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国際特許分類[C25D21/10]の内容

国際特許分類[C25D21/10]に分類される特許

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【課題】半導体ウェーハなどに金属フィルムをメッキする場合、メッキ電流の拡散や、流体分布の不均一によって、不均一な電着を生じる問題を解決するために、電界分布や流体フローを制御する方法および装置を提供する。
【解決手段】ワークピースを保持するワークピースホルダの隣に、不均一な振動をしながらワークピースの表面に対して平行に移動し、流体を攪拌する部材204’を設置する。さらに、ワークピースの表面に向かう電界の一部を遮断する非導電材料からなるプレートを配置する。 (もっと読む)


【課題】半導体ウエハにめっきを施す装置、特に、半導体ウエハの被めっき基板にバンプを形成するためのめっき装置に関し、めっき液が効率良く排出され、逆流を防ぐことによって、めっきの均一性を向上させる半導体ウエハのめっき装置を提供する。
【解決手段】上部にウエハ搭載部を有するめっきカップと、前記ウエハ搭載部の上部に設けたウエハ押さえと、前記ウエハ押さえと対向な位置にあり前記ウエハ押さえ側にノズルが突き出して配置されたノズル板と、めっき液を貯留するめっきタンクと、前記めっきカップと前記めっきタンクとの間に設けためっき液循環手段と、前記ウエハ搭載部と前記ノズル板との間に配置された多孔質吸水材とを具備し、前記めっき液は、多孔質吸水材を通過して排出される構造とした。 (もっと読む)


【課題】任意形状の導電性基板から成る作用極の非平面形状の表面に、酸化金属とテンプレート化合物から成る複合膜を、電解装置を用いて略均一に成膜すること。
【解決手段】反応槽4内の電解液6中に浸される作用極1は、フッ素をドープすることによって導電性が与えられた透光性のITOガラス基板から形成されている。この作用極1は、ITOガラス基板を屈曲させて形成されており、その屈曲部の最小曲率半径は約50mmとした。対極2は亜鉛板から成り、また、参照極3は飽和カロメル電極とした。恒温槽5の中に略水平に配置された正方形の超音波振動子7は、厚さ約2mmのアルミ合金からできており、その面積は、250mm×250mmである。この超音波振動子7の裏面には多数の圧電素子が配列されており、それらの圧電素子には合計400Wの電力が給電される。これらの圧電素子の出力周波数は27kHzである。 (もっと読む)


【課題】電解めっき層の膜厚を均一にできる電解めっき方法と、電解めっきラインを提供する
【解決手段】保持具に被めっき物を保持させる工程と、被めっき物をめっき液に浸漬する工程を行う。また、保持具を介して被めっき物に負電圧を印加し、めっき液内に配置された正電極に正電圧を印加するとともに、保持具を被めっき物とともに所定方向に回転しながら被めっき物の表面に電解めっき層を形成する工程を行う。回転しながら電解めっき処理を施すことにより、均一な膜厚でめっき層を形成することができる。 (もっと読む)


【課題】 連続的に効率よく均一なめっき可能なめっき治具等の電解用治具を提供すること。
【解決手段】 電解用回転治具10aは、2次元的に区画形成された被処理製品を収容する収容部を複数備えた導電材料から構成される通電フレーム1aと、前記通電フレームの両側を夫々覆う平面を備えた多孔質の絶縁材料からなる蓋部材2aと、前記蓋部材の平面に直交するように設けられた導電材料からなる回転軸5とを備えた治具である。前記回転軸5と前記通電フレーム2aとは電気接続されるとともに、前記治具10aは前記回転軸5の周りに回転可能に設けられている。 (もっと読む)


本発明は、半導体ウェーハの表面に設けられたトレンチやビヤホール、レジスト開口部にめっき膜を形成したり、半導体ウェーハの表面にパッケージの電極等と電気的に接続するバンプを形成したりするのに使用されるめっき装置に関する。めっき装置(170)は、めっき液(188)を保持するめっき槽(186)と、被めっき材を保持して該被めっき材の被めっき面をめっき槽(186)内のめっき液(188)に接触させるホルダ(160)と、めっき槽の内部に配置され、ホルダで保持した被めっき材の被めっき面に向けてめっき液を噴射してめっき槽(186)内にめっき液(188)を供給する複数のめっき液噴射ノズル(222)を有するリング状のノズル配管(220)を備えている。
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【課題】 比較的簡単な構成で、例えアスペクト比が高く、深さが深いビアホール等にあっても、内部にボイドを発生させることなく、金属膜を確実に埋込むことができるようにする。
【解決手段】 めっき液188を保持するめっき槽186と、基板Wを保持して該基板に通電し、基板の被めっき面をめっき槽内のめっき液に接触させるホルダ160と、めっき槽内のめっき液に浸漬させて配置されるアノード214と、アノードとホルダで保持した基板との間に配置され、めっき槽内のめっき液を攪拌するめっき液攪拌部220,224と、基板とアノードとの間に電圧を周期的に印加するめっき電源230を有し、基板とアノードとの間に電圧が印加されていない時にめっき液攪拌部によるめっき液の攪拌を行い、基板とアノードとの間に電圧が印加されている時にめっき液攪拌部によるめっき液の攪拌を停止する。 (もっと読む)


【課題】金属製の細孔または細管の内壁部分を、高耐摩耗性、高耐食性、高耐熱性等の優れた特性を有する金属もしくは合金を場所的に制御された厚さで被覆、並びに成形することを可能にする。
【解決手段】金属製の細孔または細管の内壁を陰極として、この管状空洞内に細身の棒状陽電極を挿入し、前記棒状陽電極の一部表面上に前記内壁と電気的に接触することを防止する絶縁体を固定配置し、前記棒状陽電極と陰極との間隙に管軸方向に沿って電解液を流動させて供給しながら高耐摩耗性、高耐食性、高耐熱性等の優れた特性を有する金属もしくは合金を電解析出させる。電解析出中は前記棒状陽電極全体に管軸方向に往復運動または管軸を中心にした回転運動の少なくとも一つをさせつつ、前記金属もしくは合金を場所的に制御された厚さで電解析出させて、前記細孔または細管の内壁面を選択的に被覆するとともに成形する。 (もっと読む)


【課題】均一なめっき膜を形成することができる電気めっき試験器を提供する。
【解決手段】めっき液が注入されるめっき水槽11と、めっき水槽11内に設置される陽極8と、めっき水槽11内に陽極8に平行に設置される被めっき物である陰極1と、陽極8と陰極1との間に電圧を印加させる直流電源とを備え、めっき水槽11の底面に設けられためっき液の排出口13と、被めっき物の表面近傍を攪拌するめっき水槽11の底面に設けられためっき液の噴出孔と、排出口13からめっき液を吸い込み噴出孔からめっき液を噴出するように接続されためっき液の循環ポンプとを有する電気めっき試験器1を構成した。 (もっと読む)


【課題】本発明は、従来の錫−亜鉛合金電気めっきでは困難であった短時間での処理を可能にする電気めっき方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、めっき液温度:30〜90℃、めっき液の攪拌速度:5〜300m/min及び陰極電流密度:5〜200A/dm2の条件下で錫−亜鉛合金電気めっきを行う方法を提供する。好ましくは、錫−亜鉛合金めっき浴中の2価の錫イオン濃度は1〜100g/Lであり、亜鉛イオン濃度は0.2〜80g/Lである。 (もっと読む)


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