【課題】成膜中の基板の熱変形による蒸着パターンの位置ズレやエッジのボケを防ぐ。
【解決手段】複数の蒸発源２を有する蒸着源に対して基板５を矢印で示すように相対移動させながら成膜する蒸着装置において、基板５の中央領域の成膜を行う蒸発源２ａを、端部領域の成膜を行う蒸発源２ｂより下流側に配置する。基板５の端部領域の成膜を先行させ、基板５の中央領域の成膜を最後に行うことで、成膜中の基板端部における熱変形を低減する。 （もっと読む）

【課題】あらかじめ決められた化合物、たとえば蛍光体の薄膜を基板上に成膜する方法。
【解決手段】その化合物は、３元、４元またはより高次の化合物、特に周期表のグループIIAおよびIIBの少なくとも１つの元素のチオアルミン酸塩、チオ没食子酸塩およびチオインデートからなるグループから選ばれた化合物である。実施例において、この方法は、少なくとも１つの硫化物のペレットを第１のソースの上に置き、少なくとも１つの硫化物のペレットを第２のソースの上に置き、１つのペレットに不純物が含まれているものである。基板への蒸着は各々別の電子ビームを使って実施する。硫化物の蒸発率は各々別に遮断された膜率モニタで監視する。基板上に化合物を生成するためにソースの温度を制御する。この方法は、とくにエレクトロルミネセントディスプレイにおいて、ほぼ不透明の基板上に３元または４元の蛍光体を成膜するために使用される。 （もっと読む）

【課題】被成膜基板に高精度に成膜することができるマスク、マスクの製造方法、電気光学装置の製造方法を提供する。
【解決手段】蒸着マスク２０は、マスク基体２２と、マスク基体２２上に形成されたドライフィルム２３とを有する。マスク基体２２は、シリコン又はシリコン化合物からなる。蒸着マスク２０の製造方法は、まず、マスク基体２２をＭＥＭＳ加工により形成する。次に、開口孔２１ａを有するマスク基体２２上に、熱転写法を用いてドライフィルム２３を転写する。マスク基体２２がシリコンからなるので、熱転写によってマスク基体２２に熱が加わったとしてもマスク基体２２が伸縮（変形）することを抑えることができる。その結果、マスク基体２２にドライフィルム２３を安定した状態で転写させることが可能となり、開口孔２１ｂの形状が変形したり開口孔２１ｂの位置がずれたりすることを抑えることができる。 （もっと読む）

【課題】真空蒸着室内への有機物の着膜を防止すること。
【解決手段】有機ＥＬディスプレイパネル製造装置は、真空蒸着室９内で蒸着源８から発した有機材料を有機ＥＬディスプレイパネルに用いられる基板３に蒸着させるようになっている。そして、有機ＥＬディスプレイパネル製造装置は、基板３を保持する基板トレイ１と、基板トレイ１の蒸着源の側に突設された防着部材２と、を備えている。有機ＥＬディスプレイパネル製造時における真空蒸着室への着膜を著しく低減することができる。 （もっと読む）

【課題】表示素子を構成する薄膜の膜厚分布を定常的に安定化し、表示品位良好な表示装置を製造することが可能な製造装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 一対の電極間に有機活性層を保持した構成の表示素子を備えた表示装置を製造する製造装置であって、
処理基板ＳＵＢに向けて表示素子を構成する薄膜を形成するための材料源を放射する蒸着源４１０と、
処理基板ＳＵＢと蒸着源４１０との間に配置され、蒸着源４１０からの材料源の処理基板ＳＵＢへの蒸着量を制御するシャッター４５０と、
シャッター４５０の蒸着源側に接触するように配置され、シャッター４５０への材料源の付着を防止する防着板４６０と、を備え、
シャッター４５０は、防着板側の熱吸収率が処理基板側よりも高いことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】重切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐欠損性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】表面被覆切削工具の表面研磨面の法線に対して、｛１００｝面の法線がなす傾斜角を測定して作成した傾斜角度数分布グラフにおいて、３０〜４０度の傾斜角区分に最高ピークが存在し、その度数合計が、全体の６０％以上であり、また、表面研磨面の法線に対して、｛１１２｝面の法線がなす傾斜角を測定して作成した構成原子共有格子点分布グラフにおいて、Σ３に最高ピークが存在し、その分布割合が全体の５０％以上である（Ａｌ_１−ＸＣｒ_Ｘ）Ｎ（Ｘ＝０．３〜０．６）層からなる硬質被覆層を備えた表面被覆切削工具。 （もっと読む）

本発明は、カルコゲンについて、特に100 nm〜10 mmの範囲内のカルコゲンの薄い層、またはこれらの材料の混合物を、平面基板上に適用するための非常に速くそして費用効率が高いコーティング方法およびまた、その方法を実施ために適した装置も提供することを意図する。これは、蒸着ヘッド(11)において流入側および流出側ガスカーテンを形成して輸送流路(6)を酸素の漏れないように密閉し、不活性ガスを輸送流路(6)の中に導入して大気酸素を置換し、基板(3)をプロセスチャンバー(1)の輸送流路(6)の中に導入し、源からのカルコゲン蒸気/搬送ガス混合物を、蒸着ヘッドの輸送流路(6)の中の基板(3)より上に導入しそしてPVDを用いて基板の上にセレン層を形成することによって達成される。
（もっと読む）

【課題】複数本の配管を用いて蒸着材料の流量を制御し、高精度な膜厚制御を行う。
【解決手段】基板２に有機化合物膜等を成膜する蒸着方法において、蒸着材料６を充填した材料収容部７を加熱することによって、蒸着材料を蒸発又は昇華させ、材料収容部７に連結された複数本の配管８，９を通して、真空チャンバー１の成膜空間に放出する。蒸着材料の真空チャンバー１内への放出量を調整する流量調整機構１０は、コンダクタンスの異なる配管８，９のうちのコンダクタンスの小さい配管９に設けられ、成膜速度を微細に調整することができる。 （もっと読む）

【課題】従来の表面被覆層よりも耐摩耗性に優れると共に摩擦係数が低くて摺動性に優れる硬質皮膜、硬質皮膜被覆材および冷間塑性加工用金型ならびに硬質皮膜の形成方法を提供する。
【解決手段】（Ｎｂ_x Ｍ_1-x ）_y （Ｂ_a Ｃ_b Ｎ_1-a-b ）_1-y からなる硬質皮膜であって下記式(1) 〜(5) を満たすことを特徴とする硬質皮膜等〔但し、上記Ｍは４ａ、５ａ、６ａ族の元素、Ｓｉ、Ａｌの１種以上であり、下記式において、ｘはＮｂの原子比、１−ｘはＭの原子比、ａはＢの原子比、ｂはＣの原子比、１−ａ−ｂはＮの原子比を示し、ｙは（Ｎｂ_x Ｍ_1-x ）の比、１−ｙは（Ｂ_a Ｃ_b Ｎ_1-a-b ）の比を示すものである。〕 ０．２≦ｘ≦１．０--式(1) 、０≦ａ≦０．３--式(2) 、０≦１−ａ−ｂ≦０．５--式(3) 、 ０．５≦ｂ≦１--式(4) 、０．４≦１−ｙ≦０．９--式(5) 。 （もっと読む）

【課題】基板上にアモルファスセレンを主成分とする材料を真空蒸着させてなる蒸着層を有してなる放射線画像検出器の製造方法において、蒸着層の蒸着中に突沸が発生した場合でもその影響を低減させる。
【解決手段】膜の厚さが１００μｍ以上、２０００μｍ以下と比較的厚い記録用光導電層の蒸着時において、突沸の影響が大きく表れる蒸着時間の前半部で基板の温度を通常蒸着時温度よりも上昇させることにより、アモルファスセレンの結晶化を防止しつつ蒸着層の表面をなだらかにさせる。 （もっと読む）