレイン化 (95)
異性化;環化 (199)
部分解重合 (42)
国際特許分類[C08F8/00]に分類される特許
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接着剤組成物
【課題】本発明は、分子末端に(メタ)アクリロイル基を高い比率で有するビニル系重合体を安価に、かつ、容易な方法で提供すると共に、速い速度で硬化し、高い硬化物特性を有する接着剤組成物を提供する。
【解決手段】(メタ)アクリロイル基を1分子あたり少なくとも1個、分子末端に有するビニル系重合体を含有する接着剤組成物であって、前記ビニル系重合体が一般式(1)で示される化合物を重合開始剤として、ビニル系モノマーをリビングラジカル重合により製造されたものであることを特徴とする接着剤組成物。
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表面後架橋された吸水性ポリマー粒子の製造法
表面後架橋された吸水性ポリマー粒子の製造法であって、その際、該吸水性ポリマー粒子を、該表面後架橋の前、該表面後架橋の間又は該表面後架橋の後に、3価の金属カチオンと1価のカルボン酸アニオンからなる少なくとも1種の塩基性塩でコーティングする製造法。 (もっと読む)
ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
【課題】高解像性のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)とを含有するポジ型レジスト組成物であって、前記樹脂成分(A)は、一般式(1)[式中、Pはa価の有機基を表し、aは2〜20の整数を表し、Yはアリーレン基又は炭素原子数1〜12のアルキレン基を表し、Xは酸の作用により解裂され得る特定の結合基を表す。]で表されるコア部と、該コア部に結合し、かつ、アニオン重合法によって得られるポリマー鎖からなるアーム部とを有するポリマーを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
[化1]
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含フッ素ラジカル重合性共重合体、それを用いた活性エネルギー線硬化型樹脂組成物及び含フッ素ラジカル重合性共重合体の製造方法
【課題】炭素原子数8以上のフッ素化アルキル基を有する表面改質剤と同等以上の高い撥水性及び撥油性を発揮する炭素原子数6以下のフッ素化アルキル基を有する含フッ素ラジカル重合性共重合体及びその製造方法を提供する。また、該共重合体を用いた活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を提供する。
【解決手段】炭素原子数1〜6のフッ素化アルキル基を有するラジカル重合性不飽和単量体(a1)と、反応性基を有するラジカル重合性不飽和単量体(a2)とを共重合させて得られる共重合体(A)に、前記反応性基と反応して結合を形成する官能基及びラジカル重合性不飽和基を有する化合物(B)を、前記共重合体(A)が有する反応性基に対して反応させることによって得られた重量平均分子量(Mw)と数平均分子量(Mn)との比である分散度(Mw/Mn)が1.5以下である含フッ素ラジカル重合性共重合体。
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キレート樹脂
【課題】 工場排水、用水、環境水、食品、薬品等の被処理溶液中から重金属元素の除去、回収に用いられるキレート樹脂において、被処理溶液中に多量に存在するアルカリ土類金属類の妨害を受けずに重金属元素を高度に捕捉しうる元素選択性に優れたアミノカルボン酸型キレート樹脂及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 ポリエチレンイミン骨格を有する化合物が導入された高分子担体を、アルカリ性溶液中でハロゲン化酢酸を用いてカルボキシメチル化する際に、導入された化合物の窒素量の1.0〜3.0倍モルのハロゲン化酢酸を用いてカルボキシメチル化を行うことにより、アルカリ土類金属類の妨害を受けにくい元素選択性に優れたキレート樹脂を製造する。
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ネガ型レジスト組成物、レジストパターンの形成方法及び電子デバイスの製造方法
【課題】実用可能な感度を有していて、膨潤のない微細なネガ型レジストパターンを形成できるレジスト組成物を提供すること。
【解決手段】レジスト組成物が、下記の反応成分:
(1)アルカリ可溶性の重合体からなる基材樹脂、
(2)結像用放射線を吸収して分解し、酸を発生可能な光酸発生剤、及び
(3)前記光酸発生剤から発生せしめられた酸の存在下、前記基材樹脂の重合体と脱水結合反応を行い得る反応部位を有している脂環族系アルコール、
を組み合わせて含んでなるように構成する。
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架橋高分子物の変性方法
【課題】強酸性基を有する架橋有機高分子を、臨界温度よりも低い緩和された水溶液条件下で処理することにより、該架橋有機高分子を水中に溶解変性させる方法を提供する。
【解決手段】強酸性基を有する架橋有機高分子を、300℃以上370℃以下の温度、且つ、飽和水蒸気圧もしくはそれよりも高い圧力下で、pH12以上のアルカリ性水溶液と接触させることにより、前記架橋有機高分子を前記アルカリ性水溶液中に溶解させることを特徴とする架橋有機高分子の変性方法。
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多孔質膜
【課題】基板との密着性に優れ、誘電率、硬度等の諸特性に優れ、誘電率の経時変化が小さく、半導体素子デバイスなどにおける層間絶縁膜として使用するのに適した多孔質膜、およびその多孔質膜を製造する組成物を提供する。
【解決手段】多孔質膜は、加熱、光照射、放射線照射またはそれらの組み合わせにより、その一部が脱離して揮発性成分を生じる官能基を有する化合物(X)を用いて形成され、空孔分布曲線における最大ピークを示す空孔直径が5nm以下である。
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変性ポリビニルアルコール系樹脂、並びにそれを含む接着剤、偏光板及び表示装置
本発明は、アクリル基が導入されてアクリル基の導入時に形成されたヒドロキシル基を含む変性ポリビニルアルコール系樹脂に関し、また、優れた接着力、耐湿性及び耐水性を有する前記変性ポリビニルアルコール系樹脂を含む接着剤に関し、さらに、ポリビニルアルコール系樹脂とエポキシ基及びアクリル基を有する化合物とを含む接着剤、並びにそれを含む偏光板及び表示装置に関する。本発明の一実施形態によれば、アクリル基が導入されてアクリル基の導入時に形成されたヒドロキシル基を有する変性ポリビニルアルコール系樹脂を含む偏光板用接着剤が提供され、また、ポリビニルアルコール系樹脂100重量部とエポキシ基及びアクリル基を有する化合物0.001〜10重量部とを含む偏光板用接着剤が提供され、さらに、このような接着剤を含む偏光板及び表示装置が提供される。 (もっと読む)
タイヤ
【課題】タイヤの氷上性能及び乾燥路面上での操縦安定性を向上させつつ、転がり抵抗を低減することが可能なゴム組成物をトレッドに用いたタイヤを提供する。
【解決手段】タイヤのトレッド部3に、シス-1,4結合量が90%以上及びビニル結合量が1.2%以下で且つ第一級アミノ基を有する変性共役ジエン系重合体(A)を10〜90質量%含むゴム成分100質量部に対し、重合反応終了時の重量平均分子量が2×103〜15×104である低分子量変性共役ジエン系重合体(B)1〜60質量部と、カーボンブラックを含む補強性充填剤(C)10〜100質量部とを配合してなるトレッド用ゴム組成物であって、加硫後のゴムマトリクス中に気泡を含有し、その気泡率が5〜50%であるゴム組成物を用いる。
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