【課題】ハードベーク工程後のパターン均一性及び耐熱性に優れたフォトレジスト組成物を提供。
【解決手段】液晶表示装置回路、半導体集積回路などの微細回路の製造に使用されるフォトレジスト組成物に関し、より詳しくはａ）下記の化学式で示されるノボラック樹脂、ｂ）ジアジド系感光性化合物、及びｃ）有機溶媒を含むフォトレジスト組成物に関するものである。
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【課題】洗浄時間の短縮や廃水量の低減を効果的に果し得るフェノール化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】フェノール類と縮合反応によって該フェノール類を架橋し得る化合物とを、リン酸類及び／又は有機ホスホン酸類の存在下で不均一系反応させる第一工程と、該第一工程後に、分離した水相除去後の残留相を加熱還流する第二工程とを有するフェノール化合物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】２核体成分の少ないフォトレジスト用フェノール樹脂及びその製造方法を提供すること、及び昇華物が少なく、膜ベリ率が小さく、感度及び耐熱性が良好なフォトレジスト用樹脂組成物を提供することにある。
【解決手段】極性非プロトン溶媒に溶解させたフェノール樹脂と、アルデヒド類とを固体酸触媒の存在下で反応させる工程（Ａ）、フェノール樹脂溶液を固体酸触媒と分離する工程（Ｂ）、及び上記工程（Ｂ）後のフェノール樹脂を反応及び／又は濃縮する工程（Ｃ）を有することを特徴とし、この製造方法により得られたフォトレジスト用フェノール樹脂と、感光剤、及び溶剤を含むことを特徴とするフォトレジスト用樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】特異な物性を発現することが期待される、極めて微少単位のレゾルシノール系合成ポリマー粒子であって、チューブ状、あるいは、バルーン状の中空状を呈したポリマー粒子を提供する。
【解決手段】芳香族環に２個以上のヒドロキシル基が置換した構造を持つフェノール類の中から選択された少なくとも１種類のモノマーと、ホルムアルデヒド、フルフラールを含むアルデヒド類の中から選択された少なくとも１種類のモノマーを、カチオン界面活性剤によって形成されるミセルないしはベシクルを反応鋳型として、この反応鋳型により苛性ソーダを含む塩基性縮合剤の存在下で重合させる。 （もっと読む）

触媒としての塩基、コロイド安定剤及び、場合によっては、界面活性剤を用いた、フェノールとアルデヒドとの反応によって高収率で製造されるレゾールビーズが開示されている。レゾールビーズは種々の用途を有し、活性炭ビーズを得るために熱処理及び炭化させることが可能である。 （もっと読む）

コロイド安定剤及び、場合によっては、界面活性剤の存在下で触媒として塩基を用いてフェノールとアルデヒドとを反応させることによって製造されるレゾールビーズが開示されている。これらのレゾールビーズは、種々の用途を有し、これらを熱処理し且つ炭化させることによって活性炭ビーズを得ることができる。 （もっと読む）

【課題】 スチレン・ブタジエン系ラテックス（ＳＢＲラテックス）、ニトリル・ブタジエン系ラテックス（ＮＢＲラテックス）、メタクリル酸エステル・ブタジエン系ラテックス（ＭＢＲラテックス）等合成ゴムラテックスと混合出来、柔軟性の付与や風合いの改善、接着性の改善を行う事が出来、繊維状基材、ガラスロービングなど各種の基材への含浸やコーティング用として有用な水溶性フェノール樹脂組成物、これを含有するバインダーを提供すること。
【解決手段】 ホルムアルデヒド（Ｆ）に対するフェノール（Ｐ）のモル比（Ｆ／Ｐ）を１．０／１．０〜３．０／１．０とし、触媒として水酸化リチウムをフェノールに対して０．１０〜０．５０モル用いて反応させて得られた水溶性フェノール樹脂組成物と該水溶性フェノール樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】フェノール類モノマーおよびフェノール類ダイマー成分が少なく、大きな重量平均分子量と、小さな分散比を兼ね備え、さらにアルカリ現像液に対して優れた溶解性を示すノボラック型フェノール樹脂の製造方法を提供する。
【解決手段】フェノール類とアルデヒド類とを、リン酸類、及びフェノール類１００質量部に対して３０質量部以上のグリコール誘導体を含む系内で不均一反応させる工程を有するノボラック型フェノール樹脂の製造方法。 （もっと読む）

【課題】導電性などの特性に優れた導電性フェノール樹脂複合材料を提供する。
【解決手段】 フェノール樹脂の球状粒子１の表層に導電性材料からなる導電層２を被覆した形態に導電性フェノール樹脂複合材料Ａを形成する。導電性材料からなる導電層２が連続して繋がることによって、高い導電性を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】フェノール類モノマー及びフェノール類ダイマーの含有量や分散比が制御されたノボラック型フェノール樹脂及びその製造方法を提供する。
【解決手段】ゲル濾過クロマトグラフの面積法による測定でフェノール類モノマーの含有率が３％以下かつフェノール類ダイマーの含有率が１０％〜７５％、ゲル濾過クロマトグラフ測定による重量平均分子量が３００〜１０００、かつ重量平均分子量と数平均分子量との分散比が１．１〜１．８であるノボラック型フェノール樹脂及びフェノール類と、フェノール類１モルに対して０．４０モル以上０．８０モル未満のアルデヒド類とを、フェノール類１００質量部に対して２５質量部以上のリン酸類の存在下で不均一系反応させる工程を有するノボラック型フェノール樹脂の製造方法。 （もっと読む）