【課題】
表面の異物や傷欠陥だけでなく基板の局所的な厚さの変化による欠陥まで検出することを可能にする。
【解決手段】
ガラス基板検査装置を、ガラス基板を透過した光を検出する第１の欠陥検出光学系と、ガラス基板を透過した光によりガラス基板の表面又は内部で発生した散乱光を検出する第２の欠陥検出光学系と、第１の検出光学系で検出した信号と第２の検出光学系で検出した信号とを処理する信号処理手段とを備えて構成し、信号処理手段は、第１の検出光学系手段からの検出信号を入力して処理することによりガラス基板の局所的な厚さの変化に起因する欠陥を検出し、第２の検出光学系手段からの検出信号を入力して処理することによりガラス基板の欠陥を検出するように構成した。 （もっと読む）

【課題】車両が走行しようとする路面を分析し、車両の安全性および制御を向上させる。
【解決手段】システム１０は、シリコン網膜１１のようなＡＥＲカメラを用いる。このシリコン網膜１１を用いて、走行しようとする路面をモニタリングする。そして、処理ユニット１２が、そのシリコン網膜によって提供された信号に基づいて、路面を分析する。路面分析方法は、上記のシステム１０によって実行され、従来の分析方法を凌駕するものである。 （もっと読む）

【課題】測定対象物の表面の平面度を精度良く求めることができる平面度測定方法を提供する。
【解決手段】平面度測定方法は、レーザ変位計を含むレーザ測定装置が、レーザ光を走査しながら、複数の位置における前記測定対象物の表面と測定基準面とする液面との間の、前記レーザ光の照射方向における距離の情報を測定して取り込む。この後、前記レーザ変位計が測定した複数の位置における前記距離の情報と、前記レーザ変位計が走査した前記複数の位置の位置情報をコンピュータが取り込む。前記コンピュータは、測定した前記位置それぞれにおける前記位置情報と前記距離の情報を座標として表した測定データを、座標空間上の点で表したとき、前記点すべてが２つの平行平面の間に挟まれ、かつ前記２つの平行平面の間の距離が最小となる目標平行平面を、前記２つの平行平面の傾きを変えながら探索することにより、前記平面度を算出する。 （もっと読む）

【課題】溶接ビード欠陥の検出精度を向上できる溶接ビード欠陥検出装置及び溶接ビード欠陥検出方法を提供する。
【解決手段】溶接ビードの欠陥を検出する溶接ビード欠陥検出装置１０であって、溶接モデルＢＬと平滑モデルＳＬとの比較、あるいは、平滑モデルＳＬと折線モデルＶＬとの比較、に基づいて、溶接モデルＢＬを、異常点と正常点とに分別する点群データ分別手段２００と、異常点と、隣接する正常点間の距離と、に基づいて、溶接モデルＢＬを、欠落領域ＧＧと非欠落領域ＧＮとに分別する欠落領域分別手段３００と、欠落領域ＧＧまたは非欠落領域ＧＮを順次併合して併合欠落領域ＧＧＧとする欠落領域併合手段４００と、を具備する。 （もっと読む）

【課題】製造ラインを連続して搬送される開口を塞ぐシール部を有する被検査物に対して、特殊領域特定のために準備工程を必要とせず、検査時間の大幅な短縮が可能な、効率の良い検査性能に優れた検査装置を提供する。
【解決手段】容器を搬送する手段と、第一の光学手段と、第一の光学手段の容器搬送方向の下流に設けられた第二光学手段と、第一の特殊領域特定手段と、第一の特殊領域に基づいてシール部の液漏れ欠陥を検出する第一の検査手段と、前記エッジ座標と、第一の撮像手段と第二の撮像手段の取り付け角度の角度差と、第一の撮像手段と第二の撮像手段から得られた撮像画像における検査領域の中心座標から、第二の撮像手段によって得られた画像の第二の特殊領域を特定する第二の特殊領域特定手段と、第二の撮像手段によって撮像した画像の第二の特殊領域に基づいて容器の異物欠陥を検出する第二の検査手段と、を備えたことを特徴とする欠陥検査装置。 （もっと読む）

【課題】清掃用シート等の衛生物品に係るウエブ部材の起毛状態を検査する検査装置などを提供する。
【解決手段】衛生物品に係るウエブ部材の起毛状態の検査装置である。前記ウエブ部材は、少なくとも片面に、該片面から剥がれて起毛可能な部分を所定の配置パターンで離散的に有し、前記起毛可能な部分が剥がれて起毛した際には前記片面上に新たな露出部分を生じる。前記検査装置は、前記片面を撮像して前記片面の平面画像のデータを平面画像データとして生成する撮像処理部と、前記平面画像データに基づいて二値化画像を生成する際に、前記二値化画像において二値のうちの一方の値によって特定される画像に、前記平面画像のうちで前記新たな露出部分が撮像されている領域が含まれるように二値化処理を行う二値化処理部と、前記画像の大きさを示す値に基づいて、前記起毛状態の良否判定を行う良否判定処理部と、を有する。 （もっと読む）

【課題】パターンのムラ欠陥の生じない描画条件を導出し、製品の歩留まりを向上する。
【解決手段】基板上に描画するパターンのムラ欠陥が発生しない描画条件を導出する方法であって、基板上に形成するパターンを生成するパターン情報生成工程Ｓ１と、パターンに対して、複数の描画項目の組み合わせによる、２通り以上の描画条件を設定する描画条件設定工程Ｓ２と、前記生成されたパターンを抜き取り、補助基板上に、前記各描画条件のもとに、矩形領域をなす補助パターンを形成する補助パターン描画工程Ｓ３と、補助基板に対して照明光を入射し、補助パターンから生じる回折光を光電変換素子にて画像として取得し、ムラ欠陥に関するムラ評価値とムラ発生周期とを求めことにより、複数の描画条件の中からムラ欠陥が生じない描画条件を導出する描画条件判定工程Ｓ４とを含むパターンの描画条件導出方法である。 （もっと読む）

【課題】ブランクマスクの欠陥等に起因する測定値の誤り発生を招くこと無しに、ブランクマスクの所望領域の表面粗さを迅速に測定する。
【解決手段】露光用マスクを作製するためのブランクマスクの表面粗さを測定するマスク表面粗さ測定方法であって、ブランクマスクに測定光を入射させ、該マスクによる暗視野像を取得する光学系を用い、該マスク上の任意領域の暗視野像を取得する第１のステップと、任意領域内の注目位置における暗視野像の像強度が予め定めておいたしきい値未満の場合に、該注目位置の周辺領域の像強度と予め定めておいた関係式とを用いて表面粗さを求める第２のステップと、任意領域の全ての点において第２のステップを繰り返し、得られた表面粗さを平均化する第３のステップと、第３のステップで得られた平均値を、任意領域の表面粗さとして出力する第４のステップと、を含む。 （もっと読む）

【課題】散乱光の空間分布がマイクロラフネスの差異に応じて、前方／後方／側方と色々な方向に変化することについて配慮し、特にエピタキシャル成長ウェハに出現するステップ・テラス構造は散乱光分布に異方性が生じることに配慮した表面形状計測装置を提供する。
【解決手段】試料１表面に光を照明し、光軸の方向が互いに異なる複数の検出光学系５１，５２により散乱光の空間分布を検出し、試料１表面の空間周波数スペクトルを算出する。 （もっと読む）

【課題】バーコードの外観不良を簡易に検査できるバーコード外観検査システム等を提供する。
【解決手段】バーコード外観検査システムの画像処理装置の制御部は、カメラで撮影されたバーコード６の撮影画像データを取得し、バーコード６のバー配列方向の両端部のエッジ６５の位置と、バー配列方向の両端部の近傍におけるバー長さ方向の両端部のエッジ６７ａ、６７ｂの位置を算出する。続いて、これらエッジ６５、６７ａ、６７ｂの位置に基づきバーコード６の中心座標等を演算して求め、これに基づきバーコード６の欠陥検出領域を生成する。次に、この欠陥検出領域において、バー長さ方向の微分フィルタ演算と演算結果の２値化を行い、バーコード６の汚れ６１、抜け６３等の欠陥領域を検出する。いずれかの欠陥領域の面積が所定値以上の場合に、画像処理装置の制御部は、バーコード６に外観不良があると判定する。 （もっと読む）