所望の特性を強化し追加するために、酸素が実質的にない雰囲気（１４）及び該雰囲気（１４）内の電解浴（１８）を使用するメタライディング方法により、材料（２０）が被覆される。被覆すべき導電性基板（２０）は互いに別個の組成を有する複数の陽極（２６ａ、２６ｂ、２６ｃ）と共に、陰極（２０）として浴（１８）内に浸漬される。可変電源（３０）が、別個に選択された電流密度を各陽極（２６）に供給して、印加される電流密度に比例して各陽極材料（２６ａ、２６ｂ、２６ｃ）で前記基板（２０）を被覆する。 （もっと読む）

【課題】鉛フリーはんだ等の合金めっきを、大規模で複雑な装置を必要とすることなく、かつ、管理コストの増大を招くことなく行うことができ、更には合金めっき特有の置換問題への対策を行うことができる合金めっき方法及び合金めっき装置の提供。
【解決手段】電解めっき法にて被めっき対象に合金をめっきする合金めっき方法において、合金を構成する金属元素の種類と同数の槽を設け、各々の槽内のめっき液中に、各々の金属元素からなる可溶性固体陽極を配置し、いずれか一つの槽内若しくは別に設けた槽内のめっき液中に、前記被めっき対象からなる陰極を配置し、各々の前記可溶性固体陽極と前記陰極とを整流器を介して電気的に接続し、各々の前記可溶性固体陽極に、合金組成に応じた電流を供給する。 （もっと読む）

【課題】たとえ高抵抗の多孔質体を使用することで、電解めっき等の電解処理に伴って、多孔質体が発熱して電解液が上昇したとしても、電解液の液温を所定の値に維持することで、基板面内に均一な電解処理方法を提供する。
【解決手段】アノード５８を内部に収容するとともに、下端開口部を多孔質体５０で閉塞したハウジング４８を有するアノードヘッド４６と、基板保持部３０で保持した基板の被処理面周縁部に接触して該周縁部をシールするシールリング３４及び該周縁部に接触して被処理面に通電するカソード接点３６を有するカソード部３２と、ハウジング４８内に温度が制御された電解液を該電解液が多孔質体５０と接触するように供給して循環させるアノード側液循環ライン７０と、多孔質体５０が基板Ｗと近接した電解処理位置にあるときに該多孔質体５０と基板Ｗとの間に温度が制御された電解液を供給して循環させる基板側液循環ライン７２を有する。 （もっと読む）

【課題】シリンダ内周面の一端側付近に障害物が存在している複雑な形状のシリンダブロックであっても、シール治具のシール精度を確保して、シリンダ内周面を確実にシールできること。
【解決手段】シリンダブロック１におけるシリンダ２のシリンダ内周面３のクランクケース面５側端部をシール治具１３がシールして、シリンダ内周面に処理液を導き、このシリンダ内周面をめっき前処理またはめっき処理するシリンダブロックめっき処理装置であって、シール治具１３が電極１２の先端に設置され、このシール治具のシール部材３３を作動させるエアジョイント１５がシール治具１３と分離して配置され、電極１２及びシール治具が、シリンダ内周面３のヘッド面４側端部からシリンダ２内へ挿入され、エアジョイント１５がシリンダブロック１のクランクケース面５側から挿入されて、シール治具１３と結合可能に構成されたものである。 （もっと読む）

【課題】めっき皮膜の剥離、特にめっき皮膜の端部の剥離を確実に防止できるシリンダブロックのめっき処理方法及び装置を提供すること。
【解決手段】シリンダブロック１におけるシリンダ内周面３の一端（クランクケース面５側）を、シール治具１３を用いてシールして処理液を循環させ、シリンダ内周面３をめっき前処理またはめっき処理し、シール治具１３によるめっき処理時のシール位置を、めっき前処理が施された箇所に設定するものである。 （もっと読む）

【課題】フープ材の幅が広くなっても、内治具からの電解液の流出を最小限に抑えることのできる電解処理装置を提供する。
【解決手段】垂直に保持された状態で運搬される導通可能なフープ材１の表面化学処理装置。電解液４を貯える為のタンク７と、タンク７内の電解液４を処理部署へ噴き上げる為のポンプ８と、処理部署へ噴き上げられた電解液４を一時的に貯える為の圧力室１２と、圧力室１２に隣接しフープ材１を挟んで対向配置された複数の開口１３を有する電極板１０とを備え、前フープ材１と電極板１０、１０間に電圧を印加しながら、開口１３よりフープ材１に対し電解液４を吹き付けることにより、フープ材１の電解処理を行うようになっている。 （もっと読む）

【課題】均一な厚さを有する導体めっきを被めっき物であるＴＡＢテープに確実に施すことを可能としたＴＡＢテープ用めっき装置およびＴＡＢテープの製造方法の提供。
【解決手段】めっき液１を保持するめっき水槽２と、めっき水槽２を上区画２−１と下区画２−２とに区分し、開口７を通してのみ上区画２−１から下区画２−２へのめっき液１の流動を可能とするようにめっき水槽２内に設けられた隔壁３と、開口７を通して上区画２−１から下区画２−２にめっき液１を供給するめっき液供給部５と、開口７を通って下区画２−１へと流動して来ためっき液１がＴＡＢテープ１０の表面に当るように、ＴＡＢテープ１０を下区画内２−２で水平に支持する支持体６と、めっき液１を排出するように下区画２−２に設けられためっき液排出部４とを備えるめっき装置、およびこの装置によりＴＡＢテープをめっきする方法。 （もっと読む）

【課題】被処理物の加工精度のバラツキの影響を受けず、設備の複雑化ないしコストの増大を招かず、常に安定的かつ容易に、電気メッキのメッキ皮膜の厚みを均一化する。
【解決手段】メッキ槽１１内のメッキ液１２に浸漬した電極１３と被処理物１４との間に通電することにより被処理物１４の表面をメッキする電気メッキ方法において、メッキ槽１１内で、電極１３を指向する被処理物１４のメッキ面１４ａを開放しつつ、被処理物１４の周囲を所定の間隙を空けて非導電性の囲繞部材１６で囲み、この囲繞部材１６の電極１３側の先端部を被処理物１４のメッキ面１４ａより電極１３側に突出させ、この状態で、電極１３と被処理物１４との間に通電して電気メッキを行う。 （もっと読む）

【課題】基材上に一定の厚さの均質な電析層を形成する。
【解決手段】電析装置１は、参照電極３２と樹脂フィルム９の導電層との間に電圧を付与して主面９１上に電析層を形成しつつ導電層に流れる電流を検出する電源部３と、主面９１における電析対象部を分割した複数の分割領域に向けて電析液を吐出する複数の吐出部４とを備える。電析層の形成の際に、検出電流の値が異常となる場合に、吐出流量を正常流量から変更する吐出部を複数の吐出部４において順に切り替えつつ検出電流の変化を監視することにより、対応する分割領域における電析層の成長が正常処理時と相違する吐出部４が特定吐出部として特定される。特定吐出部４からの電析液の吐出流量を正常流量から変更することにより、特定吐出部４に対応する分割領域における電析層の成長を正常処理時におけるものに近似させることができ、樹脂フィルム９上に一定の厚さの均質な電析層を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】シリンダボアを形成するシリンダ内周面の全体に亘ってめっき皮膜を良好に形成できること。
【解決手段】シリンダヘッド１０４一体型のシリンダブロック１００におけるシリンダボア１０３内に筒状電極１２が配置可能に設けられ、シリンダボアを形成するシリンダ内周面１０６と筒状電極の外周面２３との隙間（外側処理液流路２２）、及び筒状電極の内部（内側処理液流路２１）に処理液を導き、筒状電極及びシリンダブロックに通電することで、シリンダ内周面にめっき前処理またはめっき処理を施すシリンダブロックのめっき処理装置１０において、シリンダヘッドには、シリンダボアに連通して燃焼室１０５が形成され、この燃焼室をシールする第１シール部材１１が筒状電極１２に取り付けられて、燃焼室内に配置可能に構成されたものである。 （もっと読む）