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国際特許分類[G01B11/30]の内容

国際特許分類[G01B11/30]に分類される特許

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【課題】記録紙の種類を詳細に判別することのできる小型の光学センサを低コストで提供する。
【解決手段】第1の偏光方向の直線偏光の光を、記録媒体に照射する光照射系と、前記光照射系より照射された光のうち、前記記録媒体において正反射された光を検出する正反射光検出系と、前記光照射系より照射された光のうち、前記記録媒体において拡散反射された光を検出する前記第1の偏光方向に直交する第2の偏光方向の光を透過する光学素子を備えた拡散反射光検出系と、を有する測定系を複数有していることを特徴とする光学センサを提供することにより上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】欠陥箇所に直接マーキングすることなく、検査官が長尺シート材における欠陥箇所をすみやかに特定することのできる欠陥位置情報生成装置等を提供する。
【解決手段】原点Mと、当該原点を識別するための記号との組合せが、長手方向に複数印字された長尺シート材Sを撮影した撮影画像において、原点M及び欠陥Dの位置を特定し、特定した原点Mのうち欠陥Dに1番目又は2番目に近い原点Mを基準として当該欠陥Dの位置を示す欠陥座標を算出する。基準となった原点Mと組合せをなす記号を示す記号情報と、算出した欠陥座標を示す欠陥座標情報とを含む欠陥位置情報を生成する。 (もっと読む)


【課題】表面に微細な凹凸形状等の地合パターンを有するシート材の欠陥を、迅速かつ再現性良く検査する方法を提供する。
【解決手段】焦点調整用シート材を欠陥検査位置に載置し、カメラの焦点を合わせる第1のフォーカス工程、前記焦点調整用シート材から当該カメラの焦点をずらすように調整する第1のデフォーカス工程、第1のフォーカス工程における焦点位置Aから第1のデフォーカス工程における焦点位置Bまでの距離dを計測及び記録する工程、被検査シート材を第1のフォーカス工程と同一又は異なる欠陥検査位置に載置し、その地合パターンにカメラの焦点を合わせる第2のフォーカス工程、及び当該カメラの焦点を、第2のフォーカス工程における焦点位置A’から、前記距離d分ずらした焦点位置B’に合わせる第2のデフォーカス工程、及び焦点位置B’に焦点を合わせたカメラで被検査シート材の欠陥を検査する工程、を含むことを特徴とする欠陥検査方法。 (もっと読む)


【課題】照射部の発光ムラがムラ検査用画像に与える影響を抑制する。
【解決手段】ムラ検査用画像取得装置11は、基板9が載置されるステージ2、基板9の検査表面91に向けて照明光を照射する照射部3、検査表面91にて反射した照明光を受光する撮像部41を備える。撮像部41は、ラインセンサ411および撮像光学系412を備える。ラインセンサ411の各受光素子には、ムラ検査に必要な強度の光が入射する。撮像光学系412は、物体側において非テレセントリックであり、ラインセンサ411の位置と光学的に共役な合焦位置は、検査表面91から撮像部41側にずれて位置する。ムラ検査用画像取得装置11では、照射部3と検査表面91との間の光軸J1に沿う方向における距離が100mm以上である。これにより、照射部3の発光ムラがムラ検査用画像に与える影響を抑制することができる。 (もっと読む)


【課題】簡単な構成で容易に平坦度を検出可能な平坦度検出装置、および平坦度検出方法を提供する。
【解決手段】平坦度検出装置1は、三次元測定装置2から計測データを取得する計測データ取得手段141と、検査対象計測面上の第一計測点を取得する第一計測点取得手段143と、第一計測点から検査対象計測面の幾何形状式を算出する第一形状算出手段144と、計測データから隣接計測面に属する第二計測点を取得する第二計測点取得手段145と、第二計測点から隣接計測面の幾何形状式を算出する第二形状算出手段146と、検査対象計測面および隣接計測面の交線または交点を算出する外周縁算出手段147と、交線または交点に基づいて補正検査対象計測面の幾何形状式を算出する補正計測面算出手段148と、補正検査対象計測面の幾何形状式に基づいて検査対象面の平坦度を検出する平坦度検出手段149と、を具備した。 (もっと読む)


【課題】ウエハの特性を決定するための方法とシステムを提供する。
【解決手段】検査システム16を用い、ウエハからの光に対応する出力を生成することを含む。出力は、ウエハ上の欠陥に対応する第一出力と、欠陥に対応しない第二出力とを含む。また本方法は、第二出力を用い、ウエハの特性を決定することを含む。一つのシステム16は、ウエハに光を当て、ウエハからの光に対応する出力を生成するように設定された検査サブシステムを備える。出力は、欠陥に対応する第一出力と、欠陥に対応しない第二出力を含む。また本システムは、第二出力を用い、ウエハの特性を決定するように設定されたプロセッサを備える。 (もっと読む)


【課題】コスト削減を図りつつ、被検査基板を正しい搬送姿勢のもとで汚さずに搬送することができるほか、耐久性にも富む基板外観検査装置における基板幅寄せ搬送機構の提供。
【解決手段】被検査基板51を搬送する一対の無端搬送ベルト13,14と、基板搬送面19を間に挟んで配置される基準側基板ガイド23と可動側基板ガイド33とを備え、基準側基板ガイド23の内側面24には、前上がりのガイド斜面26を設け、可動側基板ガイド33の前部内側面34aには、その面高が後部内側面34bの面高より低い段差面36を設け、該段差面36には、前傾させて縦列配置した複数個の薄板ばね材38からなる弾性当接部37を配設し、該弾性当接部37を介して基準側基板ガイド側に幅寄せしながら被検査基板51の向きと位置とを正して検査カメラ42方向への送り込みを可能とした。 (もっと読む)


【課題】高温の被計測体に発生する酸化スケール等の表面異常を精度良く識別することができる被計測体の表面異常識別装置を提供する。
【解決手段】高温の被計測体5から得られる輻射光を輻射光撮像部18により、被計測体5が一定角度回転される毎に撮像して得た複数の輻射光画像を合成して、合成輻射光画像を作成する画像合成部10と、前記合成輻射光画像から所定領域を抽出して、撮像中の被計測体5の温度低下に基づく前記所定領域の画像の輝度変化を補正する第1輝度補正部12と、前記補正した所定領域の画像から所定暗部を検出し、該所定領域の画像の暗部を前記被計測体の表面異常と判定する異常判定部14と、を備える被計測体の表面異常識別装置1を用いる。 (もっと読む)


【課題】パターンを形成したウェハの検査において、表面の内部もしくは表面上の異常の有無を判定できる表面検査法を提供する。
【解決手段】サンプル表面20aからの散乱光は表面20aに対して垂直な線に対して略対称の光を集束する集束器38,52によって集束される。集束光は、異なる方位角で経路へと導かれ、集束した散乱光の線に対する相対的方位角位置に関する情報が保存される。集束光は、垂直な線に対して異なる方位角で散乱した光線を表すそれぞれの信号に変換される。異常の有無および/または特徴は、この信号から判定される。あるいは、集束器38,52によって集束された光線は、予測されるパターン散乱の角度差に対応する角度の環状ギャップを有する空間フィルタによって濾波され、狭角および広角集束経路から得た信号は比較され、マイクロスクラッチと粒子との間を識別する。 (もっと読む)


【課題】被検査物が複雑な形状である場合でも、精度よく欠陥を検出することができる欠陥検出方法及び欠陥検出装置を提供する。
【解決手段】欠陥検出方法は、撮像工程により被検査物を撮像し、エッジ検出工程により得られた画像データに基づいて、構造パターンの外周形状であるエッジを検出し、ライン検出工程により、エッジの最外周画素の集合であるラインを検出し、構造ライン取得工程によりエッジが境界となる複数の構造パターンに対してそれぞれに接するラインである構造ラインを取得し、エッジ幅取得工程により2つの異なる構造ライン間の距離をエッジ幅として取得し、平均エッジ幅算出工程により同じ構造ライン上の任意の2点を始点及び終点として設定し、始点から終点までの平均エッジ幅を取得する。そして、欠陥検出工程により、平均エッジ幅とエッジ幅とを比較し欠陥を検出する。 (もっと読む)


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