【課題】原子層堆積法によるガスバリア性に優れたガスバリア膜の作製を効率的で安価に行うことができるガスバリア膜の作製方法及び作製装置を提供する。
【解決手段】例えば図１の装置１０を用い、長尺の基材フィルム２を連続して移動させながら、その基材フィルム２上に原子層堆積法による単原子層積層体からなるガスバリア膜１を作製する。この方法は、基材フィルム２の移動方向に、単原子層形成用の第１原料ガスを供給する第１原料ガス供給ステップ（第１原料ガス供給室６２）と、単原子層形成用の第２原料ガスを供給する第２原料ガス供給ステップ（第２原料ガス供給室６３）と、第１原料ガス及び第２原料ガスが混入するのを防ぐために第１原料ガス供給ステップと第２原料ガス供給ステップとの間に設けられた緩衝ステップ（緩衝室６４）と、を有する少なくとも３種のステップ（処理室）を連続して多数配置してなる原子層堆積工程（原子層堆積装置５３）を有する。 （もっと読む）

【課題】ボートの製造工程で発生した加工屑を有効利用し、ボートの製造に好適なセラミックス焼結体を製造する。
【解決手段】ＴｉＢ_２（二硼化チタン）と、ＢＮ（窒化硼素）と、ＡｌＮ（窒化アルミニウム）と、Ｓｒ（ストロンチウム）化合物と、Ｆｅ（鉄）又はＦｅ化合物と、Ｏ（酸素）を含む原料粉末を成型後、非酸化性雰囲気下、ホットプレス焼結するセラミックス焼結体の製造方法において、上記原料粉末の一部としてセラミックス焼結体の粉砕物を用い、そのセラミックス焼結体の粉砕物の組成が、ＴｉＢ_２が４０〜６０質量％、ＢＮが３０〜５５質量％、ＡｌＮが０．３〜２．０質量％、Ｓｒ化合物が０．３〜３．０質量％、Ｆｅ又はＦｅ化合物が０．５〜８．０質量％及びＯが１．０〜４．０質量％を含み、しかもこれらの成分の合計が９５質量％以上（１００％を含む）であることを特徴とするセラミックス焼結体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 マイクロプラズマの径を可能な限り小さくし、その熱容量を低減させてプラズマジェット照射時の基板のダメージを防ぐと共に、金属等を溶融、蒸発又は気化させ、プラズマジェットと共に噴出させることにより、基板上に微小なサイズの金属等のドット及びラインを形成する。
【解決手段】 マイクロプラズマにより溶融、蒸発又は気化する材料を、低融点基板上にドット状に堆積した直径１〜１００μｍの前記材料のドットを備えていることを特徴とする微小なドットを備えた低融点基板。石英管の中に堆積させるための材料及びプラズマガスを導入すると共に、石英管の外周に誘導コイルを配置し、この誘導コイルに高周波を印加して材料を溶融、蒸発又は気化させ、１００μｍ以下の内径を有する石英管のキャピラリー先端から基板に向かって噴射させることを特徴とする基板上の微小な領域にドット又はラインを形成するマイクロプラズマによる堆積方法。 （もっと読む）

【課題】 同軸型真空アーク蒸発源を備えた坦持装置によって触媒用のナノ粒子を粒子状担体に担持させるに際し、粒子状担体が容器内から外へ飛散しないナノ粒子担持装置、およびナノ粒子担持方法を提供すること。
【解決手段】 カソード電極２２の白金をアーク放電によって粒子状担体であるカーボンブラックＣに蒸着させて担持させるに際し、ナノ粒子担持装置１のアーク放電用コンデンサユニット２８の容量を４４００μＦ以下、アーク放電用直流電源２７の放電電圧を１００Ｖ以下、放電周期を２Ｈｚ以上に設定してカーボンブラックＣのチャージアップを抑制する。更には、同担持装置１の真空チャンバ１１内に設置した熱電子放出機器４１から電子を放出させてカーボンブラックＣのチャージアップを抑制する。 （もっと読む）

【課題】ビアの側面や底面に対する蒸着膜の付き回り性を向上させる。
【解決手段】本発明に係る真空蒸着装置１０は、真空チャンバ１１と、真空チャンバ内に設置された蒸発源１３と、蒸発源に対向して配置されたステージ１５と、ステージを面内で回転させる回転手段１８と、蒸発源に対するステージの設置角度を変化させる角度調整手段１９とを備える。そして、基板Ｗを面内で回転させるとともに、基板の表面に対する蒸発粒子の入射角が連続的に変化するように基板の傾斜角を蒸発源に対して変化させながら、基板の表面に蒸発粒子を堆積させる。これにより、基板の半径位置に関係なく、ビアの側面や底面に対する蒸着膜の付き回り性を高めることができる。また、これに伴って、基板面内において蒸着膜のカバレッジ特性の均一化を図ることができる。 （もっと読む）

【課題】ＲＧＢの発光色ごとに有機ＥＬ素子の発光層を塗り分けるためのパターニング方法として、蒸着マスクを用いた真空蒸着法は表示装置の大型化に向かず、レーザー熱転写法は製造装置のコストが高いという欠点があった。
【解決手段】ガラス基板１２上にストライプ状に形成された第１電極パターン１３と、第１電極パターン１３と交差するようにガラス基板１２上にストライプ状に形成された第２電極パターン１４と、第１電極パターン１３と第２電極パターン１４の交差部に設けられた抵抗加熱層１５とを備える蒸発源１１を用いて、有機材料からなる蒸発材料層２５が形成されたガラス基板１２と素子形成用基板３とを重ね合わせて、第１電極パターン１３と第２電極パターン１４に所定の電圧を印加することにより、それらの交差部に設けられた抵抗加熱層１５に発生するジュール熱で有機材料を昇華させ、素子形成用基３板上に有機膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】複合材料膜中の組成均一性を改善するための成膜方法を提供する。
【解決手段】成膜装置１０は、真空チャンバー１１内に、被蒸着材料としてＳｉ，Ｃｏを個別に格納した第１，第２銅るつぼ１３ａ，１３ｂを備えている。電子銃１６により、Ｓｉ，Ｃｏを個別に加熱し、第１，第２水晶振動子１５ａ，１５ｂおよび制御装置５０により、Ｓｉ，Ｃｏの蒸着量を個別に制御する。真空蒸着前に、真空チャンバー１１の圧力を２×１０^−３Ｐａ以下に減圧してから、Ａｒガスを１×１０^−２〜１×１０^−１Ｐａの圧力範囲で導入する。真空蒸着を行うと、Ａｒガスの存在によって、各粒子の衝突回数が増大するので、Ｓｉ，Ｃｏが十分混合されて、基材シート３１上に、組成均一性の良好なＳｉ−Ｃｏ合金膜３５が形成される。 （もっと読む）

【課題】微細なパターンで精度良く成膜することが可能な蒸着用マスクの製造方法を提供する。
【解決手段】蒸着用マスク１の製造方法は、金属薄膜に、複数の通過孔２０Ａ−１をそれぞれ有する複数のパターン領域２０Ａを設けてマスク本体２０を形成する工程と、マスク本体をスクリーンメッシュ３０の中央部に取り付けてコンビネーションマスクを形成する工程と、コンビネーションマスクのマスク本体２０の周囲に応力緩和領域４０を形成したのち、スクリーンメッシュ３０を引っ張りつつ、マスク本体２０の周縁部を、開口１０Ａを有する枠体に対して固着させる張設工程とを含むものである。スクリーンメッシュ３０を引っ張ることで、マスク本体２０に所定の張力が付加され、しわや弛みが生じにくくなる。このとき、スクリーンメッシュ３０に応力緩和領域４０が形成されていることで、パターン領域２０Ａにおける歪みの発生が抑制される。 （もっと読む）

【課題】極めて安価な部材を追加するだけで低コストに、基板上に形成する薄膜の膜厚の均一性を向上させることができ、しかも有機材料の蒸着のためだけでなく高温工程が必要な無機材料の蒸着のためにも使用できる分子線源セルを提供する。
【解決手段】被蒸着基板に対向する開口部１ａを有する坩堝１と、坩堝１内に充填される分子線材料を加熱し蒸発させて開口部１ａから分子線を放出させるためのヒータとを備えており、坩堝１の開口部１ａにはキャップ２が配置されており、キャップ２は、その全体が開口部１ａの中心軸Ａ方向に約６ｍｍ以上の厚みを有するように形成されており、且つ、その内部には、キャップの底部２ｃの略中心から坩堝１の開口部１ａの外周又はその近傍へ延びる複数の絞り穴２ａであって、開口部１ａの中心軸Ａに対して約１５〜６０度の範囲内で傾斜する複数の絞り穴２ａが、略放射状に形成されている。 （もっと読む）

【課題】均質で耐食性に優れた被膜特性が得られ、成膜効率および再現性に優れ、かつ長寿命のスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】Ｃｒを４５原子％以上含有し、Ａｌを１〜５０原子％の範囲で含有し、かつＴｉ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｖ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｗ，Ｍｏ，Ｂから選択される少なくとも１種類の元素を１〜５０原子％の範囲で含有するスパッタリングターゲットであって、このスパッタリングターゲットの、２００μｍ四方の組織領域をＸ線マイクロアナライザーにより加速電圧１５ｋＶでＣｒ元素のマッピングを実施したときに、カウント数が６００以上であるＣｒの偏析部の直径が５０μｍ以下であることを特徴とするスパッタリングターゲットである。 （もっと読む）