【課題】複数のシリンダのシリンダ内周面に均一なめっき前処理を施すことができること。
【解決手段】複数のシリンダを備える多気筒シリンダブロックの各シリンダにおけるシリンダ内周面の一端側をシールして、このシリンダ内周面に処理液を導き、このシリンダ内周面に対向配置された電極の作用で、このシリンダ内周面をめっき前処理する多気筒シリンダブロックのめっき前処理装置（電解エッチング処理装置７２、陽極酸化処理装置７３）であって、シリンダブロック及び電極へ電気を供給する電源装置９２、９３と、シリンダ内周面と電極間へ処理液を送液する送液ポンプを８４、８７との少なくとも一方が、シリンダ毎に設置されたものである。 （もっと読む）

【課題】電源設備コスト及び電気的エネルギーランニングコストの削減を目的に、通電ロールと陽極電極の距離を短縮しても、めっき速度を維持することが可能な横型電気めっき装置を提供する。
【解決手段】導電性帯板１８の前後に間隔を有してそれぞれ配置される上ロール１６、１７及び下ロール１９、２０と、導電性帯板１８の表面に隙間を有して配置される陽極電極１４、１５と、めっき槽１１とを有し、導電性帯板１８と陽極電極１４、１５との間にめっき液を供給して電気めっきを行う横型電気めっき装置１０において、上ロール１６、１７及び下ロール１９、２０にそれぞれ隙間を有して対峙する陽極電極１４、１５及び陽極電極１４、１５に重なるめっき槽１１の端面を、水平面に対して鋭角に傾斜させた。 （もっと読む）

【課題】長期間、密封性を高く維持し、駆動機構を簡素化し、かつ、処理液による駆動機構の機能低下を防止できる処理液槽のゲート装置を提供する。
【解決手段】板状ワークが通過可能なワーク通過口８８を開閉する可動ゲート部材９３と、可動ゲート部材９３を、ワーク通過口８８を閉じる閉位置とワーク通過口８８を開く開位置との間で位置変更可能に移動させる駆動機構９４とを備えている。駆動機構９４は、可動ゲート部材９３と一体的に移動するスライド部９３ａと、該スライド部９３ａの移動方向の両側に配置された膨張収縮可能な一対のチューブ部材１０１，１０２とを備えている。一方のチューブ部材１０１を膨張させると共に他方のチューブ部材１０２を収縮させることにより、可動ゲート部材９３を開位置へ移動させ、一方のチューブ部材１０１を収縮させると共に他方のチューブ部材１０２を膨張させることにより、可動ゲート部材９３を閉位置へ移動させる。 （もっと読む）

【課題】複数の被めっき物を同一治具で行うめっき処理において、めっき膜厚を均一に形成できる電気めっき方法を提供する。
【解決手段】めっき治具が複数の被めっき物を同一面内に固定保持し、陰極である被めっき物と陽極の間に配置される遮蔽板に前記被めっき物のそれぞれに対応する位置にそれぞれ貫通開口が設けられており、前記被めっき物が多角形であり、前記遮蔽板の貫通開口の形状が貫通開口の形状が多角形の各角が曲線で面取りされてなる形状であって、テスト電気めっきにおける所定位置のめっき厚と、該所定位置と被めっき物中心との距離との関係から１つの被めっき物とそれに対応する貫通開口の正規の位置関係を決定し、決定された正規の位置で電気めっきを行うことを特徴とする電気めっき方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、基板表面上に高速で硬質クロム層の沈着をするための方法に関する。
【解決手段】本発明に係る方法は、被覆される基板表面が、周囲圧力に対して減圧下でガルバニー電気沈着に適するクロム含有電解質と接触され、クロム層の基板表面上への沈着中に、基板表面と電解質の相対的運動が行なわれる。 （もっと読む）

【課題】微小部分に対してめっき処理を行う場合であっても、耐久性に優れ、精度良くかつ効率良く行なうめっき処理を行うめっき装置を提供すること。
【解決手段】本発明のめっき装置１０は、電極１２と、電極１２の外側に巻かれた吸湿性繊維層の第１の層１６ａと多数の含浸穴１７が表面に設けられた第２の層１６ｂと、めっき液Ｍを貯液するめっき液貯液部１８と、めっき液貯液部１８に貯液されためっき液Ｍが第２の接触面Ｓ２〜Ｓ４を介して吸収され第１の接触面Ｓ１から含浸穴１７に供給されるめっき液供給部２０とを備える。そして電極上に、ワークの対象箇所を精度良く配置する為のワーク位置決め部によりワークＷを精度良く配置した後、ワークＷに陰極がかけられ、電極１２には陽極がかけられた状態で、駆動部１４によって電極１２が回転されながら、含浸穴１７に含浸されためっき液Ｍで、ワークＷの対象箇所Ｔにめっきされる。 （もっと読む）

【課題】めっき槽内のめっき液を十分に撹拌することができて、めっき膜の厚さ及び組成を均一にする。
【解決手段】めっき液が貯留されるめっき槽１と、該めっき槽１の上部開口位置で被処理基板Ｓをめっき液に接触させた状態に支持する基板支持部３と、めっき槽１内にめっき液を供給する液供給手段４と、めっき槽１の上部からめっき液を外部に排出する液排出手段５とを具備するめっき装置であって、液供給手段４として、めっき槽１の底部から上方に向けてめっき液を噴出させる噴出ノズル１１が設けられ、噴出ノズル１１の噴出方向前方に攪拌翼２１が設けられている。 （もっと読む）

【課題】高精度の電解メッキが可能であり、電解メッキ後の電解メッキ液から銅イオンを回収して再利用し生産コストを低減する。
【解決手段】硫酸銅水溶液製造装置２０と、添加剤供給装置３０と、電解メッキ装置４０と、電解メッキ装置４０から排出される電解メッキ液から銅イオンを回収する銅イオン回収装置１０と、を備え、銅イオン回収装置１０は、イオン発生槽１１と、イオン発生槽１１を陽極室１２と中間室１３とに区画し水素イオン及び銅イオンを透過可能な第１隔膜１４と、イオン発生槽１１を中間室１３と陰極室１５とに区画し水素イオンを透過可能な第２隔膜１６と、少なくとも陽極室１２に設けられる陽極１８ａと、陰極室１５に設けられる陰極１７と、を有し、送出路１３ａが、少なくとも硫酸銅水溶液製造装置２０、添加剤供給装置３０又は電解メッキ装置４０のいずれか１つ以上に銅イオンを送出するよう構成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】多孔質体を使用することで、ターミナルエフェクトの影響を低減させ、しかもより短時間で基板表面全体を電解液に接触させることができるようにする。
【解決手段】アノード５０を内部に収容し下端開口部を多孔質体４４で閉塞したハウジング４２を有するアノードヘッド４０と、基板保持部３０で保持した基板Ｗの被処理面周縁部に接触して該周縁部をシールするシールリング３４及び該周縁部に接触して被処理面に通電するカソード接点３６を有するカソード部３２と、アノードヘッド４０を所定の位置まで下降させた時に、基板保持部３０で保持した基板Ｗと多孔質体４４で挟まれた領域の周囲を密閉して周囲が密閉された処理室６２を形成する密閉手段６０と、処理室６０内に電解液を供給する電解液供給装置６６と、処理室６２内を減圧する減圧装置７４を有する。 （もっと読む）

【課題】微細な開口部３Ａを有する基板１の開口部３Ａの気泡を十分に除去することのできる脱泡装置１０等を提供する。
【解決手段】開口部３Ａを有するめっきマスク膜３Ｂによりパターニングされた基板１を浸漬する処理溶液２１を蓄える溶液槽２４と、前記溶液槽２４に浸漬された前記基板１の表面に対し前記処理溶液２１を吹き付けるシャワーヘッド群１３Ｂと、前記シャワーヘッド群１３Ｂと前記基板１とを相対的に移動するシャワーヘッド移動部１４と、を有する。 （もっと読む）