【課題】微細なパターンで精度良く成膜することが可能な蒸着用マスクの製造方法を提供する。
【解決手段】蒸着用マスク１の製造方法は、金属薄膜に、複数の通過孔２０Ａ−１をそれぞれ有する複数のパターン領域２０Ａを設けてマスク本体２０を形成する工程と、マスク本体をスクリーンメッシュ３０の中央部に取り付けてコンビネーションマスクを形成する工程と、コンビネーションマスクのマスク本体２０の周囲に応力緩和領域４０を形成したのち、スクリーンメッシュ３０を引っ張りつつ、マスク本体２０の周縁部を、開口１０Ａを有する枠体に対して固着させる張設工程とを含むものである。スクリーンメッシュ３０を引っ張ることで、マスク本体２０に所定の張力が付加され、しわや弛みが生じにくくなる。このとき、スクリーンメッシュ３０に応力緩和領域４０が形成されていることで、パターン領域２０Ａにおける歪みの発生が抑制される。 （もっと読む）

【課題】蒸着材料の補給後の連続使用を行っても、被蒸着物に成膜された蒸着材料の物性が変化することを防止する。
【解決手段】少なくとも、ルツボと蒸着材料と電子ビーム発生源で構成される蒸着源と、被蒸着物間を遮蔽する遮蔽用シャッターを有する成膜装置であって、成膜終了後、成膜装置内に被蒸着物が無い状態にて所定量蒸着材料の蒸発を再度行うことを特徴とする成膜装置とする。 （もっと読む）

イオン液体を真空に暴露後に、真空中または保護雰囲気中でイオン液体から基板上に物質を電着または無電解沈着するための方法並びに生成される物質。本発明に従うと、イオン液体を真空に暴露後に、真空中または保護雰囲気中で、望ましくない成分を含まない緻密な層を生成することができる。 （もっと読む）

【課題】基板を、金属等の材料で被覆する場合、該基板上に既に堆積されている層、特に、有機材料からなる層で、プラズマ放射等の蒸発プロセスの副作用によるダメージを受けないるつぼ及びその蒸発装置を提供する。
【解決手段】蒸発装置用るつぼであって、ある長さと、ある幅とある厚さを有し、蒸発させるべき材料を収容して蒸発させる蒸発側と、該蒸発側の裏に配設された裏側とを備え、該蒸発側及び裏側の各々が、非平坦面を有する。 （もっと読む）

【課題】溶着性の高い被削材の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐ピッチング性と耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】炭化タングステン基超硬合金または炭窒化チタン基サーメットからなる工具基体の表面に、（ａ）下部層として、組成式：（Ａｌ_１−ＸＣｒ_Ｘ）Ｎ_Ｙにおいて０．２≦Ｘ≦０．４、０．９≦Ｙ≦１（Ｘ、Ｙは原子比）を満足する均一組成のＡｌとＣｒの複合窒化物層、（ｂ）上部層として、組成式：（Ａｌ_１−ＸＣｒ_Ｘ）Ｎ_Ｙにおいて０．２≦Ｘ≦０．４、０．５≦Ｙ＜１（Ｘ、Ｙは原子比）を満足する平均組成を有し、かつ、上部層表面におけるＹ値が、０≦Ｙ≦０．３５を満足する組成傾斜型のＡｌとＣｒの複合窒化物層、を蒸着形成する。 （もっと読む）

粒子状材料を受け取って気化させるための気化装置であって、粒子状材料の受け入れに適した空隙を規定するリガンドからなる網状材料構造を持ち、その空隙が網状材料構造の体積の85％超を占めることで、粒子状材料をその空隙に供給するのが容易になるとともに、気化した材料がその空隙から広がるのが容易になっている構成のヒーター（30）と；リガンドによって熱を発生させるか伝えることで、空隙の中にある粒子状材料を気化させてその空隙の中を移動させる熱発生手段とを備える気化装置。
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【課題】生産性が高く、緻密で密着性がよく、ガスバリア性の高いガスバリア膜を成膜できるイオンプレーティング用蒸発源材料の原料粉末等を提供する。また、イオンプレーティング法に適した蒸発源材料及びその製造方法、並びにガスバリア性シート及びその製造方法を提供する。
【解決手段】平均粒径が５μｍ以下の酸化ケイ素と、平均粒径が５μｍ以下であり屈折率が１．８以上である高屈折率材料とを有し、高屈折率材料の含有量が、酸化ケイ素１００重量部に対して、５重量部以上５０重量部以下である原料粉末により、上記課題を解決する。この原料粉末は、酸化ケイ素の比表面積が６００ｍ^２／ｇ以上であることが好ましい。本発明のイオンプレーティング用蒸発源材料は、上記原料粉末を焼結又は造粒させて平均粒径が２ｍｍ以上の塊状粒子又は塊状物に加工したものである。 （もっと読む）

【課題】高温でも信頼に足る長期的な動作を可能とする。
【解決手段】蒸発物特に高温溶融蒸発物の蒸発に適合した蒸発器セル１００は、蒸発物を受けるための坩堝１０であって、前記坩堝が、坩堝底部１１と、坩堝１０の軸方向に延びている側壁１２と、坩堝開口部１３と、を有する坩堝１０と、加熱抵抗器２１を有する加熱装置２０であって、加熱抵抗器２１が、坩堝１０の外側面上に配置されると共に坩堝１０に沿って軸方向に延びる複数の加熱ゾーン２１．１，２１．２を備えている加熱装置２０と、を備える。加熱ゾーン２１．１，２１．２は、坩堝１０の多面的な抵抗加熱及び／又は電子ビーム加熱のために備えられている。加熱電流がすべての加熱ゾーン２１．１，２１．２にわたって並列に同じ向きに、例えば抵抗スリーブによって形成される加熱抵抗器２１を流れるように、加熱ゾーン２１．１，２１．２が構成される。 （もっと読む）

【課題】可撓性基板を用いてパターン形成する場合に、高精度にパターニングを行うことができる蒸着装置及び蒸着方法並びにその方法を用いてパターン形成した層を有する電子素子及び有機エレクトロルミネッセンス素子を提供する。
【解決手段】真空槽１２と、蒸着材料を収容して蒸発させる容器３０と、基板保持手段１６，１８と、マスク保持手段２８と、基板保持手段により保持された可撓性基板３６とマスク保持手段により保持されたマスク４０のそれぞれのアライメントマーク３８，４４の位置を測定する位置測定手段３２ａ，３２ｂと、位置測定手段による測定に基づき、基板保持手段により可撓性基板を延伸させてマスクとの位置合わせを行う位置制御手段３４と、を有することを特徴とする蒸着装置１０。可撓性基板を所定の方向に所定の量で延伸させてマスクとの位置合わせを行った後、マスクを介して蒸着材料を所定のパターンに蒸着させる。 （もっと読む）

本発明は、乾式真空蒸着を用いた多層薄膜の製造方法に関し、特に、携帯電話、ＭＰ３プレイヤー、携帯型マルチメディアプレイヤー（ＰＭＰ）、デジタルマルチメディア放送（ＤＭＢ）受信機、カーナビゲーションシステム、ノート型パソンコンなどの携帯用電子製品及びディスプレイ製品などのケース、ウィンドウ、キーパッド、ファンクションキー部品、様々なアクセサリー部品などに光学的美麗感と高級感を与えることができる、安定且つ簡単な乾式真空蒸着を用いた多層薄膜の製造方法に関するものである。
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