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国際特許分類[C23C16/27]の内容

国際特許分類[C23C16/27]に分類される特許

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【課題】容易かつ高精度に膜硬度を計測する膜硬度計測方法及び成膜装置を提供する。
【解決手段】QMS20により、放電中のプラズマにおけるイオン種を計測し、計測された電流値からH=1、C=12という事実を用いてイオン種の質量と定義し、この質量を、水素流量比0、パルス周波数20kHzという条件での値で除することでイオン種の総質量比として算出した。上記水素流量比及びパルス周波数の条件下でDLC膜が生成されると、チャンバ11内を大気圧に戻し、この生成されたDLC膜に対して、ラマン分光分析装置30によりレーザー光を照射し、散乱したラマン散乱光を検出することで生成膜中の規則性六員環の多さを示すDピークとGピークの積分強度比ID/IGを算出した。生成された各々のDLC膜の硬度を、QMS20により算出されたイオン種の総質量比と、ラマン分光分析装置30により算出された積分強度比と、に基づいて計測した。 (もっと読む)


【課題】集束イオンビームを用いて作製したダイアモンドライクカーボンによる微小構造体で、ピエゾ抵抗特性が得られるようにする。
【解決手段】基板の上に原料ガスを供給した状態で集束イオンビームを照射し、集束イオンビームの照射箇所にダイアモンドライクカーボンからなる微小構造体を形成する(ステップS101)。次に、形成した微小構造体を加熱して微小構造体より集束イオンビームのイオンを除去して微小構造体にピエゾ抵抗特性を発現させる(ステップS102)。 (もっと読む)


【課題】生産コストを低くできるプラズマ処理装置及び基材の表面処理方法を提供する。
【解決手段】本発明に係るプラズマ処理装置は、チャンバー1と、前記チャンバー内に配置され、基材2を保持する基材ホルダー3と、前記チャンバー1に繋げられ、前記チャンバー内に処理ガスを導入するガス導入経路と、前記チャンバー内に50〜500kHzの高周波出力を供給する高周波電源4と、を具備し、前記高周波電源4から供給された高周波出力により前記チャンバー内に前記処理ガスのプラズマを発生させて前記基材2にプラズマ処理を行うことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 抗菌処理が必要な時にダイヤモンドライクカーボン膜を衛生装身材にコーティングすることができる。
【解決手段】 インナ電極13の表面に立体マスク35を装着支持し、導入管23及び導入ガイド21を介して処理ガスを供給すると共に、電源装置26により治具11を介してインナ電極13に負電圧を印加し、アウタ電極22との対向部位に炭素を含むプラズマ雰囲気を形成し、立体マスク35にダイヤモンドライクカーボンを成膜し、抗菌処理が必要な時に容易に抗菌処理を施す。 (もっと読む)


【課題】フィラー同士が互いに接触する確率が高く、重なり合うこともないフィラーとして、どのような母材の場合でも用いることができるダイヤモンドフレークの製造方法と、そのダイヤモンドフレークを含有した伝熱性強化材を提供する。
【解決手段】石英基板3の表面に、ダイヤモンド粉末を用いてダイヤモド核発生促進処理を施した後、700〜1000℃でCVD法により厚さ0.5〜5μmのダイヤモンド被膜2を成膜し、次いで、冷却を施してダイヤモンド被膜2に亀裂4を発生させ、ダイヤモンド被膜2を石英基板3から剥離させることで、薄片状で反りを有するダイヤモンドフレーク1を得る。 (もっと読む)


【課題】保護膜として機能し得る硬度と高い可視光透過性とを兼ね備えたDLC膜を樹脂基材上に有するDLC膜付基材の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の製造方法は、RF電源16を用いた平行平板型プラズマCVDによりCHとHとの混合ガスからDLC膜を形成する工程を包含する。この工程では、上記プラズマCVDを、(a)上記混合ガスのHガス分圧をCHガス分圧の0.8倍以上とする;(b)上記混合ガスの合計圧力を20Pa〜40Paとする;および(c)RF電源16のパワーを15W〜20W/225πcmとする;を満たすように行うことにより、(A)膜厚200nmのとき、波長400nmにおける光透過率が70%以上;および、(B)硬度が5GPa以上;を満たすDLC膜を樹脂基材3上に形成する。 (もっと読む)


【課題】アルミニウム合金やグラファイト、CFRP材等の難削材の切削加工において、密着性にすぐれ、長期の使用に亘ってすぐれた耐摩耗性を発揮するダイヤモンド被覆切削工具を提供する。
【解決手段】 炭化タングステン基超硬合金または炭窒化チタン基サーメットで構成された工具基体表面に5〜30μmの膜厚のダイヤモンド皮膜が被覆されたダイヤモンド被覆切削工具であって、上記工具基体とダイヤモンド皮膜の界面部のダイヤモンド皮膜側には、平均粒径5〜200nmのCo粒子が析出し、Co粒子の含有割合は0.1〜20原子%である。 (もっと読む)


【課題】従来よりも小型軽量化または省エネルギー化を図れる排気ガス制御装置を提供する。
【解決手段】
本発明の排気ガス制御装置(3)は、燃焼機関の排気ガスの経路に配設され排気ガスの流れを制御する制御弁(24)と、この制御弁と一体的に可動する可動軸(27)と、可動軸を摺動させつつ支承し可動軸の摺動面に摺接する摺受面を有する軸受(34、39)とを備える。前記摺動面または前記摺受面の少なくとも一方は、Si、Hおよび残部であるCからなる非晶質炭素膜(DLC−Si膜)を有し、このDLC−Si膜は付着する界面に臨む臨界部とこの臨界部に連なり表面側へ延びる表面部とからなる。その表面部はSi濃度が8〜30原子%である部分を有し、臨界部は表面部よりもSi濃度が低い。このようなDLC−Si膜が摺動部に存在することで、常温域および高温域における摩擦係数を長期にわたり低減できる。 (もっと読む)


【課題】昇華法による高品質のSiC結晶の製造方法、製造装置および積層膜を提供する。
【解決手段】昇華法によるSiC結晶の製造装置100において、種結晶11の裏面11b上に、カーボン硬質膜、ダイヤモンド膜、タンタル膜および炭化タンタル膜からなる群より選ばれた少なくとも一種の膜12を形成し、前記種結晶11の表面11a上に結晶13を成長させることにより、膜12と、種結晶11と、結晶13とを備えた積層膜を形成する。前記積層膜は、膜形成時に隙間が発生しにくく、かつ熱が加えられても熱分解しにくい膜12を備えているため、種結晶11においてこの膜12と反対側に形成された結晶13は、種結晶11の昇華を抑制して製造されたものとなるので、高品質の結晶13を備えた積層膜を得ることができる。 (もっと読む)


鋳鉄または鋼で作製されているのが好ましいスライド要素、とりわけピストンリングは、CrN層(14)およびa−C:H:Me層(16)が交互に重なり合った多重層を有するコーティングを備える。鋳鉄または鋼で作製されているのが好ましいスライド要素、とりわけピストンリングをコーティングするための方法では、複数のCrN層とa−C:H:Me層が交互に設けられる。 (もっと読む)


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