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国際特許分類[C23C14/24]の内容

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【課題】 真空蒸着装置で形成させた蒸着膜において、膜厚と蒸着膜の組成を制御するには、供給する蒸着原料量および反応ガス量をより適正に制御する必要がある。
【解決手段】 真空蒸着装置において、金属基板3に蒸着膜を形成すると同時に、第1の透明フィルム基板6と第2の透明フィルム基板9に蒸着膜を形成する。第1の透明フィルム基板6及び第2の透明フィルム基板9の抵抗値と透過率を測定し、蒸着原料22の蒸発量、第1酸素ノズル18および第2酸素ノズル19から供給する酸素ガス量を制御する。 (もっと読む)


【課題】複数の構造異性体が存在する昇華性の有機電子材料から蒸着膜を形成する場合に、蒸着速度が安定した状態で蒸着を行うことが可能で、坩堝に有機電子材料を追加した場合に蒸着レートの調整を従来に比較して短時間で行うことを可能にする。
【解決手段】複数の構造異性体であるmer体及びfac体のうち、高温で他の構造異性体(fac体)より不安定な構造異性体(mer体)を高温で安定な他の構造異性体(fac体)に転化させる安定化処理を行った有機電子材料(Alq3)を用いて蒸着膜を形成する。安定化処理は、複数の構造異性体が存在する有機電子材料を不活性雰囲気(例えば、アルゴンガス雰囲気)で加熱することにより行われる。 (もっと読む)


【課題】従来の透明導電膜に比し、その抵抗率が、実用上、十分に低い透明導電膜を得ることのできる透明導電膜用材料を提供する。
【解決手段】Zn、SnおよびOを主成分として含有する複合金属酸化物であって、さらにドーピング元素として、Sc、Bi、Cu、Y、La、AgおよびAuからなる群より選ばれる1種以上の元素を含有する複合金属酸化物からなる透明導電膜用材料。前記の透明導電膜用材料からなる焼結体。前記焼結体をターゲットとして用いて成膜する透明導電膜の製造方法。前記の透明導電膜用材料からなる透明導電膜。 (もっと読む)


【課題】複雑な外形を有する加工物の全面に所望通りに被覆材料を付着させる装置を提供する。
【解決手段】加工物に真空めっきを施す装置10は、被覆材料を内包し、高温かつ準大気圧で作用しうるめっきチャンバと;めっきチャンバ内および被覆材料上に電子ビームを照射し、被覆材料を溶解させ溶融被覆材料を気化させるよう作用しうる電子ビーム銃と;めっきチャンバ14内における加工物12の支持および操作を行う機構34とを含む。支持機構34は、加工物を保持する結合装置58と;加工物の全方向の移動を可能にする継手と;結合装置58と継手とを接続する中間部材と;加工物を所定の垂直面66内において移動させる装置とをさらに含む。支持機構34は、中間部材に接続し加工物を所定の水平面において移動させる装置92を含みうる。 (もっと読む)


【課題】長穴形状のマスク開口部を複数、梁部を間に挟んで並列させた場合でも、梁部の側面同士の貼り付きを防止することのできる成膜用マスク部材および該成膜用マスク部材の製造方法を提供すること。
【解決手段】成膜用マスク部材10は、ベース基板をなす矩形の支持基板30に、チップ20を複数、取り付けた構成を有しており、チップ20には、成膜パターンに対応する長孔形状のマスク開口部22が複数一定間隔で平行に並列した状態で形成されている。チップ20において、マスク開口部22で挟まれた梁部27の側面27aには、微小な凸部28が形成されている。このため、チップ20の製造工程などにおいて洗浄、乾燥を行なった場合でも、梁部27の側面27a同士が貼り付いて剥がれなくなるという事態を防止することができる。 (もっと読む)


【課題】放出されるプラズマ粒子の純度を高め、不純物の混入を防止し、イオン濃度の制御性を良くした薄膜形成装置とこれを用いたZnO系薄膜を提供する。
【解決手段】中空の放電管1の外側周囲を高周波コイル2で巻き回されており、高周波コイル2の端子は、高周波電源に接続されている。また、放電管1の上部には放出孔4が、下部にはガス導入孔5が形成されている。ガス導入孔5にはガス供給管12が接続され、ここから薄膜構成元素となる気体が供給される。放出孔4と所定の距離を隔てて阻止体3が、放出孔4を遮るように設けられている。薄膜形成時には、中空の放電管1内部からプラズマ粒子が放出されるが、気体元素以外の粒子が阻止体3に阻止され基板へ到達できない。 (もっと読む)


【課題】基板に対する均一な薄膜の形成と蒸着材料の利用効率の向上とを容易に図ることができる蒸着技術を提供する。
【解決手段】蒸着用坩堝10であって、底部11と、側壁部123と、該底部11および該側壁部123の内面によって囲まれ且つ所定軸に沿って形成された孔部Cvとを備え、孔部Cvが、底部11とは反対側に位置する開口部OPと、該孔部Cvの所定軸(例えば軸P)に対して垂直な面における断面積が底部11側から開口部OP側にかけて略一定である第1の領域(例えば下部孔領域12a)と、該孔部Cvの所定軸(例えば軸P)に対して垂直な面における断面積が底部11側から開口部OP側に近づくにつれて増大する第2の領域(例えば上部孔領域13a)とを有する。 (もっと読む)


【課題】蒸着装置の大型化を回避することができ、かつ、蒸着量の調節が容易な坩堝、蒸着装置及び有機EL装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】1つの坩堝5に異なる蒸発材料を収容可能な複数の収容部5d、5eが設けられているので、複数種類の蒸着材料を用いる場合であっても坩堝5を2つ以上設ける必要は無い。このため、2つ以上の坩堝を収容する大型の容器は必要なくなる。また、開口部分7又は開口部分8の少なくとも一部を遮蔽可能であると共に、遮蔽する面積を調節可能なシャッタ部材9が当該開口部分7、8に設けられていることとしたので、複数種類の蒸着材料のそれぞれについて蒸発量の調節が容易になる。これにより、蒸着装置の大型化を回避することができ、かつ、蒸着量の調節が容易な坩堝を得ることができる。 (もっと読む)


【課題】被処理基板に対して複数の蒸着エリアで順次、蒸着を行うインライン式蒸着装置、および成膜方法において、特定の蒸着エリアで成膜される薄膜の膜厚のみを容易かつ確実に調整することのできる構成を提供すること。
【解決手段】インライン式蒸着装置100において成膜を行なった際、各蒸着エリア51〜53で被処理基板20に形成される薄膜の膜厚バランスがずれている場合、被処理基板20の搬送速度、および坩堝45での蒸着材料の加熱温度は変更せずに、蒸気流供給量制御用シャッタ11、12、13のスリット状開口部14の幅寸法を調整する。 (もっと読む)


本発明は、最適化されたハードコートおよび加工対象物を提供するものであり、特にハードコートでコーティングされた切削工具であり、たとえば高速度鋼、チタン合金、ニッケル合金、オーステナイト鋼のような機械加工の困難な材料、特に硬質工具鋼のような硬度が50HRC以上、好ましくは55HRC以上の硬質材料における切削性能を向上させたものである。これは、少なくとも1つの第1の支持層および1つの第2のナノ結晶層を含む耐摩耗性の多層でコーティングされた加工対象物によって達成され、ここで、前記第1の層は、下記のの組成物(TiaAl1-a)N1-x-yxy(ここで0.4<a<0.6,および0<xおよびy<0.3)、または(AlbCr1-b)N1-x-yxy、(ここで0.5<b<0.7,および0<x、およびy<0.3)からなるコーティング剤を含む。前記第2の層は、下記の組成物(Al1-c-d-eCrcSide)N1-x-yxy(ここでMはクロムを除く周期律の4族、5族、6族の遷移金属の中の少なくとも1つの原子を意味し、および0.2<c<0.35、0<d<0.20、0<e<0.04)からなるコーティング剤を含む。 (もっと読む)


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