【課題】大きな成膜速度で透明で低屈折率の光学膜を成膜できる透明光学膜の成膜方法を提供し、また該透明光学膜の成膜方法により成膜されてなる透明光学膜を提供する。
【解決手段】フッ素を含む化合物のガス７を導入して全圧８Ｐａ以上とした雰囲気下で、Ｍｇ−Ｓｉメタルターゲット４を用いた反応性スパッタリング法により、基板１１上に透明な光学膜を成膜する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、凹凸面を有する構造部材の製造を容易にするとともにその表面が摩耗した場合でも凹凸面を維持することのできる構造部材を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の構造部材製造方法は、基材の表面にその断面形状が略三角形の溝を連続して多数個形成し、その上に材質の異なる一定厚さの膜を交互に積層して多層膜を形成し、多層膜の表面を研磨することにより凹凸表面を形成することを特徴としている。また、本発明の構造部材は、基材の表面に形成されたその断面形状が略三角形の連続する溝の上に異種材料の膜が交互に積層されてなる多層膜を設け、該多層膜の表面を研磨することにより得られた凹凸表面を有することを特徴としている。 （もっと読む）

基板２２と被膜とを含む物品が提供される。本物品は、チップ形成材料除去工程において性能を改善するように示された切削インサート２０、あるいはチップ無し形成工程のための耐摩耗部品であってよい。１つの耐摩耗被覆方式４０はアルミニウム、クロムおよび窒素を含有する下層４２と最上層４６とを有する。被覆方式４０はまた、チタン、アルミニウム、クロムおよび窒素を含有する中間多周期性ナノレイヤ被覆方式４４を含む。中間多周期性ナノレイヤ４４被覆方式は複数の組の交互層配置５０、５２、５４、５６、５８、６０、６２を含む。交互層配置５０、５２、５４、５６、５８、６０、６２のそれぞれは、チタン、アルミニウムおよび窒素を含むベース層６４と、複数の組の交互ナノレイヤ６８、７０、７２、７４、７６、７８を有するナノレイヤ領域とを有する。交互ナノレイヤ６８、７０、７２、７４、７６、７８のそれぞれの組は、アルミニウム、クロム、チタンおよび窒素とを有する１つのナノレイヤ８２と、アルミニウム、クロム、チタンおよび窒素を有する別のナノレイヤ８４とを有する。ベース層厚さＧはナノレイヤ領域厚さＦより小さい。
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【課題】耐久性の良好な防汚層を有する光学物品の製造方法を提供する。
【解決手段】基材２００の上に反射防止層を形成することと、ペレット５９を用いた真空蒸着法により、反射防止層に重ねて防汚層を形成することとを有する製造方法を提供する。ペレット５９は、フッ素含有有機ケイ素化合物を含む防汚溶液に触媒を添加し、活性状態のフッ素含有有機ケイ素化合物を含む防汚溶液を含浸した後、触媒の蒸発温度以上、フッ素含有有機ケイ素化合物の蒸発温度未満の温度範囲内で加熱処理されたものである。反応活性が適当な状態となったフッ素含有有機ケイ素化合物を含む防汚溶液をペレット内に固定することができ、拭き耐久性の高い防汚層を成膜できる。 （もっと読む）

【課題】高速、無潤滑切削に用いられる切削工具に適した、耐酸化性、耐熱性に優れたZr-Al-Si-N系の皮膜をPVD処理により基板上に形成するために、製作工程における金属間化合物形成による脆化やジルコニウム粉末の酸化による発火や爆発の危険性を防止して容易にかつ低コストで製造したPVD処理用のZr-Al-Si系ターゲット材を提供する。
【解決手段】必要数のプラグ嵌合用の孔を加工したジルコニウム板材に、Al-Si合金で製作したプラグを嵌合し、ＰＶＤ処理用のZr-Al-Si系ターゲット材を製作する。 （もっと読む）

【課題】レーザ耐性に優れたブリュースター窓を提供する。
【解決手段】レーザ光が直線偏光で発振するようにレーザ共振器の内部に配されるブリュースター窓であって、アルカリ土類金属フッ化物単結晶から成り、表面が平坦化された基板１と、その基板の少なくとも一方の面に形成された多結晶又はアモルファス構造であるフッ化物膜２ａ，２ａ’と、を備える。フッ化物膜２ａ，２ａ’は、フッ化ガドリニウム、フッ化マグネシウム、フッ化ランタン、フッ化アルミニウム及びクリオライトの何れかでなる。フッ化物膜２ｂ，２ｂ’のようにフッ化物膜を多層膜としても良い。 （もっと読む）

【課題】耐摩耗性で低摩擦性の軸受表面を得る。
【解決手段】中心軸と同軸である固定部材３４と、固定部材３４に固定された固定子３８と、中心軸の回りを固定部材３４に対して回転可能な回転可能部材３６と、回転可能部材３６に支持され、固定子３８に磁気的に結合された回転子７０と、固定部材３４と回転可能部材３６とを相互接続する動圧流体ベアリング３７であって、無定形炭素、ダイヤモンドライク・カーボン、水素化無定形炭素、窒素化無定形炭素、水素化ダイヤモンドライク・カーボン、窒素化ダイヤモンドライク・カーボンから成るグループのうちの１つから成るコーティングを含む少なくとも１つの動作表面４４，４６を有する動圧流体ベアリング３７とを備え、グループのうちの１つが、クロム、珪素、チタン、ジルコニウムから成るグループのうちの１つの上に設けられている。 （もっと読む）

【課題】薄膜であり、かつ、耐食性に優れた保護膜を形成することで、高品質な被保護体を提供すること。
【解決手段】被保護体の表面の少なくとも一部に保護膜を形成する保護膜形成方法であって、被保護体の表面に下地膜を形成する下地膜形成工程と、下地膜上にダイアモンド状炭素膜を形成するＤＬＣ膜形成工程と、を有し、下地膜形成工程は、所定の膜厚の下地膜を成膜した後に当該下地膜の一部又は全部を除去する工程を繰り返して被保護体の表面に下地膜を複数回形成する。そして、さらに、ＤＬＣ膜形成工程の前に、ダイアモンド状炭素膜を形成する下地膜の表面上に絶縁層を形成する絶縁層形成工程を有する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、比較的簡単なプロセスにより例えばＩＩＩ−Ｖ族窒化物半導体のようなエッチングが困難な半導体層でも容易にエッチングが可能な半導体エッチング方法を提供することを目的とする。
【解決手段】基体（１，２）の表面に、エッチングマスクの少なくとも一部として、金属フッ化物層３等の固体層を形成する工程と、前記固体層をレジスト組成物等で処理する工程と、前記固体層をマスクとして、前記基体をエッチングする工程とを有することを特徴とするエッチング方法。 （もっと読む）

【課題】アシスト法を用いて成膜される高屈折率層のプラズマによる低屈折率層へのエッチングを阻止して、光学特性の劣化を防止した光学薄膜の形成方法、およびその光学薄膜を備えた光学素子を提供する。
【解決手段】光学基材上に、ＭｇＦ₂より成る低屈折率層とＮｂ₂Ｏ₅より成る高屈折率層との間に、真空蒸着法を用いて形成された酸化物質のＡｌ₂Ｏ₃層を有するＮｂ₂Ｏ₅／ＭｇＦ₂／Ａｌ₂Ｏ₃構造の誘電体多層膜は、Ａｌ₂Ｏ₃層がイオンアシスト法を用いて成膜されるＮｂ₂Ｏ₅層のプラズマによるＭｇＦ₂層へのエッチングを阻止するバリヤ層として機能する。そして、この誘電体多層膜が形成された光学素子は、例えば、光ピックアップの波長４０５ｎｍの青色半導体レーザに対応した偏光ビームスプリッタとして用いられる。 （もっと読む）