国際特許分類[C10M105/54]の内容
化学;冶金 (1,075,549) | 石油,ガスまたはコークス工業;一酸化炭素を含有する工業ガス;燃料;潤滑剤;でい炭 (63,767) | 潤滑組成物 (27,775) | 非高分子有機化合物である基材によって特徴づけられる潤滑組成物 (4,181) | ハロゲンを含有するもの (168) | 炭素,水素,ハロゲンおよび酸素を含有するもの (98)
国際特許分類[C10M105/54]に分類される特許
11 - 20 / 98
フッ素系潤滑剤組成物
【課題】金または銀メッキ表面を含む貴金属表面、銅表面、銅合金表面を有する電気接点等の摺動部材の摩耗を低減させるフッ素系潤滑剤組成物を提供する。
【解決手段】基油中に、増稠剤および一般式 CF3(CF2)nO(CF2O)p(C2F4O)q(C3F6O)rRfCONHAr(ここで、Arは2-ベンゾイミダゾール基であり、Rfは炭素数1〜2のフルオロカーボン基であり、nは0、1または2であり、p+q+r≦100である整数で、p、q、rの内の1個または2個は0であり得、CF2O基、C2F4O基およびC3F6O基は主鎖中にランダムに結合している基である)で表わされる含フッ素化合物を添加剤として含有するフッ素系潤滑剤組成物。
(もっと読む)
フッ素系潤滑剤組成物
【課題】フッ素オイルが本来有する諸特性を損なうことなく、従来よりもさらに優れた長期防錆性、耐熱性などを改善せしめたフッ素系潤滑剤組成物を提供する。
【解決手段】基油中に、一般式 CF3(CF2)nO(CF2O)p(C2F4O)q(C3F6O)rRfCONHAr (ここで、Arは2-ベンゾイミダゾール基であり、Rfは炭素数1〜2のフルオロカーボン基であり、nは0、1または2であり、p+q+r≦100である整数で、p、q、rの内の1個または2個は0であり得、CF2O基、C2F4O基およびC3F6O基は主鎖中にランダムに結合している基である)で表わされる含フッ素化合物を添加剤として含有するフッ素系潤滑剤組成物。
(もっと読む)
磁気ディスク用潤滑剤化合物、磁気ディスク及びその製造方法
【課題】磁気スペーシングのより一層の低減を実現することができ、しかも磁気ディスクの耐久性、特にLUL耐久性及びアルミナ耐性に優れ、近年の急速な高記録密度化に伴う磁気ヘッドの低浮上量のもとで、また用途の多様化に伴う非常に厳しい環境耐性のもとで高信頼性を有する磁気ディスクを提供する。
【解決手段】基板上に少なくとも磁性層と炭素系保護層と潤滑層が順次設けられた磁気ディスクであって、前記潤滑層は、構造中にパーフルオロポリエーテル主鎖を有し、且つ分子の末端を除く位置に芳香族基を有するとともに、分子の末端には極性基を有する化合物からなる磁気ディスク用潤滑剤化合物を含有する。
(もっと読む)
電気絶縁油組成物
【課題】適正な粘度を有し、外観が良好であり、酸化安定性に優れ、かつ製造コストを低減できる電気絶縁油組成物を提供すること。
【解決手段】(A)水素化精製鉱油及び/または合成油並びに(B)溶剤精製鉱油からなる基油を含有する、40℃における動粘度が5〜15mm2/sの電気絶縁油組成物であって、前記(B)溶剤精製鉱油が、40℃における動粘度が5〜100mm2/s、硫黄分が0.03〜0.8質量%であって、(B)成分の配合量が基油全量基準で0.5〜10質量%である電気絶縁油組成物である。
(もっと読む)
磁気ディスク用潤滑剤化合物及び磁気ディスク
【課題】磁気スペーシングのより一層の低減を実現でき、しかも近年の急速な高記録密度化に伴う磁気ヘッドの低浮上量のもとで高信頼性を有する磁気ディスクを提供する。
【解決手段】基板上に少なくとも磁性層と保護層と潤滑層が順次設けられた磁気ディスクであって、前記潤滑層は、化学式
で示される化合物(化学式中、R=CH2OCH2CH(OH)CH2OH、m、p、qはそれぞれ1以上の整数を表わす。)。
(もっと読む)
潤滑剤組成物
【課題】地球環境に優しく、しかも潤滑膜を薄くかつ均一に形成することができる潤滑剤組成物を提供する。
【解決手段】被膜形成能を有するパーフルオロポリエーテル系潤滑性重合体と、式:Rf−O−R(式中、Rfは炭素数1〜5の含フッ素アルキル基;Rは炭素数3〜6のアルキル基または炭素数1〜5の含フッ素アルキル基;ただしRfとRの合計の炭素数は4以上)で示され、かつ表面張力が14mN/m以上のハイドロフルオロエーテルとを含むことを特徴とする潤滑性重合体が含フッ素エーテルに溶解または分散した潤滑剤組成物。
(もっと読む)
潤滑剤および磁気記憶装置
【課題】 本発明は磁気記憶装置用の潤滑剤に関し、より詳細には塗布面への吸着力が強く潤滑性能の高い潤滑剤とその潤滑剤を塗布した磁気記憶装置に関するものである。
【解決手段】 本発明の潤滑剤は、式1で表される弗素ポリマを含有する。
R1−O−(R3O)l(R4O)m(R5O)n(R6O)o(R7)p−R2 ・・・(1)
(式1において、R1はC1〜C10のパーフロロアルキル基、R2は3つ以上の極性基および/または炭素−炭素によるπ結合を持つ有機基を示す。またR3、R4、R5、R6はそれぞれC1〜C4のパーフロロアルキレン基、R7はC1〜C10のパーフロロアルキレン基またはアルキレン基を示し、またl、m、n、o、pはそれぞれ0または正の整数を示すが、同時に0になることはない)。
(もっと読む)
パーフルオロポリエーテル化合物、その製造方法、該化合物を含有する潤滑剤、および磁気ディスク
【課題】水酸基を有するパーフルオロポリエーテルの末端に新たな官能基を導入することにより、従来の末端変性化合物よりも、ディスク表面上における良好な流動性と吸着性を有し、さらには熱に対して安定な化合物(潤滑剤)を提供する。
【解決手段】分子内に一般式(2);
(式中、Rは水素、C1−10のアルキル基またはアルコキシ基を示し、nは1または2を示す。)で表される基を有するパーフルオロポリエーテル化合物を含有する潤滑剤。
(もっと読む)
フッ素化エーテルの製造方法、フッ素化エーテル、及びその使用
フッ素化エーテルの製造方法は、極性非プロトン性溶媒中で、
式X−Rf1CH2OHにより表されるフッ素化アルコールと、式Rf2CH2OS(=O)2Rf3により表されるフッ素化スルホネートエステルと、塩基と、を組み合わせる工程と;式Y−Rf1CF2OCF2Rf2−Yにより表されるフッ素化エーテルを得る工程と、を含む。Rf1は、1〜10個の炭素原子を有するペルフルオロ化C1〜C10アルキレン基、及び部分フッ素化C1〜C10アルキレン基、及び鎖状ヘテロ原子を有する上記アルキレン基の誘導体から選択される。Xは、H、F、又はHOCH2−基を表す。Rf2は、ペルフルオロ化C1〜C10アルキル基、及び部分フッ素化C1〜C10アルキル基、及び鎖状ヘテロ原子を有する上記アルキル基の誘導体から選択される。Rf3は、C1〜C4アルキル基である。Yは、H、F、又はRf2CH2OCH2−基を表す。対称フッ素化エーテルを調製するために有用な変法も開示する。また、本開示は、この方法に従って調製可能なフッ素化エーテルを提供する。種々の用途におけるフッ素化エーテルの使用も開示する。
(もっと読む)
熱安定性及び化学的安定性が改善されたハイドロフルオロアルコール
式:
A−(Rf)a−CFX−O−RhO−(CFX−(Rf)a*−CFX−O−RhO−)nH (I)
[式中:
Rhは、炭化水素系鎖であり、Xは、FまたはC1〜C6(ペル)フルオロアルキルであり;aまたはa*は、0または1であり;Rfは、(ペル)フルオロ(ポリ)オキシアルキレン鎖または(ペル)フルオロアルキル鎖であり;Aは、−F、−Cl、及びH(a=1の場合にのみ可能)またはHO−Rh−O−CFX−から選択され;nは、0〜200の整数であり、但し、Aが、−F、−Cl、及びHから選択される場合、n=0である]のハイドロフルオロアルコール。
(もっと読む)
11 - 20 / 98
[ Back to top ]