【課題】加硫成形のとき故障を起こさないようにしながら、ゴム成形体の任意の部分を発泡可能にするようにした発泡ゴム成形体の製造方法を提供する。
【解決手段】化学発泡剤及び比誘電率が１０以上、融点が１００℃以下、沸点が２００℃以上である誘電性化合物を含む未加硫ゴム組成物から未加硫ゴム成形体を成形し、この未加硫ゴム成形体を前記化学発泡剤の分解温度よりも低い温度で加硫成形すると共に、加硫成形の前及び／又は加硫成形の間に、前記未加硫ゴム成形体の少なくとも一部分にマイクロ波を照射することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】食品の包装としての使用のためのフィルムに関連し、とりわけ、調理される又は、別の方法でケーシング中で加熱される食品用のチューブ状（tubular）食品ケーシングの提供。
【解決手段】少なくとも部分的にその中に吸収した液体を有するフィルムに関し、ここで該液体は該フィルムの表面に塗布され、該液体の該表面への塗布前に、該表面が少なくとも約５０ダインの表面エネルギーを有するように表面活性化処理に供される。 （もっと読む）

【課題】ポリイミド系フィルムの強度、平面性を維持しつつ、接着剤に対する接着性を向上でき、かつその接着性を高温下においても維持できるポリイミド系フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】芳香族テトラカルボン酸類の残基としてピロメリット酸残基と、芳香族ジアミン類の残基としてベンゾオキサゾール骨格を含むジアミン残基とを有するポリイミドを主成分とするポリイミドフィルムの表層に、反応性官能基を形成する工程と、前記反応性官能基に、極性官能基を有する化合物をグラフト重合処理により付加する工程とを含む、ポリイミド系フィルムの製造方法とする。 （もっと読む）

【課題】感度の良好な感圧センサの製造方法、感圧センサ、および弾性組成物を提供する。
【解決手段】感圧センサの製造方法は、２５℃でゴム弾性を示す材料またはその原材料と、導電性粒子とを混合することにより混合物を得る工程（Ｓ１）と、混合物に電圧を加えることにより、導電性粒子を配向させる工程（Ｓ２）とを備える。混合物を得る工程（Ｓ１）は、原材料と導電性粒子とを混合する工程であり、導電性粒子を配向させる工程（Ｓ２）の後に、混合物を加硫する工程（Ｓ３）をさらに備えることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】硬化物の表面に金属めっき層などの金属層が形成された場合に、硬化物と金属層との接着強度を高めることができる研磨処理硬化物の製造方法、及び該研磨処理硬化物を備える積層体を提供する。
【解決手段】本発明に係る研磨処理硬化物の製造方法は、エポキシ樹脂と硬化剤と充填剤とを含む樹脂組成物１２を予備硬化させた予備硬化物１２Ａの表面１２ａが粗化処理された粗化硬化物１２Ｂを用いて、該粗化硬化物１２Ｂの粗化処理された表面１２ａを研磨処理して、研磨処理硬化物１２Ｃを得る研磨処理工程を備える。本発明に係る積層体１は、上記製造方法により得られた研磨処理硬化物１２Ｃと、該研磨処理硬化物の研磨処理された表面に積層された金属層１３とを備える。 （もっと読む）

【課題】 基材表面に位置する官能基がアミド化や窒化することを防ぎつつ、また酸素結合に頼ることなく層間密着力を向上させることを可能としたガスバリアフィルムの製造方法及び係る製造方法によるガスバリアフィルムを提供する。
【解決手段】 基材となるプラスチックフィルムの表面に対し、不活性ガス導入下において、気圧が１×１０^−１〜１×１０^−３ｔｏｒｒという環境下にて予めプラズマ処理を施すプラズマ処理工程と、前記プラズマ処理工程を実施した後に、その表面にガスバリア性を有するガスバリア層を積層してなるガスバリア層積層工程と、を備えてなる製造方法、及び該方法により得られるガスバリアフィルムとした。 （もっと読む）

【課題】 基材表面に位置する官能基がアミド化や窒化することを防ぎつつ、また酸素結合に頼ることなく層間密着力を向上させることを可能としたガスバリアフィルムの製造方法及びガスバリアフィルムを提供する。
【解決手段】 複数枚のプラスチックフィルムが剥離可能に積層された状態である基材フィルムの最表面に対し、不活性ガス導入下において、気圧が１×１０^−１〜１×１０^−３ｔｏｒｒという環境下にて予めプラズマ処理を施すプラズマ処理工程と、その表面にガスバリア層を積層してなるガスバリア層積層工程とを備えてなり、前記プラズマ処理がグロー放電プラズマ処理であり、前記グロー放電プラズマ処理工程が施された前記基材表面に、前記グロー放電プラズマ処理を施したことにより周期表における第４周期第４族から同第１２族に属するいずれかの金属、若しくは当該範囲内の金属同士による合金が付着してなる方法とした。 （もっと読む）

【課題】フッ素系高分子電解質を放射線架橋して良好な機械的耐久性及び放射線耐久性を有する放射線架橋フッ素系固体高分子電解質の製造方法を提供する。
【解決手段】フッ素系固体高分子電解質に含まれる導電性基のプロトンを一価アルカリ金属イオンで置換してフッ素系固体高分子電解質の一価アルカリ金属イオン置換体を得る金属イオン置換工程と、前記フッ素系固体高分子電解質の一価アルカリ金属イオン置換体に含まれる水分を脱離させる水分脱離工程と、水分脱離したフッ素系固体高分子電解質の一価アルカリ金属イオン置換体を真空もしくは不活性ガス雰囲気下で電離放射線照射して放射線架橋フッ素系高分子電解質の一価アルカリ金属イオン置換体を得る放射線照射工程と、放射線架橋フッ素系高分子電解質の一価アルカリ金属イオン置換体に酸処理を施して導電性基の一価アルカリ金属イオンをプロトンに置換する酸処理工程を含む。 （もっと読む）

【課題】従来技術と比較して、高い水蒸気バリア性を有するシリコン含有封止膜を提供する。
【解決手段】ポリシラザン膜の主面にプラズマ照射を行うことにより形成された変性領域を備え、変性領域は、ケイ素原子と窒素原子とを含み、またはケイ素原子と窒素原子と酸素原子とを含み、変性領域において、原子組成が徐々に変化している、シリコン含有封止膜。 （もっと読む）

【課題】ガスバリア性、透明性及び耐折り曲げ性に優れる成形体、その製造方法、この成形体からなる電子デバイス用部材、及びこの電子デバイス用部材を備える電子デバイスを提供する。
【解決手段】ポリシラザン化合物と粘土鉱物とを含む層からなり、４０℃、相対湿度９０％雰囲気下での水蒸気透過率が、６．０ｇ／ｍ²／ｄａｙ以下であることを特徴とする成形体、その製造方法、この成形体からなる電子デバイス用部材、及びこの電子デバイス用部材を備える電子デバイス。 （もっと読む）