【課題】カドミウムを含有する銅合金を再利用して銅合金製配管器材を設けることができ、この銅合金製配管器材からのカドミウムの溶出を抑制するバルブ・管継手等の銅合金製配管器材のカドミウム溶出防止方法及びその銅合金製配管器材を提供する。
【解決手段】カドミウムが固溶した銅合金製配管器材の接液部を、カドミウムより貴な金属であるニッケルを含有する硝酸ニッケルからなる金属塩水溶液内に浸漬処理させ、前記金属塩水溶液内の貴な金属であるニッケルイオンと前記接液部表層のカドミウムを置換させて前記接液部表層からのカドミウムの溶出量を減らすことにより接液部表層のカドミウムの溶出を抑制したことを特徴とする銅合金製配管器材のカドミウム溶出防止方法である。 （もっと読む）

【課題】表面処理されたワークを簡単な作動で回収できるワーク回収装置を、提供すること。
【解決手段】処理容器９を載せる受板５１と、受板５１上の処理容器９を上方から覆うホッパ５２と、処理容器９を覆ったホッパ５２を受板５１及び処理容器９と共に上下反転させる反転機構５３と、を備えており、上下反転された処理容器９内に、ホッパ５２に設けられた噴出部から水を吹きかけて、処理容器９内のワークを、ホッパ５２内へ洗い出してホッパ５２から回収槽５４へ排出させて捕集するよう、構成されていることを特徴とするワーク回収装置である。 （もっと読む）

【課題】簡単かつ精度良く、無電解ニッケルめっき液中の硫黄系化合物の濃度を測定し、その濃度を管理する方法およびその管理するシステムを提供する。
【解決手段】濃度管理システム１は、無電解ニッケルめっき液Ｌに接触する少なくとも表面が、金、銀、または白金からなる作用電極４１、対極４２、参照電極４３、参照電極４３に対する作用電極４１の電位を制御する電圧制御装置４４、及び対極４２と作用電極４３との間に流れる電流を測定する電流計４５を備え、無電解ニッケルめっき液中の参照電極４３に対する作用電極４１の電位に応じて、作用電極４１と対極に流れる電流Ｉを電流計で測定する電気化学測定装置４と、電流Ｉに基づいて、硫黄系化合物の濃度を算出し、無電解ニッケルめっき浴２内の硫黄系化合物の濃度を調整する制御信号Ｓを出力する制御装置５と、制御信号Ｓに基づいて無電解ニッケルめっき浴２内の硫黄系化合物の濃度を調整する調整装置６と、備える。 （もっと読む）

【課題】配線及び絶縁膜へダメージを与えることなく、絶縁膜上の導電性の不純物によるめっきの異常成長を抑制することができる表面被覆方法、並びに該方法を用いて製造される半導体装置、及び実装回路基板の提供。
【解決手段】水溶性樹脂、有機溶剤、及び水を含有する表面被覆材料を、表面に露出した絶縁膜及び表面に露出したパターニングされた金属配線を有する積層体の少なくとも前記絶縁膜の表面を覆うように塗布し、前記絶縁膜の表面に被膜を形成する表面被覆方法である。 （もっと読む）

【課題】めっき液中の溶存酸素および溶存水素が効率的に除去されるめっき処理装置を提供する。
【解決手段】めっき処理装置２０は、基板２を回転保持する基板回転保持機構１１０と、基板２にめっき液３５を供給するめっき液供給機構３０と、を備えている。このうちめっき液供給機構３０は、基板２に供給されるめっき液３５を貯留する供給タンク３１と、めっき液３５を基板２に吐出する吐出ノズル３２と、供給タンク３１のめっき液３５を吐出ノズル３２へ供給するめっき液供給管３３と、を有している。また供給タンク３１には、供給タンク３１に接続され、供給タンク３１に貯留されためっき液３５中の溶存酸素および溶存水素を除去する供給タンク用脱気手段３４が設けられている。 （もっと読む）

【課題】保持体の回転により被処理物の全ての箇所が処理液に浸漬でき、被処理物の全領域で均一な処理が可能で、被処理物の全領域を製品として使用可能とすることができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】ウエハ５を処理するための処理液４を貯留する処理槽１と、ウエハ５の中心から最外位置までの距離より大きい半径を有する円の円周上位置においてウエハ５を把持することなく保持してウエハ５を処理液４に浸漬する保持体３０と、円周の中心を回転中心として保持体３０を回転させる回転手段１０１とを備える。 （もっと読む）

【課題】優れた強度、靱性及び硬度を有し、かつ、密着性及び光輝性に優れためっきが施されたアルミニウム合金鋳物を提供する。また、そのようなアルミニウム合金鋳物の製造方法を提供する。
【解決手段】無電解ニッケルめっき層を有するアルミニウム合金鋳物であって、該アルミニウム合金が、Ｍｇ：１．５〜５．５重量％、Ｚｎ：１．６〜５．０重量％、Ｓｉ：０．４重量％以下、Ｆｅ：０．４重量％以下、Ｃｕ：０．４重量％以下、Ｔｉ：０．２重量％以下、Ｂ：０．１重量％以下及びＢｅ：０．１重量％以下を含有し、残部がＡｌ及び不可避不純物からなり、電解研磨された前記鋳物の表面に、ジンケート処理層を有し、さらに、その上に前記無電解ニッケルめっき層を有することを特徴とする、めっきが施されたアルミニウム合金鋳物とする。 （もっと読む）

【課題】無電解スズめっき液から不純物、特に銅濃度を減少させることにより、めっき液を再生する方法、めっき液の管理方法、及びこれを用いためっき方法を提供する。
【解決手段】チオ尿素又はチオ尿素化合物を含有する無電解スズめっき液を用いて銅又は銅合金に無電解スズめっきを行った後、前記無電解スズめっき液にベンゼンスルホン酸もしくはベンゼンスルホン酸水和物又はこれらの塩を添加して析出物を生成させることにより、めっき液中から不純物を除去する。 （もっと読む）

【課題】無電解スズめっき液から不純物、特に銅濃度を減少させることにより、めっき液を再生する方法、めっき液の管理方法、及びこれを用いためっき方法を提供する。
【解決手段】チオ尿素又はチオ尿素化合物を含有する無電解スズめっき液に有機スルホン酸もしくは有機スルホン酸化合物又はこれらの塩を添加し、添加後のめっき液を冷却して析出物を生成させることにより、めっき液中から不純物を除去する。 （もっと読む）

【課題】 良好な膜質のめっき皮膜を形成することができる無電解めっき装置を提供すること。
【解決手段】 基板Ｗを支持する基板支持部４６と、基板Ｗの表面に供給されるめっき液を貯留するめっき液貯留部と、めっき液貯留部からのめっき液を、基板支持部４６に支持された基板Ｗの表面に向けて供給するめっき液供給管と、めっき液供給管に設けられ、めっき液を基板Ｗの表面に吐出するめっき液吐出ノズルと、基板支持部４６に支持された基板Ｗの裏面側に設けられ、基板Ｗの温度を制御するための基板温度制御部材４８´と、基板温度制御部材４８´と基板Ｗとの間に相対的な昇降移動を生じさせる移動機構とを具備し、基板温度制御部材４８´は、移動機構により基板Ｗとの間の距離を調節することによって基板Ｗの温度を制御するように構成されている。 （もっと読む）