国際特許分類[C08G77/08]の内容
化学;冶金 (1,075,549) | 有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物 (224,083) | 炭素−炭素不飽和結合のみが関与する反応以外の反応によって得られる高分子化合物 (33,999) | 高分子の主鎖にいおう,窒素,酸素または炭素を有しまたは有せずにけい素を含む連結基を形成する反応により得られる高分子化合物 (3,161) | ポリシロキサン (2,133) | 製造法 (285) | 用いられた触媒に特徴のあるもの (101)
国際特許分類[C08G77/08]に分類される特許
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トコフェロールの使用
本発明は、環状シロキサンの開環重合における共触媒としての、トコフェロールの使用に関する。更に、本発明は、ヒドリドを含む環状シロキサンが、モノマーを収得するための第一の触媒の存在下で、一般式(I)H2C=CH−(CHR) n−O−(CHR1CR2R3) mR4、又は(II)H2C=CH−(CHR) n−R5(式中、nは、0〜4の整数であり、mは、0〜5の整数であり、R、R1、R2、R3、及びR4は、それぞれ独立して、水素又はC1〜C5のアルキルであり、R5は、カルボニル基を含む飽和環状炭化水素である)を有する、炭素−炭素二重結合を含む親水性分子と反応し、そして第二の触媒及び共触媒としてのトコフェロールの存在下で、前記モノマーを重合する、親水性ポリシロキサンポリマーを製造する方法に関する。 (もっと読む)
膜形成用組成物、低誘電率絶縁膜、低誘電率絶縁膜の形成方法及び半導体装置
【解決課題】 通常の半導体プロセスに用いられる方法によって、従来の材料では得ることが難しかった誘電特性と機械強度特性が共に優れる多孔質膜を与えるシリカゾル、膜形成用組成物、多孔質膜とその製造方法、及びこの多孔質膜を内蔵する高性能かつ高信頼性を備えた半導体装置を提供する。
【解決手段】 従来の多孔質膜形成用塗布液に、一般式Si(OR1)4、 R2nSi(OR3)4-n(式中、R1,R2,R3は炭素数1〜4の直鎖状又は分岐状のアルキル基を表し、分子中に複数個含まれている場合は各々独立して互いに同じでも異なってもよい。)で表されるシラン化合物を親水性塩基触媒及び疎水性塩基触媒の存在下加水分解/縮合してシリカゾルを製造する。
このシリカゾルを含む多孔質膜形成用組成物を用いる。
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有機無機ハイブリッド透明封止材とその製造方法
【課題】250℃以下の熱によって硬化し、粘度の制御ができ、紫外線透過性に優れ、飽和吸水率が低く、耐熱性が高く、屈折率が高く、加熱による重量減少率が少ないような透明封止材はなかった。
【解決手段】有機置換基とシロキサン結合を含む物質に硬化剤として有機金属化合物を添加し、硬化することを特徴とする有機無機ハイブリッド透明封止材。硬化前の主剤の粘度は所望の粘度まで上昇できることを特徴とする。硬化後の透明封止材は、波長350〜900nmにおける透過率が厚さ1mmで85%以上であり、飽和吸水率が0.3wt%未満であり、300℃以下で溶融せず、屈折率が1.4以上であり、150℃で24時間以上加熱後の波長350〜900nmにおける透過率が、厚さ1mmで85%以上である特徴をもつ。
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付加反応用触媒
【課題】経時的な外観不良、触媒活性の低下のない、保存安定性に優れた付加反応用触媒を提供する。
【解決手段】付加反応用触媒は、(A)1分子中に2個以上のケイ素結合アルケニル基を有し、23℃における粘度が0.01〜3Pa・sであるポリオルガノシロキサン、(B)ビニル基含有オルガノシロキサンを配位子とする白金錯体、及び(C)窒素原子を有する安定化剤を含有する付加反応用触媒であって、前記(C)成分の配合量が、前記(B)成分の白金原子1molに対して0.001〜0.5molである。
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ポリシロキサンの製造方法及びその使用
少なくとも一つのシラノール基を有するケイ素含有化合物と、少なくとも一つのOR基又は少なくとも一つのシラノール基を有するケイ素含有化合物(又は双方の基を有する化合物)とを、酸化ストロンチウム、酸化バリウム、水酸化ストロンチウム、又は水酸化バリウム、及び有利には水、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、及び2−ブタノール、アセトン又はトルエン等の溶媒存在下で、互いに反応する段階を含むオルガノシリコン縮合物を調製する方法。 (もっと読む)
シリコーンオリゴマーの製造法
【課題】電子機器及び電子機器などの信頼性を低下させることのないシリコーンオリゴマーの製造法を提供する。
【解決手段】 アルコキシシラン又はアルコキシ基を有するシランカップリング剤を固体酸触媒の存在下、アルコキシ基に対して0.15〜0.5当量の水と反応させ、反応後、該固体酸触媒を除去することを特徴とするシリコーンオリゴマーの製造法。
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カルベン触媒を用いたシリル単位の縮合方法
本発明は、同一の又は異なる(有機)ケイ素化合物Pが有する少なくとも1個の≡SiOH単位と少なくとも1個の≡SiOR単位(ここで、Rは水素又は随意に1個以上のヘテロ原子を有するC1〜C20炭化水素基である)とを有効量の少なくとも1種の触媒Cの存在下で縮合させる方法であって、前記触媒Cがカルベンであることを特徴とする、前記方法に関する。 (もっと読む)
ルテニウム触媒の存在におけるヒドロシリル化法
本発明は、ルテニウム触媒が、少なくとも2個の無関係な炭素−π−結合配位子を有し、その際、これら配位子の少なくとも1個をη6−結合アレーン配位子、η6−結合トリエン配位子、η4−結合1,5−シクロオクタジエン配位子及びη4−結合1,3,5−シクロオクタトリエン配位子を含有する群から選択することを特徴とする、ルテニウム化合物触媒の存在におけるヒドロキシル化法、このようなルテニウム−化合物のヒドロシリル化触媒としての使用及びこのようなルテニウム−化合物を含有する組成物に関する。 (もっと読む)
ポリマーおよびその製造方法、絶縁膜形成用組成物、絶縁膜の製造方法、ならびにシリカ系絶縁膜
【課題】比誘電率が低く、かつ、CMP耐性および薬液耐性に優れた絶縁膜を形成することができるポリマーおよびその製造方法、絶縁膜形成用組成物、絶縁膜の製造方法、ならびにシリカ系絶縁膜を提供する。
【解決手段】(A)下記一般式(1)で表される少なくとも1種のシラン化合物と、(B)下記一般式(2)で表される化合物および下記一般式(3)で表される化合物から選ばれた少なくとも1種のシラン化合物を、(C)金属キレート化合物または酸触媒の少なくとも一方の存在下で共縮合することを含む。
【化1】
・・・・・(1)
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低VOCのエポキシシランオリゴマー及びこれを含む組成物
その加水分解性サイトの加水分解に際して、すべてが加水分解可能なアルコキシ基である加水分解性サイトを同数にて有するシランの加水分解によって生成される揮発性有機化合物と比較して、減少した量の揮発性有機化合物を生成するエポキシシランを加水分解させることを包含する、低VOCエポキシシランオリゴマーの製造方法であって、前記エポキシシランの加水分解が1.5当量未満の水を用いて行われ、加水分解反応の間に前記水が連続的に供給される、方法。 (もっと読む)
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