【課題】本発明は、裏周り量を減少させるために電気絶縁板と帯状体との間隔を狭めても帯状体の傷付きや搬送不良が生じることのない電解処理装置および電解処理方法を提供する。
【解決手段】電解液が貯留され、内部をアルミニウムウェブＷが搬送される電解槽１と、アルミニウムウェブＷの搬送経路Ｐに沿って配設され、直流または交流が印加される電極２と、搬送経路ＰにおけるアルミニウムウェブＷの両側縁部近傍に対応する部分において、搬送経路Ｐを挟んで電極２と相対するように配設されているとともに、搬送経路Ｐに相対する側の表面がアルミニウムウェブＷの表面よりも高い硬度を有し、前記表面における内側の側縁部に搬送経路Ｐの中央部に向かって薄くなる方向の勾配が形成された絶縁板３と、を備えることを特徴とする電解処理装置である。 （もっと読む）

【課題】各種物品の液体処理において、物品の上向凹部に残った処理液を、物品を転動させたり、傾かせたりすることなく、物品外部に自動的に排出し、物品の表面処理を極めて簡便化できる物品の液体処理方法および排液管を提供すること。
【解決手段】下端に開口端部を有する短管部と、下方に開口端部を有する長管部と、該短管部と長管部とを連結している連結管部とからなる逆Ｕ字型排液管を、その短管部を被処理物品の上向凹部に挿入し、上記長管部を物品外部に垂下するように配置し、この状態で上記物品を処理槽内の処理液に浸漬し、物品を浸漬処理後に上記物品を引き上げて、上記凹部に侵入している処理液を上記排液管を通して物品外に排出することを特徴とする物品の処理方法。 （もっと読む）

【課題】広い面積に亘って均一なメッキ被膜が高速で得られる被処理物の表面処理方法及び表面処理装置を提供すること。
【解決手段】本発明の被処理物の表面処理装置１０は、被処理物２０の固定手段を兼ねる通電部材１９_１及び対極２１と、外部接続用の少なくとも一対の配管２２、２３と、を備えた耐圧密閉型の電気メッキ槽１１と、前記一対の配管２２、２３の少なくとも一方に接続され、二酸化炭素及び不活性ガスの少なくとも一方、電気メッキ液及び界面活性剤を含む表面処理流体を超臨界流体ないし亜臨界流体として供給する表面処理流体供給手段１２と、を備えた被処理物の表面処理装置において、少なくとも前記被処理物の固定手段を兼ねる通電部材１９_１はシール部材１８を介して回転運動ないし往復運動可能に前記電気メッキ槽１１に取り付けられていることを特徴とする。対極２１の通電部材１９_２を回転運動ないし往復運動できるようにしてもよい。 （もっと読む）

【課題】生産効率が高く、通電跡が存在せずめっき厚みが均一となる高品質のめっき処理が可能なめっき装置を提供する。
【解決手段】直線状に並べて配置され、めっき液槽７８及び洗浄液槽８０、９５を含む処理槽群１１に、平面視して矩形かつ金属製の角板材１２を通過させて、角板材１２にめっきを行うめっき装置１０であって、処理槽群１１の手前側まで角板材１２を搬送する入側コンベア１３と、入側コンベア１３で搬送された角板材１２の両側をそれぞれ複数の垂下されたロッド１４、１４ａで挟持し、少なくともその一つのロッド１４から通電可能となって、処理槽群１１の各処理槽に順次角板材１２を浸漬又は非浸漬状態で通過させる挟持搬送手段１５と、挟持搬送手段１５によって搬送されて、処理槽群１１を通過した角板材１２を受け取る出側コンベア１６と、これらを保持する架台１７とを有する。 （もっと読む）

【課題】アルマイト加工時の電極間電圧の変化を検出することで、加工品質の良否判定を行うようにした、アルマイト処理装置及びそのアルマイト処理良否判定方法を提供する。
【解決手段】処理液槽２と、この処理液層２内のアルマイト処理用溶液中に浸漬した第１、第２の電極３ａ、３ｂと、これら第１、第２電極３ａ、３ｂのうちの陽極側に取付けた、アルマイト処理すべきワークＷと、これら第１、第２電極３ａ、３ｂに対し、通電用導線Ｌを通じて通電する電源４とを具備しているアルマイト処理装置１において、第１、第２電極３ａ、３ｂに、判定手段５を接続する。この判定手段５は、第１、第２電極３ａ、３ｂ間の電圧変動を検出することで、スパーク発生を監視して、スパーク発生による、表面荒れを検出して加工品質（アルマイト処理の品質）の良否判定を行うようにしたものである。 （もっと読む）

【課題】めっき槽内のめっき液を十分に撹拌することができて、めっき膜の厚さ及び組成を均一にする。
【解決手段】めっき液が貯留されるめっき槽１と、該めっき槽１の上部開口位置で被処理基板Ｓをめっき液に接触させた状態に支持する基板支持部３と、めっき槽１内にめっき液を供給する液供給手段４と、めっき槽１の上部からめっき液を外部に排出する液排出手段５とを具備するめっき装置であって、液供給手段４として、めっき槽１の底部の中心からずれた位置で、かつめっき槽１の内周面に沿って斜め上方に向けてめっき液を噴出させる噴出ノズル１１が設けられている。 （もっと読む）

【課題】表面処理、水洗処理、及び乾燥処理等を、流れ作業のように自動で実施でき、更には、省スペースな設置面積で実施できる、表面処理装置を、提供すること。
【解決手段】投入されたワークを、次段の表面処理機３の処理容器８内に供給する、供給機２と、処理容器８を回転させながら処理容器８内に表面処理液を供給して、ワークに表面処理を施す、表面処理機３と、処理容器８を上下反転し、処理容器８内に下方から水を吹きかけてワークを流し出して、ワークを回収容器４５に捕集する、ワーク回収機４と、ワーク回収機４から回収容器４５を受け取り、回収容器４５内のワークを空気に晒して、ワークを乾燥する、乾燥機５と、処理容器８を、表面処理機３相互間で、及び、表面処理機３とワーク回収機４との間で、搬送する、搬送機６と、を備えており、表面処理機３を１台以上備えている、ことを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】ワークから飛散する処理液が隣接するワークに付着することをなくし、めっき不良の発生を防止するエレベータ式めっき装置におけるワークの汚染防止装置を提供する。
【解決手段】隣接する２個のハンガー５、５の間の処理槽４の上部を定位置とするワークの進行方向に対して垂直な面とした遮蔽板９ａ、９ｂ、９ｃを設け、該遮蔽板９ａ、９ｂ、９ｃをワークの進行方向に対して前後方向と直角方向に移動させる遮蔽板移動機構１２を設け、該遮蔽板移動機構１２は遮蔽板９ａ、９ｂ、９ｃをワークの進行と同期してワークの進行方向に移動させ、次にワークの下降後処理槽４の上部から外れた外側までワークの進行方向と直角方向に移動させ、続いてワークの進行方向と逆方向にワークの進行方向に対する定位置まで移動させ、さらに処理槽４の上部の定位置までワークの進行方向と直角方向に移動させる動作をするものとした。 （もっと読む）

【課題】めっき処理した半導体基板のめっき膜の形成ばらつきを抑えることができる半導体装置の製造方法および製造装置を提供する。
【解決手段】めっき処理槽１内に設置されたアノード電極設置槽２に設けられたフィルタ（Ｃ）８の表面に滞在する気泡を、フィルタ（Ｃ）８を振動させることによって離脱させ、電界めっき膜の形成に大きく影響を及ぼす電界の変化を抑制する。 （もっと読む）

【課題】めっき物を優れた生産性と十分な耐食性とをもって低コストに製造可能なめっき物の製造方法を提供する。
【解決手段】めっき槽２２の内部に、隔膜２４にて陽極室２６とめっき室２８とを画成して、陽極室２６内に、クエン酸三ナトリウム溶液からなる陽極液３６と不溶性陽極３０とを収容する一方、めっき室２８内に、クエン酸三ナトリウムが添加されたスルファミン酸ニッケル溶液からなるめっき浴３８と被めっき物たる金属素材からなる陰極３２とを収容する。そして、それら不溶性陽極３０と陰極３２との間に電流を流して、電気めっきを行うことにより、該陰極３２の表面に、ニッケルめっき層を形成するようにした。 （もっと読む）