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国際特許分類[C09D103/02]の内容

国際特許分類[C09D103/02]に分類される特許

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【課題】 防汚塗料としての優れた機能を発揮し、水中における摩擦抵抗を低減し、かつ環境への負荷を軽減した水性硬化型防汚塗料組成物、それにより得られる防汚性塗膜及びそれを有する水中構造物を提供する。
【解決手段】 硬化性を有する水性バインダー成分、有機高分子粒子及び防汚剤を配合し、得られる塗膜が使用時に水中に存在する用途において使用されるものである水性硬化型防汚塗料組成物。 (もっと読む)


【課題】耐火性および耐熱性に優れた被覆層を形成する用途に適したコーティング用粉体分散液を提供する。
【解決手段】コーティング用粉体分散液は、液状の分散媒と、分散媒中に分散される中空状または多孔質状の無機粉体と、分散媒中に分散され、常温域のバインダーとしての機能を備えた第1の成分と、分散媒中に分散され、常温よりも高温域のバインダーとしての機能を備えた第2の成分とを有する。分散媒の好適な一例は、水であり、無機粉体の好適な一例は、シラスバルーンであり、第1の成分の好適な一例は、珪酸ナトリウムであり、分散媒が水である場合、第2の成分の好適な一例は澱粉である。 (もっと読む)


【課題】食品の包装、容器、カップ等の製造に使用する基材を被覆するための、酸素バリア特性を有する材料、および、この材料を使用した酸素バリア機能を有する基材の製造方法を提供する。
【解決手段】水溶性のガスバリア材料のバリア特性は、その材料を10〜250ナノメートルの寸法を有する炭酸カルシウムナノ粒子とブレンドする場合に向上される。このバリア材料は、基材にガスバリア特性を提供するために、基材上におかれる。このバリア材料の曝露表面には、ヒートシール可能な材料の層を施用してもよい。このバリア被覆基材を製造するための方法を開示する。 (もっと読む)


本発明は、特に表面処理、着色表面処理および/または被覆による、紙または平坦ボール紙仕上げのための化合物であって、変性マメ科植物デンプンの少なくとも1種を含有することを特徴とする化合物に関する。該発明はまた、少なくとも1つの発明化合物を用いる、特に表面処理、着色表面処理および/または被覆による、紙または平坦ボール紙のための仕上げ方法、および少なくとも1つの発明化合物を用いることにより製造した紙またはボール紙に関する。本発明はまた、特に表面処理、着色表面処理および/または被覆による、紙または平坦ボール紙仕上げのための、変性マメ科植物デンプン、好ましくはアミロース含量が20〜60%、好ましくはアミロース含量が45%未満のデンプンの使用に関する。 (もっと読む)


少なくとも一種のカチオン性架橋ワキシーコーンでんぷんおよび別のでんぷんを含むカチオン性架橋でんぷん組成物を開示する。また、でんぷん組成物を含む紙製品も開示する。紙製品は、改良された内部結合強度を有することを特徴とするのが普通である。製紙プロセスにおけるでんぷんブレンドの使用は、改良された紙完成紙料排水速度および保持特性を生じるのが普通である。また、本開示のでんぷん組成物をを含有するコーティング配合物も開示する。また、組成物を製造する方法も開示する。 (もっと読む)


【課題】風化珊瑚を主成分として含み、建築資材として使用可能なコーティング材とこれを用いるコーティング方法を提供する。
【解決手段】風化珊瑚からなる粉体と、この粉体に対して0.5〜10重量%のでんぷん糊を含むコーティング材。 (もっと読む)


【課題】
本発明が解決しようとする問題点は熱可塑性があり、一般的な製造方法で成型可能な耐水性、防水性に優れた成形品またはコーティング品を提供する方法、および廉価なゼラチンまたは寒天類代替組成物を提供する方法を見出すことである。
【解決手段】
本発明の組成物は充填材を除く乾燥重量に対し、加水分解澱粉が55重量%以上含まれ、可塑剤であるトレハロースが1から30重量%含まれ、ソルビトールまたはおよびグルコン酸が1から30重量%含まれ、可塑剤の合計量が10重量%以上、40重量%以下であり、これらを主成分とする部分架橋した熱可塑性澱粉組成物である。
好ましくは充填材を除く乾燥重量に対し、可塑剤であるトレハロース、ソルビトールまたはおよびグルコン酸の合計が20から30重量%である組成物であり、また好ましくは部分架橋剤がジカルボン酸またはおよびトリカルボン酸である組成物である。 (もっと読む)


【課題】 殺微生物活性物質としてのトリアジン誘導体を提供する。
【解決手段】 次式(1)
【化1】


[式中、
1は炭素原子数1ないし20のアルキル基、炭素原子数3ないし7のシクロアルキル基
、または炭素原子数1ないし20のパーフルオロアルキル基を表し、
2は水素原子、炭素原子数1ないし20のアルキル基、または炭素原子数3ないし7の
シクロアルキル基を表し、
3は水素原子、炭素原子数1ないし20のアルキル基、炭素原子数3ないし7のシクロ
アルキル基、炭素原子数1ないし20のパーフルオロアルキル基、炭素原子数1ないし20のアルキル−カルボニル基、炭素原子数3ないし7のシクロアルキル−カルボニル基、炭素原子数1ないし20のパーフルオロアルキル−カルボニル基、またはフェニルカルボニル基を表す。]で表される化合物、それらの化合物のグラム陽性及びグラム陰性菌、酵
母並びにカビに対する顕著な効果及び人の歯の表面及び口腔の粘膜におけるバイオフィルムの防止または処理。
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【課題】デンプン塗工液を使用するサイズプレス装置周辺でのデンプン汚れの付着、堆積を防止することができるデンプン汚れ付着防止剤組成物およびデンプン汚れの付着防止方法を提供することである。
【解決手段】下記成分(a)および水、または成分(a)、成分(b)および水からなり、サイズプレス装置においてデンプン汚れが付着しやすい箇所にシャワーリングまたは塗布するためのデンプン汚れ付着防止剤組成物である。(a):α−アミラーゼ、β−アミラーゼおよびグルコアミラーゼからなる群より選ばれる少なくとも1種のデンプン分解酵素、(b):防腐剤および/または無機塩。また、デンプン塗工液を使用するサイズプレス装置周辺に、上記デンプン汚れ付着防止剤組成物をシャワーリングまたは塗布するデンプン汚れの付着防止方法である。 (もっと読む)


【課題】半導体装置製造のリソグラフィープロセスに使用されるリソグラフィー用下層膜形成組成物、及びフォトレジストに比べて大きなドライエッチング速度を有し、そして、フォトレジストとのインターミキシングを起こさないリソグラフィー用下層膜を提供すること。
【解決手段】ヒドロキシル基の少なくとも50%がエステル基となったデキストリンエステル化合物、架橋性化合物、及び有機溶剤を含むリソグラフィー用下層膜形成組成物。 (もっと読む)


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