【課題】メッキムラが生じることがなく、簡単かつ安価にメッキ処理を施すことができる搬送機構、および、この搬送機構を用いたメッキ処理装置を提供する。
【解決手段】棒状部材Ａを保持する搬送機構１は、棒状部材Ａを保持するクランプ部材１８と、クランプ部材１８の外周に形成したピニオンと、ピニオンに噛み合うとともに、棒状部材Ａの軸線と直交する方向に移動可能なラック２０と、棒状部材Ａに通電する通電部１３とを備える。一方、メッキ処理槽には、搬送機構１の通電部１３に接触するカソード電極部と、搬送機構１の移動方向に沿うとともに当該搬送機構１の両側に位置する一対のアノード電極部と、搬送機構１がメッキ処理槽内を移動する過程でラック２０を移動させる回転移動体を備えるとともに、この回転移動体によってラック２０を移動させて棒状部材Ａを回転させる。 （もっと読む）

【課題】 設置スペースを小さくすることができ、しかも表面処理に要する時間を短くすることができる表面処理装置および表面処理方法を提供する。
【解決手段】 四辺を囲うフレーム２ａ〜２ｄ内に複数の被処理部材Ａを保持して移動する搬送機構１と、この搬送機構が搬送する被処理部材Ａの表面に処理を施す一または複数の表面処理槽２３，２９，３２と、この表面処理槽への搬送過程または表面処理槽における表面処理後の搬送過程に設けるとともに、被処理部材Ａの表面に付着した水分を除去する水分除去機構２５とを備え、上記水分除去機構２５は、フレーム２ａ〜２ｄを両面から挟持して囲繞空間を形成するとともに、当該囲繞空間を吸引したり、あるいは囲繞空間内の被処理部材Ａにエアを供給したりする。 （もっと読む）

【課題】１対の液絞りローラの挟持部の押し圧を容易に調整することができる軸受体及び液切り装置を提供する。
【解決手段】１対の液絞りローラ２０２の軸２０４をそれぞれ支持する軸受体２１４が保持部材２１２の軸受凹部２１２Ａに装着されている。軸受体２１４は、矩形状の板体に軸２０４が挿入される軸孔２２４を備えており、板体の４辺の端面と軸孔２２４の中心までの長さがそれぞれ異なる値に設定されている。軸受体２１４には、板体の３辺の縁部に異なる色の表示部２１４Ａ、２１４Ｂ、２１４Ｃが形成されており、各辺の端面と軸孔２２４の中心までの長さを識別できるようになっている。軸受体２１４の４辺の位置を変えて軸受凹部２１２Ａに装着することで、１対の液絞りローラ２０２の挟持部の押し圧を容易に変更することができる。 （もっと読む）

【課題】生産性向上と設備の小型化を図ったメッキ処理システムの提供。
【解決手段】メッキ処理システムは、前処理用タンク３と、メッキ処理用タンクと、後処理用タンクとを有する。タンク３は、それらタンクの上方に設けられ、被表面処理部材２を搬送する搬送手段７，１１と、搬送手段７，１１によってタンク上方に搬送された被表面処理部材２を囲繞するとともに各タンクに貯留されている処理液のタンク内における流通を許容するように下部が開放され、当該下部をタンクの処理液中に没した状態で前記各タンクに設置されている被表面処理部材囲繞手段６と、この囲繞手段６の中空部に各タンクから当該タンクに貯留されている処理液を供給するポンプ手段とを備える。囲繞手段６によって被表面処理部材２が囲繞されると、ポンプ手段により、囲繞手段６の中空部を処理液で充填する。 （もっと読む）

【課題】電子部品に均一にめっきを施すことができ、電子部品に傷が付くのを防止することが可能なめっき装置を提供する。
【解決手段】めっき槽内でめっき治具１２を保持し且つ電極を有する保持体１３と、保持体１３の下方から上向きにめっき液４５の噴流４６を形成する噴流形成装置とが備えられ、保持体１３が噴流形成装置に対して左右方向Ａへ揺動自在である。めっき治具１２は、上下一対の外板体２６，２７と、外板体２６，２７の対向面側に設けられた一対の導電性メッシュ２８，２９と、一対の導電性メッシュ２８，２９間に形成された複数の収納空間３０と、隣接する収納空間３０を仕切る仕切板３１とを有し、下部の外板体２７に形成された複数の噴流流入孔３４から下部の導電性メッシュ２９を通って各収納空間３０に達する噴流流路が形成されている。 （もっと読む）

【解決手段】図（ｃ）に示すように、パレット１２に載ったままの円筒部材１１に、めっき液噴射管１７を上から挿入し、このめっき液噴射管１７から噴射しためっき液で円筒部材１１の内部をめっき処理する。用済みのめっき液は、下部排液路１５を介して下へ排出すると共に、上部排液路１８を介して上へ排出する。
【効果】めっき処理中に噴射後のめっき液は上と下とに排出される。この結果、円筒部材１１の上部と下部のめっき膜厚は、同一になる。また、めっき処理後は、下部開口閉塞部材１４の上面からめっき液を抜くため、排出中のめっき液がパレット１２やシリンダブロックのスカート２２に付着する心配が無く、めっき液の無駄使いを防止することができる。 （もっと読む）

【課題】操作が容易であり、かつ、生産性が高いメッキ装置を提供する。
【解決手段】このメッキ装置１０は、半導体ウエハＷの処理面にメッキを施すためのメッキ処理ユニット２０ａ〜２０ｄと、半導体ウエハＷの両面を洗浄できる洗浄ユニット２２ａ，２２ｂと、メッキ処理ユニット２０ａ〜２０ｄでメッキが施された半導体ウエハＷを洗浄ユニット２２ａ，２２ｂへ搬送する搬送ロボットＴＲと、メッキ処理ユニット２０ａ〜２０ｄで使用されるメッキ液の微量成分を管理するための微量成分管理部３と、メッキ処理ユニット２０ａ〜２０ｄ、洗浄ユニット２２ａ，２２ｂ、および搬送ロボットＴＲが内部に収容されたエンクロージャ３０と、メッキ装置１０全体を制御するシステムコントローラ１５５とを備えている。 （もっと読む）

実用品又は日用品は、装飾の理由から及び腐食の保護のために青銅層で電解被覆される。装飾用青銅層を生じさせるためにこれまで使用されてきた電解液は、シアン化物含有であるか又は有機スルホン酸ベースの浴の場合のように高度に腐食性であるかのいずれかであり、又はシアン化物フリーの二リン酸をベースとする浴の場合のように不十分な長期安定性を有する。エレクトロニクス工業におけるろう付け可能な青銅層の施与に使用される電解液は、たいてい有毒又は非常に有毒なチオ化合物を含有する。本発明を用いて、装飾用青銅層の電解析出のための長期安定で無毒な電解液及び実用品及び工業品上へのそのような装飾用青銅層を施与する相応した方法が提供される。 （もっと読む）

【課題】液漏れが発生したことを素早く検知して対処することができる液漏れ検知装置の提供。
【解決手段】固定保持部材５４とシール部材を取付けた可動保持部材５８との間に基板を介在させ、可動保持部材５８を固定保持部材５４に向けて押圧して基板を保持するようにした基板ホルダにおいて、固定保持部材５４には、可動保持部材５８と固定保持部材５４で保持した基板の裏面側にめっき液が漏れたとき、この漏れためっき液を介して短絡する液漏れ検知用の少なくとも一対の導電体１３０が設けられている。 （もっと読む）

【課題】発泡性を有する循環液の発泡を抑えて循環液の流出を防止するとともに循環流量を確保することが可能な循環設備およびその発泡抑制方法を提供する。
【解決手段】循環設備１０は循環液の貯留タンク１１と、循環液が通過する処理タンク１２と、処理タンク１２から出た循環液を受けるオーバーフロータンク１５と、オーバーフロータンク１５内の循環液を貯蔵タンク１１に戻す液回収配管１６とを備え、液回収配管１６はオーバーフロータンク１５に接続する第１の横抜き管４９、第１の横抜き管４９に接続する第１の縦管５２、第１の縦管５２に接続する第２の横抜き管５５、第２の横抜き管５５に接続されオーバーフロータンク１５内の循環液の液面高さに基づいて開度調整される流量制御弁６０を備えた第２の縦管５７を有し、流量制御弁６０の開度調整により第１の横抜き管４９内を循環液が通過する際に第１の横抜き管４９内の上部に空気通路を形成させる。 （もっと読む）